淮南半导体清洗设备项目商业计划书范文参考.docx

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1、泓域咨询/淮南半导体清洗设备项目商业计划书淮南半导体清洗设备项目商业计划书xxx集团有限公司目录第一章 项目基本情况9一、 项目定位及建设理由9二、 项目名称及建设性质9三、 项目承办单位9四、 项目建设选址11五、 项目生产规模11六、 建筑物建设规模11七、 项目总投资及资金构成11八、 资金筹措方案12九、 项目预期经济效益规划目标12十、 项目建设进度规划12十一、 项目综合评价13主要经济指标一览表13第二章 项目建设背景及必要性分析15一、 先进工艺为清洗设备增添新增长机遇15二、 清洗步骤贯穿芯片生产各环节，是芯片良率重要保障16三、 坚持创新驱动发展，积极培育经济增长新动力17

2、四、 推动战略性新兴产业培育壮大21五、 项目实施的必要性21第三章 项目建设单位说明22一、 公司基本信息22二、 公司简介22三、 公司竞争优势23四、 公司主要财务数据25公司合并资产负债表主要数据25公司合并利润表主要数据25五、 核心人员介绍26六、 经营宗旨27七、 公司发展规划28第四章 行业、市场分析30一、 清洗设备市场空间大，单片设备将长期占据主体地位30二、 芯片良率的重要保障，半导体清洗设备国产替代正当时31第五章 法人治理33一、 股东权利及义务33二、 董事35三、 高级管理人员39四、 监事41第六章 发展规划分析44一、 公司发展规划44二、 保障措施45第七章

3、 运营模式47一、 公司经营宗旨47二、 公司的目标、主要职责47三、 各部门职责及权限48四、 财务会计制度51第八章 创新驱动57一、 企业技术研发分析57二、 项目技术工艺分析59三、 质量管理61四、 创新发展总结62第九章 SWOT分析63一、 优势分析（S）63二、 劣势分析（W）65三、 机会分析（O）65四、 威胁分析（T）66第十章 建筑工程方案70一、 项目工程设计总体要求70二、 建设方案72三、 建筑工程建设指标74建筑工程投资一览表74第十一章 风险防范76一、 项目风险分析76二、 公司竞争劣势79第十二章 建设进度分析80一、 项目进度安排80项目实施进度计划一览

4、表80二、 项目实施保障措施81第十三章 产品方案分析82一、 建设规模及主要建设内容82二、 产品规划方案及生产纲领82产品规划方案一览表82第十四章 投资估算84一、 投资估算的依据和说明84二、 建设投资估算85建设投资估算表89三、 建设期利息89建设期利息估算表89固定资产投资估算表91四、 流动资金91流动资金估算表92五、 项目总投资93总投资及构成一览表93六、 资金筹措与投资计划94项目投资计划与资金筹措一览表94第十五章 经济效益96一、 经济评价财务测算96营业收入、税金及附加和增值税估算表96综合总成本费用估算表97固定资产折旧费估算表98无形资产和其他资产摊销估算表9

5、9利润及利润分配表101二、 项目盈利能力分析101项目投资现金流量表103三、 偿债能力分析104借款还本付息计划表105第十六章 总结评价说明107第十七章 附表附录109主要经济指标一览表109建设投资估算表110建设期利息估算表111固定资产投资估算表112流动资金估算表113总投资及构成一览表114项目投资计划与资金筹措一览表115营业收入、税金及附加和增值税估算表116综合总成本费用估算表116固定资产折旧费估算表117无形资产和其他资产摊销估算表118利润及利润分配表119项目投资现金流量表120借款还本付息计划表121建筑工程投资一览表122项目实施进度计划一览表123主要设备

