《互连与互连优化》PPT课件.ppt
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1、第14章 互连Coping with Internection集成电路设计系列庄奕琪庄奕琪 主讲主讲本章概要本章概要1.概述2.互连电阻3.互连电容4.互连电感5.互连延时模型 6.互连按比例缩小7.互连延时优化8.串扰9.布局布线10.片上网络本章参考书本章参考书nJan M.Rabaey et al.,Digital Integrated Circuit:A Design Perspective,2rd Edition,Anantha Chandrakasan,Borivoje Nikolic,2003.Chapters 3&9。中译本本:周润德等译,数字集成电路-电路、系统与设计,电子工
2、业出版社,2004.10。第3章和第9章。nJohn P.Uyemura,Introduction to VLSI Circuits and Systems,John Wiley&Sons,Inc.,2002.Chapters 14.中译本:周润德译,超大规模集成电路与系统导论,电子工业出版社,2004.1。第14章。14.1 概述 现代IC中的互连铝互连(0.25m工艺,四层)铜互连(0.25m工艺,七层)14.1 概述 互连的发展趋势14.1 概述 互连线电路图电路图实际视图实际视图14.1 概述 互连的寄生参数串联电阻自身电感对地电容线间电容寄生电寄生电阻阻寄生电寄生电容容寄生电寄生电感
3、感14.1 概述 分析简化条件考虑了导线的大部分寄生参数只考虑电容的模型n 若导线的电阻很大,可以不考虑电感n 若导线的电阻较小且较短,可以只考虑电容n 若导线的电阻很小且较长,则需考虑电感n 若导线的平均间距很大,可以不考虑线间电容14.1 概述 互连尺寸变化的影响14.1 概述 互连对延迟的贡献线长线厚电阻率(1/)线宽n纵向参数由工艺决定:t,()横向参数由版图决定:l,wnRline越小,允许通过互连线的电流越大,互连延迟越小14.2 互连电阻 如何计算互连电阻?薄层电阻方块数与版图尺寸无关14.2 互连电阻 薄层电阻14.2 互连电阻 常用导体的电阻率与薄层电阻电阻率(可能用于互连的
4、金属材料)薄层电阻(传统工艺中可用作互连的材料)不同粗细不同粗细带拐角带拐角不同工艺层不同工艺层14.2 互连电阻 电阻计算实例14.2 互连电阻 接触电阻n接触电阻接触电阻n互连与硅及多晶之间的接触(有源接触孔)n不同互连层之间的接触(通孔)n降低接触电阻的途径降低接触电阻的途径n信号线尽量保持在同一层上n增大接触孔,但效果不明显(因电流集聚效应使电流集中在接触孔的周边)n增多接触孔n0.25m CMOS工艺接触电阻典型值工艺接触电阻典型值n有源接触孔520n通孔15 14.2 互连电阻 实例:Intel 0.25m工艺5 metal layersTi/Al-Cu/Ti/TiNPolysil
5、icon dielectric14.2 互连电阻 趋肤效应n趋肤效应趋肤效应:在非常高的频率下,电流主要在导体的表面流动,其电流密度随进入导体的深度而呈指数下降n趋肤深度趋肤深度:电流下降到其额定值的1/e时所处的深度n临界频率临界频率:趋肤深度达到导体最大尺寸(W或H)的1/2时的频率nffs时导体单位长度电阻导体的电阻率周围电介质的介电常数信号的频率铝在1GHz下的=2.6m14.2 互连电阻 铝导线的趋肤效应衬底为SiO214.3 互连电容 互连系统中的电容n导线对衬底的电容n底面n边缘n导线之间的电容n同层n异层第2层互连第1层互连14.3 互连电容 互连电容的影响因素n互连线的形状与
