专用集成电路设计-复习zlw.ppt
《专用集成电路设计-复习zlw.ppt》由会员分享,可在线阅读,更多相关《专用集成电路设计-复习zlw.ppt(54页珍藏版)》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。
1、 一个有关集成电路发展趋势的著名预言。一个有关集成电路发展趋势的著名预言。1960年,年,美国美国Intel公司创始人之一博士公司创始人之一博士预言集成电路的发展遵循指数规律。预言集成电路的发展遵循指数规律。1965年,在电子学杂志发表年,在电子学杂志发表第一章第一章 概论概论v 、摩尔定律、摩尔定律“摩尔定律摩尔定律”可以简述为:可以简述为:每每18个月,同一面积芯片个月,同一面积芯片上可以集成的晶体管数量将翻一番,而价格下降一半。上可以集成的晶体管数量将翻一番,而价格下降一半。Gordon Gordon 博士博士博士博士-1965-1965年年年年10/27/20221v 、集成电路发展的
2、特点、集成电路发展的特点特征尺寸越来越小特征尺寸越来越小;芯片尺寸越来越大芯片尺寸越来越大;单片上的晶体管数越来越多单片上的晶体管数越来越多;时钟速度越来越快时钟速度越来越快;电源电压越来越低电源电压越来越低();();布线层数越来越多布线层数越来越多;输入输入/输出输出(I/O)引脚越来越多。引脚越来越多。10/27/20222设计周期短、正确率高;设计周期短、正确率高;硅片面积小、硅片面积小、特征尺寸小;特征尺寸小;可测性好;可测性好;速度快;速度快;低功耗(低电压);低功耗(低电压);低成本。低成本。第一章第一章 概论概论1.2 专用集成电路设计要求专用集成电路设计要求10/27/202
3、23芯芯片片的的工工作作速速度度用用芯芯片片的的最最大大延延迟迟时时间间表表示示,延延迟迟时时间间Tpd表表示示为:为:(1-1)式中:式中:T pdo 晶体管本征延迟时间;晶体管本征延迟时间;UDD 最大电源电压;最大电源电压;Cg 扇出栅电容扇出栅电容(负载电容负载电容);Cw 内连线电容;内连线电容;Ip 晶体管峰值电流。晶体管峰值电流。、关于、关于“速度速度”第一章第一章 概论概论10/27/20224、关于关于“功耗功耗”芯片的功耗与电压、芯片的功耗与电压、电流大小有关,电流大小有关,与器件类与器件类型、型、电路型式也关系密切。电路型式也关系密切。就就MOS集成电路而言,集成电路而言
4、,有有NMOS电路、电路、PMOS电路和电路和CMOS电路之分。电路之分。第一章第一章 概论概论10/27/202251、有比电路、有比电路(a)、NMOS反相器反相器这种电路称之为这种电路称之为“有比电路有比电路”。有比电路有静态电流流过。有比电路有静态电流流过。第一章第一章 概论概论Ui=0,Uo=UDD;Ui=1,Uo是分压的结果。是分压的结果。10/27/20226第一章第一章 概论概论(b)、CMOS反相器反相器 一管导通必有另一管截止,一管导通必有另一管截止,输出电平不分输出电平不分压压(UOH=UDD)的电路称为的电路称为“无比电路无比电路”。Ui=0,Uo=UDD;Ui=1,U
5、o=0。2、无比电路、无比电路10/27/20227(1)、静态功耗、静态功耗:指电路停留在一种状态时的功耗。:指电路停留在一种状态时的功耗。有比电路的静态功耗为:有比电路的静态功耗为:PdQ=PUDD (1-2)无比电路的静态功耗为:无比电路的静态功耗为:PdQ=0 (1-3)第一章第一章 概论概论3、功耗分类、功耗分类10/27/20228(2)、动动态态功功耗耗:动动态态功功耗耗指指电电路路在在两两种种状状态态(“0”(“0”和和“1”)“1”)转换时对电路电容充放电所消耗的功率。转换时对电路电容充放电所消耗的功率。无比电路的动态功耗为:无比电路的动态功耗为:Pd=f(Cg+Cw+Co)
6、U2DD (1-4)式中:式中:Co 晶体管输出电容;晶体管输出电容;f 信号频率信号频率第一章第一章 概论概论工作频率越高、各种电容越大、电源电压越高,功耗越大。工作频率越高、各种电容越大、电源电压越高,功耗越大。功耗和电源电压平方成正比,减小电压对减小功耗有重大意义。功耗和电源电压平方成正比,减小电压对减小功耗有重大意义。减小各种电容(减小器件尺寸、缩短连线长度)减小各种电容(减小器件尺寸、缩短连线长度),减小功耗。减小功耗。10/27/20229引入引入“速度功耗积速度功耗积”来表示速度与功耗的关系。来表示速度与功耗的关系。用信号周期表示速度,用信号周期表示速度,则速度功耗积为:则速度功