6、购置一览表124能耗分析一览表124报告说明日系巨头领跑全球，国产替代进展顺利：从竞争格局来看，全球半导体清洗设备高度集中于日本、美国、韩国等企业。根据Gartner数据，全球半导体清洗设备行业的龙头企业主要是迪恩士(DainipponScreen)、东京电子(TEL)、韩国SEMES、拉姆研究（LamResearch）等，其中迪恩士处于绝对领先地位，2020年占据了全球半导体清洗设备45.1%的市场份额，东京电子、SEMES和拉姆研究分别占据约25.3%、14.8%和12.5%。国内厂商主要包括至纯、盛美、北方华创、芯源微等，在全球市场规模占比较小，在国内市场占比处于快速提高状态。根据中国国

7、际招标网信息，从2019年2021年H1中国主流晶圆厂清洗设备招标采购份额来看，我国半导体清洗设备的国产化率已经维持在10%20%，属于国产化突破较快的设备。目前，国内厂商如至纯、盛美、北方华创已经具备28nm制程清洗设备能力，产品性能比肩国际主流，具备进口替代能力，能满足大陆晶圆厂的扩产需求，清洗设备国产替代迎快速发展期。根据谨慎财务估算，项目总投资17882.52万元，其中：建设投资14287.31万元，占项目总投资的79.90%；建设期利息194.91万元，占项目总投资的1.09%；流动资金3400.30万元，占项目总投资的19.01%。项目正常运营每年营业收入36800.00万元，综合

8、总成本费用31953.13万元，净利润3521.90万元，财务内部收益率13.16%，财务净现值-588.97万元，全部投资回收期6.67年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。通过分析，该项目经济效益和社会效益良好。从发展来看公司将面向市场调整产品结构，改变工艺条件以高附加值的产品代替目前产品的产业结构。本期项目是基于公开的产业信息、市场分析、技术方案等信息，并依托行业分析模型而进行的模板化设计，其数据参数符合行业基本情况。本报告仅作为投资参考或作为学习参考模板用途。第一章 项目基本情况一、 项目定位及建设理由半导体厂商的资本开支提高将带动设备市场规模高成长，根

9、据SEMI统计，全球半导体设备市场规模从2013年的318亿美元增长至2020年的712亿美元，年复合增长率达12.21%，2020年实现同比增长19.15%。预计2021年全球半导体设备市场规模将增至953亿美元，同比增长33.85%，并于2022年超过1000亿美元。另外，中国的半导体设备销售额从2013年的33亿美元增长至2020年的187亿美元，年复合增长率高达27.70%，远超全球市场增速。二、 项目名称及建设性质（一）项目名称淮南半导体清洗设备项目（二）项目建设性质本项目属于扩建项目三、 项目承办单位（一）项目承办单位名称xxx集团有限公司（二）项目联系人沈xx（三）项目建设单位概

10、况公司不断推动企业品牌建设，实施品牌战略，增强品牌意识，提升品牌管理能力，实现从产品服务经营向品牌经营转变。公司积极申报注册国家及本区域著名商标等，加强品牌策划与设计，丰富品牌内涵，不断提高自主品牌产品和服务市场份额。推进区域品牌建设，提高区域内企业影响力。公司坚持提升企业素质，即“企业管理水平进一步提高，人力资源结构进一步优化，人员素质进一步提升，安全生产意识和社会责任意识进一步增强，诚信经营水平进一步提高”，培育一批具有工匠精神的高素质企业员工，企业品牌影响力不断提升。公司全面推行“政府、市场、投资、消费、经营、企业”六位一体合作共赢的市场战略，以高度的社会责任积极响应政府城市发展号召，融

11、入各级城市的建设与发展，在商业模式思路上领先业界，对服务区域经济与社会发展做出了突出贡献。 公司依据公司法等法律法规、规范性文件及公司章程的有关规定，制定并由股东大会审议通过了董事会议事规则，董事会议事规则对董事会的职权、召集、提案、出席、议事、表决、决议及会议记录等进行了规范。 四、 项目建设选址本期项目选址位于xx园区，占地面积约38.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越，交通便利，规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备，非常适宜本期项目建设。五、 项目生产规模项目建成后，形成年产xxx套半导体清洗设备的生产能力。六、 建筑物建设规模本期项目建筑面积47608.01，其中：生产工程320

