晶体硅太阳能电池生产工艺流程图(共4页).doc
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1、精选优质文档-倾情为你奉上晶体硅太阳能电池生产工艺流程图电池片工艺流程说明: (1)清洗、制绒:首先用化学碱(或酸)腐蚀硅片,以去除硅片表面机械损伤层,并进行硅片表面织构化,形成金字塔结构的绒面从而减少光反射。现在常用的硅片的厚度在 180m 左右。去除硅片表面损伤层是太阳能电池制造的第一道常规工序。 (2)甩干:清洗后的硅片使用离心甩干机进行甩干。 (3)扩散、刻蚀:多数厂家都选用P型硅片来制作太阳能电池,一般用POCl3液态源作为扩散源。扩散设备可用横向石英管或链式扩散炉,进行磷扩散形成P-N结。扩散的最高温度可达到850-900。这种方法制出的PN结均匀性好,方块电阻的不均匀性小于10,
2、少子寿命大于10 微秒。扩散过程遵从如下反应式: 4POCl33O2(过量) 2P2O52Cl2(气)2P2O55Si 5SiO2 + 4P 腐蚀磷硅玻璃和等离子刻蚀边缘电流通路,用化学方法除去扩散生成的副产物。SiO2 与HF生成可溶于水的SiF62-,从而使硅表面的磷硅玻璃(掺P2O5的SiO2) 溶解,化学反应为: SiO2 6HF H2(SiF6)2H2O(4)减反射膜沉积:采用等离子体增强型化学气相沉积(PECVD: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 技术在电池表面沉积一层氮化硅减反射膜,不仅可以减少光的反射,而且由于在制备SiNx
3、 减反射膜过程中有大量的氢原子进入,因此也起到了很好的表面钝化和体钝化的效果。这是因为对于具有大量晶界的多晶硅材料而言,晶界的悬挂键被饱和,降低了复合中心的原因。由于表面钝化和体钝化作用明显,就可以降低对制作太阳能电池材料的要求。由于增强了对光的吸收,氢原子对太阳能电池起到很好的表面和体内钝化作用,从而提高了电池的短路电流和开路电压。 (5)印刷、烧结:为了从电池上获取电流,一般在电池的正、背两面制作电极。正面栅网电极的形式和厚度要求一方面要有高的透过率,另一方面要保证栅网电极有一个尽可能低的接触电阻。背面做成BSF结构,以减小表面电子复合,印刷后要进行高温烧结。 (6)检测分选:为了保证产品
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