6、尺寸n互连线与衬底的距离n互连线周围的介质n互连线与周围导线的距离14.3 互连电容 互连与衬底间的电容 互连与衬底间的电容成为电路负载电容的一部分绝缘介质的介电常数14.3 互连电容 不考虑边缘效应的电容计算电介质衬底LWHTox电场线电流氧化层厚度14.3 互连电容 考虑边缘效应的电容计算:模型1实例实例 边缘效应影响项 侧面效应影响项14.3 互连电容 考虑边缘效应的电容计算:模型214.3 互连电容 电容随线宽/介质厚度比的变化介质为SiO2tdi为介质厚度平板电容平板电容总电容总电容导线厚度/介质厚度比导线宽度/介质厚度比14.3 互连电容 电容与尺寸的关系第1层铝第2层铝第3层铝第
7、4层铝第5层铝14.3 互连电容 实例:0.25mCMOS工艺(1)边缘电容平面电容下极板上极板电容平均值(平面电容电容平均值(平面电容aF/m2,边缘电容容aF/m)14.3 互连电容 实例:0.25mCMOS工艺(2)最小间距下单位长度线间电容的平均值(最小间距下单位长度线间电容的平均值(aF/m)位于第位于第1层铝上的层铝上的10cm长、长、1m宽的导线:宽的导线:n平面电容3pFn边缘电容8pFn总的对地电容11pFn最小间距下的线间电容9.5pF14.4 互连电感 电感的来源14.4 互连电感 电感的估算与作用n电感的估算电感的估算n当周边电介质的介电常数为、导磁率为时,一条导线单位
8、长度的电容c和电感l满足以下关系n电感对电路性能的影响电感对电路性能的影响n振荡与过冲效应n阻抗失配引起的信号反射n导线间的电感耦合nLdi/dt引起的开关噪声n何时需考虑电感何时需考虑电感n很长的互连线n极高的频率:1GHzn低电阻率的互连材料;如Cun互连线的信号会被延迟的时间。对于高速电路,有可能f1/(即T临界长度n导线输入信号的上升(下降)时间1)缩小延时不变延时不变n长度不变:长度不缩小,其它尺寸按同样比例(S1)缩小延时加长延时加长n全局导线:长度按比例(Sc1)缩小延时大大加长延时大大加长,如时钟信号及数据与指令总线全局导线的延时实际上按每年约50的速率增加(S=1.15,Sc
9、=0.94)14.6 互连延时优化 恒电阻按比例缩小 导线厚度H不变,导线宽度及节距导线电阻不变,但水平方向的电容(边缘及线间)。为抑制此效应,引入电容缩小因子c(1,但S),适当减少因尺寸缩小导致的C的增加,但对长线效果不显著14.7 互连延时优化 采用低电阻率的互连导体采用Cu导体取代Al导体电阻率下降1.6倍降低R常见导体的电阻率常见导体的电阻率14.7 互连延时优化 采用低介电常数的互连介质n采用低介电常数介质取代SiO2降低C常见介质的介电常数常见介质的介电常数材料r真空(Free space)1气凝胶(Aerogels)1.4聚酰亚胺(Polyimides)3-4二氧化硅(SiO2
10、)3.9玻璃环氧树脂(Glass epoxy,印制板)5氮化硅(Si3N4)7.5氧化铝(Alumina,封装)9.5硅(Silicon)11.7n降低互连介质介电常数的好处n延迟n串扰n功耗n低介电常数介质材料的类型ninorganic(SiO2)norganic(Polyimides)naerogels(ultra low-k)工艺尺寸0.25 mm0.18 mm0.13 mm0.1 mm0.07 mm0.05 mm介电常数3.32.72.32.01.81.5e e14.7 互连延时优化 采用低介电常数的互连介质(续)14.7 互连延时优化 采用过渡金属硅化物n+n+SiO2Poly(良好
11、的附着力良好的附着力与覆盖性)与覆盖性)Silicide(高导电性)(高导电性)pn硅化物(Silicide)n硅与一种难熔金属形成的合成多晶材料n导电性好(电导率比多晶大810倍),在高温工艺中不会熔化n常用的有WSi2、TiSi2、PtSi2和TaSin用于降低多晶接触电阻14.7 互连延时优化 增加互连层的数量Minimum Spacing(Relative)0.00.51.01.52.02.53.03.54.01.0m0.8m0.6m0.35m0.25mM5M4M3M2M1PolyMinimum Widths(Relative)0.00.51.01.52.02.53.03.51.0m0