12、99.69，仓储工程8635.00，行政办公及生活服务设施5014.92，公共工程1858.40。七、 项目总投资及资金构成（一）项目总投资构成分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算，项目总投资17882.52万元，其中：建设投资14287.31万元，占项目总投资的79.90%；建设期利息194.91万元，占项目总投资的1.09%；流动资金3400.30万元，占项目总投资的19.01%。（二）建设投资构成本期项目建设投资14287.31万元，包括工程费用、工程建设其他费用和预备费，其中：工程费用12448.09万元，工程建设其他费用1437.89万元，预备费40

13、1.33万元。八、 资金筹措方案本期项目总投资17882.52万元，其中申请银行长期贷款7955.57万元，其余部分由企业自筹。九、 项目预期经济效益规划目标（一）经济效益目标值（正常经营年份）1、营业收入（SP）：36800.00万元。2、综合总成本费用（TC）：31953.13万元。3、净利润（NP）：3521.90万元。（二）经济效益评价目标1、全部投资回收期（Pt）：6.67年。2、财务内部收益率：13.16%。3、财务净现值：-588.97万元。十、 项目建设进度规划本期项目按照国家基本建设程序的有关法规和实施指南要求进行建设，本期项目建设期限规划12个月。十一、 项目综合评价本项目

14、生产所需的原辅材料来源广泛，产品市场需求旺盛，潜力巨大；本项目产品生产技术先进，产品质量、成本具有较强的竞争力，三废排放少，能够达到国家排放标准；本项目场地及周边环境经考察适合本项目建设；项目产品畅销，经济效益好，抗风险能力强，社会效益显著，符合国家的产业政策。主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积25333.00约38.00亩1.1总建筑面积47608.011.2基底面积14439.811.3投资强度万元/亩367.792总投资万元17882.522.1建设投资万元14287.312.1.1工程费用万元12448.092.1.2其他费用万元1437.892.1.3预备费万元401.

15、332.2建设期利息万元194.912.3流动资金万元3400.303资金筹措万元17882.523.1自筹资金万元9926.953.2银行贷款万元7955.574营业收入万元36800.00正常运营年份5总成本费用万元31953.136利润总额万元4695.877净利润万元3521.908所得税万元1173.979增值税万元1258.2910税金及附加万元151.0011纳税总额万元2583.2612工业增加值万元9271.8613盈亏平衡点万元18749.55产值14回收期年6.6715内部收益率13.16%所得税后16财务净现值万元-588.97所得税后第二章 项目建设背景及必要性分析一

16、、 先进工艺为清洗设备增添新增长机遇除了受益于半导体行业景气周期上行，半导体工艺升级也将为清洗设备带来新增长机遇，随着芯片先进制程的进步以及芯片结构的复杂化，清洗设备市场有望量价提升。随着半导体技术的不断进步，半导体器件集成度不断提高，清洗的步骤大幅提高。90nm的芯片清洗工艺约90道，到了20nm清洗工艺达到215道。随着芯片进入16nm以及7nm以下，清洗工艺的道数将会加速增长。另一方面半导体晶圆的尺寸却不断扩大，主流晶圆尺寸已经从4英寸、6英寸，发展到现阶段的8英寸、12英寸。此外，半导体器件的结构也趋于复杂。例如存储器领域的NAND闪存，根据国际半导体技术路线图预测，当工艺尺寸到达14