7、耗积为:电源电压和电路电容一定时,速度与功耗成正比。电源电压和电路电容一定时,速度与功耗成正比。3、速度功耗积、速度功耗积(1-5)10/27/202210集成芯片的成本计算公式:集成芯片的成本计算公式:、关于关于“价格价格”-成本成本设计成本设计成本 总产量总产量+每个大圆片加工成本每个大圆片加工成本 成品率成品率每个大圆片芯片数每个大圆片芯片数 降低成本,降低成本,必须采取以下措施:必须采取以下措施:批量要大,批量要大,总产量大,总产量大,则第一项就可忽略,成本降低;则第一项就可忽略,成本降低;提高成品率;提高成品率;提高每个大圆片上的芯片数,要尽量缩小芯片尺寸提高每个大圆片上的芯片数,要
8、尽量缩小芯片尺寸(面积面积)。第一章第一章 概论概论10/27/202211优化逻辑设计;优化逻辑设计;优化电路设计;优化电路设计;优化器件设计;优化器件设计;优化版图设计。优化版图设计。成本与芯片面积几乎是成本与芯片面积几乎是23 次方的比例关系,次方的比例关系,要减小芯片面积,需要:要减小芯片面积,需要:第一章第一章 概论概论图图1-4 大圆片上的芯片大圆片上的芯片 10/27/2022121.3 集成电路的分类集成电路的分类电路的功能电路的功能电路的功能电路的功能 (数字、模拟、数模混合)(数字、模拟、数模混合)(数字、模拟、数模混合)(数字、模拟、数模混合)规模(集成度)规模(集成度)
9、规模(集成度)规模(集成度)结构形式和材料结构形式和材料结构形式和材料结构形式和材料 (单片、膜)(单片、膜)(单片、膜)(单片、膜)有源器件及工艺类型有源器件及工艺类型有源器件及工艺类型有源器件及工艺类型(双极、(双极、(双极、(双极、MOSMOS、BiMOSBiMOS)生产目的和实现方法生产目的和实现方法生产目的和实现方法生产目的和实现方法10/27/202213按生产目的分按生产目的分按实现方法分按实现方法分通用集成电路通用集成电路(如如CPU、存储器等存储器等)专用集成电路专用集成电路(ASIC)全定制方法全定制方法半定制方法半定制方法可编程逻辑器件可编程逻辑器件半定制集成电路半定制集
10、成电路门阵列门阵列标准单元标准单元有通道门阵列有通道门阵列无通道门阵列(门海)无通道门阵列(门海)积木块积木块10/27/202214 (1)栅极电容栅极电容:与该逻辑门输出端相连各管的:与该逻辑门输出端相连各管的 输入电容。输入电容。(2)扩散区电容扩散区电容:与该逻辑门输出端相连的:与该逻辑门输出端相连的 漏区电容。漏区电容。(3)布线电容布线电容:该逻辑门输出端连到其它各门:该逻辑门输出端连到其它各门 的连线形成的电容。的连线形成的电容。一个一个接有负载的接有负载的MOS逻辑门输出端的总的逻辑门输出端的总的负载电容负载电容包括三部分:包括三部分:2.4.2 MOS电容电容10/27/20
11、2215MOS器件中完整的寄生电容如下图:器件中完整的寄生电容如下图:(a)寄生电容示意图;寄生电容示意图;(b)寄生电容电路符号示意图寄生电容电路符号示意图栅栅极电容由三部分组成:极电容由三部分组成:CG=CGS+CGD+CGB10/27/2022163.1.3 MOS管管常用常用符号符号图图3-4 MOS管常用符号管常用符号 10/27/202217图图3-5给出给出增强型增强型NMOS管和管和PMOS管工作在恒流区的转移管工作在恒流区的转移特性,特性,其中其中UTHN(UTHP)为开启电压,为开启电压,即阈值电压。即阈值电压。PMOS的导通现象类似于的导通现象类似于NMOS,但其所有的极
12、性都是相反,但其所有的极性都是相反的。栅源电压足够的。栅源电压足够“负负”,在氧化层和,在氧化层和N 衬底表面就会形成衬底表面就会形成一个由空穴组成的反型层。一个由空穴组成的反型层。图图3-5 MOS管的转移特性管的转移特性3.2.1 MOS管的转移特性管的转移特性10/27/2022183.2.2 MOS管的输出特性管的输出特性漏极电压漏极电压UDS对漏极电流对漏极电流ID的控制作用基本的控制作用基本上分两段,即线性区和饱和区。上分两段,即线性区和饱和区。线性区和恒线性区和恒流区是以预夹断点的连线为分界线。流区是以预夹断点的连线为分界线。10/27/2022193.2.3 MOS管的电流方程
13、管的电流方程1、考虑一个漏源都接地考虑一个漏源都接地的的NMOS,在,在UGSUTH时,开始时,开始出现反型层沟道电荷:出现反型层沟道电荷:Qd=Cox(UGS-UTH),Cox表示表示单位长度的总电容。图单位长度的总电容。图a2、若漏极电压大于若漏极电压大于0,由于沟道,由于沟道电势电势从源极的从源极的0V变化到变化到漏极的漏极的UDS,则栅与沟道的局部,则栅与沟道的局部电压电压从从UGS-UTH变化到变化到UGS-UTH-UDS。因此沿轨道。因此沿轨道x点处电荷点处电荷 Qd(x)=WCox(UGS-UTH-Ux),图,图b0 xLab10/27/202220 NMOS管在截止区、线性区、