12、.8m0.6m0.35m0.25mM5M4M3M2M1Polyn必要性n芯片尺寸的减少及晶体管数的增加需要更多、更长的导线n更多的互连层有助于减少导线的长度n局部导线n置于较低的互连层n密集,较薄n重在提高集成密度和降低电容n全局导线n置于较高的互连层n宽厚,间距较大n重在降低导线电阻14.7 互连延时优化 分层优化14.7 互连延时优化 地址线对策(1)n存储阵列的地址线n接有大量晶体管的多晶栅n线长(电阻大),负载重(电容大)n降低地址线延时的方法n方案1:全部采用多晶线,无多晶与金属接触占用的面积存储密度大,但多晶电阻较大传播延时长n方案2:同时从线的两端驱动地址线,可使最坏情形的延时减
13、少到原来的1/4DriverPolysilicon word lineMetal word lineWLDrivern降低地址线延时的方法(续)n方案3:采用旁路金属线,每隔k个存储单元与多晶连接1次n延时(k/2)2,主要取决于每个单元的多晶长度nk越小,降低延时的效果越好,但集成密度越低n若在1024个单元地址线中,每隔16个单元与旁路线连接1次,可使延时减少约4000倍Polysilicon word lineMetal bypassWord Line K cells14.7 互连延时优化 地址线对策(2)yxdestinationManhattan方式方式source对角线方式对角线方
14、式 容易实现自动布线及掩膜制造节省线长20,面积15,通孔30延迟,功耗,集成密度部分采用45布线的版图实例14.7 互连延时优化 走线方式14.7 互连延时优化 插入中继器:作用n多级门链:插入中间缓冲器可使总的传播延时n长互连线:插入中间缓冲器可使总的互连延时 中继器将总电阻为R、总电容为C的导线分为m段,每段之间插入1个中继器 假定中继器的延时与连线电容无关,则各个中继器可采用同样尺寸,有同样大的延迟。n插入中继器的最优数目n使各导线段的延时=中继器延时,可得到导线的最小延时14.7 互连延时优化 插入中继器:简单设计 单位长度导线的电阻、电容 每个中继器的延时 未接中继器时的导线延时
15、导线总长度 实际上中继器的延时与连线电容有关,最优延时下各个中继器的尺寸不同14.7 互连延时优化 插入中继器:精确设计(1)最小尺寸中继器的电阻 最小尺寸中继器的电容 中继器的尺寸系数 中继器的本征输出电容/输入电容 导线的单位长度电阻、电容 导线的总延时 最优中继器数目 最优中继器尺寸系数 导线的总长度 中继器的数目 未接中继器时的导线延时 最短导线总延时 导线段的最优长度 导线段的最短延时14.7 互连延时优化 插入中继器:精确设计(2)当导线长度至少为2Lcrit时,插入中继器才有意义 与布线层无关14.7 互连延时优化 插入中继器:实例导线类型导线长度导线宽度中继器数目中继器延时tp
16、(未加中继器)tp(加中继器并优化)AI110cm1m180.1ns31.4ns3.5nsPoly10cm1m10580.1ns112us212nsAI510cm1m60.1ns4.2us1.3ns简单设计:导线类型导线长度导线宽度中继器数目中继器尺寸系数临界长度tp(未加中继器)tp(加中继器并优化)AI110cm1m31623.2mm 31.4ns3.9ns精确设计:0.25mCMOS工艺,tp1=32.5ps,Rd=7.8k,Cd=3fF,c=110aF/m,r=0.075/m14.7 互连延时优化 导线流水线n任意时刻导线可同时处理k个信号提高导线数据处理能力n一个信号通过整条导线需k
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