14、恒流区的管在截止区、线性区、恒流区的电流方程电流方程如式如式(3-4)所示:所示:UGSUTHN(截止区)UDSUGS-UTHN(恒流区)(3-4a)(3-4b)(3-4c)10/27/202221恒流区电流方程在忽略沟道调制影响时为平方律方程,恒流区电流方程在忽略沟道调制影响时为平方律方程,即即(3-13)在在恒恒流流区区,栅栅源源电电压压UGS对对ID的的控控制制能能力力用用参参数数gm表表示,称之为示,称之为“跨导跨导”:(3-14a)(3-14b)(3-14c)3.2.5 MOS管的跨导管的跨导gm 10/27/202222 当当UBS0 时时,沟沟道道与与衬衬底底间间的的耗耗尽尽层层
15、加加厚厚,导导致致阈阈值值电电压压UTH增增大大,沟沟道道变变窄窄,沟沟道道电电阻阻变变大大,ID减减小小,人人们们将将此此称称为为“体体效效应应”、“背背栅栅效效应应”或或“衬衬底底调调制制效效应应”。考考虑虑体体效效应后的阈值电压应后的阈值电压UTH为:为:(3-15)式中:式中:UTHOUBS=0 时的阈值电压;时的阈值电压;体效应系数。体效应系数。3.2.6 体效应与背栅跨导体效应与背栅跨导gmb的定义的定义 引引入入背背栅栅跨跨导导gmb来来表表示示UBS对对漏漏极极电电流流的的影影响响,其定义为:其定义为:10/27/202223 结结论论是是:当当开开关关控控制制电电压压(UG)
16、使使MOS管管导导通通时时,NMOS、PMOS传传输输信信号号均均存存在在阈阈值值损损失失,只只不不过过NMOS发发生生在在传传输输高高电电平平时时,而而PMOS发发生生在在传传输输低低电电平平时时。图图4-3给给出出了阈值损失的波形示意图。了阈值损失的波形示意图。图图 4-3 阈值损失波形示意图阈值损失波形示意图 4.1.1 单管单管MOS开关开关10/27/2022241、传输门组成的、传输门组成的2选选1电路电路数据选择器数据选择器xz0A1BX是时钟信号,是时钟信号,A、B是输入,是输入,Z是输出。是输出。XABZ122、在上面的基础上,如何用传输门组成的、在上面的基础上,如何用传输门
17、组成的4选选1电路?电路?4.CMOS传输门的应用传输门的应用10/27/202225CMOS传输门和反相器结构传输门和反相器结构PMOSNMOSCMOS传输门:传输门:NMOSPMOSCMOS反相器:反相器:10/27/202226管子个数管子个数=输入变量数输入变量数2管子个数管子个数=输入变量数输入变量数+1管子个数管子个数=输入变量数输入变量数+2全互补全互补CMOS电路电路伪伪NMOS电路电路动态动态CMOS电路电路复习:复习:10/27/202227 GAL器件区别于器件区别于PAL器件的两个主要方面:器件的两个主要方面:一一、GAL器器件件具具有有一一种种灵灵活活的的、可可编编程
18、程的的称称之之 为为 输输 出出 逻逻 辑辑 宏宏 单单 元元(OLMCOutput Logic Micro Cell)的输出级结构;)的输出级结构;二二、GAL器器件件普普遍遍采采用用了了EEPROM的的浮浮栅栅工工艺艺技技术术作作为为编编程程部部件件,具具有有可可擦擦除除、可可重重新新编程的能力。编程的能力。2.通用逻辑阵列(通用逻辑阵列(GAL)器件)器件 10/27/202228ROM只读存储器(只读存储器(Read-Only Memory):只读不写):只读不写 固定固定ROM 可编程可编程ROM(PROM)可擦除可擦除ROM(EPROM)电可擦除可编程电可擦除可编程ROM(E2PR
19、OM)ROMRAM随机存取存储器(随机存取存储器(Random Access Memory):):可可以在任意时刻对任意存储单元进行读写操作。以在任意时刻对任意存储单元进行读写操作。SRAM静态存储器静态存储器(集成度高,集成度高,存取速度快,存取速度快,功耗极低功耗极低)DRAM动态存储器动态存储器(存储单元结构简单,存储单元结构简单,集成度远大于集成度远大于SRAM,但其应用较复杂,但其应用较复杂,存取速度相对较慢存取速度相对较慢)RAM(根据电路结构(根据电路结构)半导体存储器的分类半导体存储器的分类(按功能和存取方式)(按功能和存取方式)(根据数据写入方式(根据数据写入方式)10/27
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 专用 集成电路设计 复习 zlw
限制150内