17、nm后，目前的Flash存储技术将会达到尺寸缩小的极限，存储器技术将从二维转向三维架构，进入3D时代。3DNAND制造工艺中，主要是将原来2DNAND中二维平面横向排列的串联存储单元改为垂直排列，通过增加立体层数，解决平面上难以微缩的工艺问题，堆叠层数也从32层、64层向128层发展。3D存储技术的提升，在清洗晶圆表面的基础上提出了更高的要求，即在无损情况下清洗立体内部沾污，对清洗设备提出了更高的要求，清洗设备的单台价值将不断上升。二、 清洗步骤贯穿芯片生产各环节，是芯片良率重要保障清洗是半导体制程的重要环节，也是影响半导体器件良率的最重要的因素之一。清洗是晶圆加工制造过程中的重要一环，为了最

18、大限度降低杂质对芯片良率的影响，在实际生产过程中不仅需要确保高效的单次清洗，还需要在几乎所有的制程前后都进行频繁的清洗，在单晶硅片制造、光刻、刻蚀、沉积等关键制程工艺中均为必要环节。1)硅片制造过程中，经过抛光处理后的硅片，需要通过清洗过程来确保其表面的平整度和性能，进而提升在后续工艺中的良率。2)晶圆制造过程中，晶圆经过光刻、刻蚀、离子注入、去胶、成膜以及机械抛光等关键工序前后都需要进行清洗，以去除晶圆沾染的化学杂质，减少缺陷率，提高良率。3)芯片封装过程中，芯片需要根据封装工艺进行TSV(硅穿孔)清洗、UBM/RDL(凸点底层金属/薄膜再分布技术)清洗以及健合清洗等。硅片在进入每道工序之前

19、表面必须是洁净的，需经过重复多次的清洗步骤，除去表面的污染物。芯片制造需要在无尘室中进行，在芯片的制造过程中，任何的沾污现象都将影响芯片上器件的正常功能。沾污杂质具体指半导体制造过程中引入的任何危害芯片成品率以及电学性能的物质。具体的沾污物包括颗粒、有机物、金属和自然氧化层等，此类污染物包括从环境、其他制造工艺、刻蚀副产物、研磨液等。上述沾污杂质如果不及时清理均可能导致后续工艺的失败，导致电学失效，最终会造成芯片报废。清洗步骤数量是芯片制造工艺步骤占比最大的工序，约占所有芯片制造工序步骤的30%以上。伴随半导体制造技术节点的进步，清洗工序的数量和重要性将继续提高。在半导体芯片工艺技术节点进入2

20、8nm、14nm以及更先进等级后，工艺流程的延长且越趋复杂，产线成品率也会随之下降。造成这种现象的一个原因就是先进制程对杂质的敏感度更高，小尺寸污染物的高效清洗更困难。解决的方法主要是增加清洗步骤。每个晶片在整个制造过程中需要甚至超过200道清洗步骤，晶圆清洗变得更加复杂、重要及富有挑战性。三、 坚持创新驱动发展，积极培育经济增长新动力坚持创新在现代化建设全局中的核心地位，深入实施科教兴市战略、人才强市战略、创新驱动发展战略，以建设创新型城市为引领，落实淮南市科技创新促进条例，全力打好科教资源牌，深入推进大众创业万众创新，加快建设科技强市。（一）构建多元化创新载体积极参与省“四个一”创新主平台

21、、“一室一中心”分平台建设，争取布局一批“创新微中心”、创新产业园，推动形成“合肥研发、淮南转化”、“合肥孵化、淮南产业化”的协同创新格局。大力支持深度煤炭采动响应与灾害防控国家重点实验室、煤炭精准开采国家地方工程研究中心、煤炭瓦斯治理国家工程研究中心、中电八所光纤传感工程实验室、中科院淮南新能源研究中心、中科院大气所淮南研究院等科研院所建设。扎实推进国家实验室培育、省实验室建设，完善市、院、校多方资源投入机制。支持市外高校、科研机构在我市设立研发机构或分支机构。加强科技企业孵化器建设，加快建设安徽理工大学等大学科技园，支持安徽理工大学、淮南师范学院等高校建设“双创”基地。推进公共技术服务平台

22、和技术转移服务平台建设，加快培育一批基于互联网的大企业创新创业平台、国家中小企业公共服务示范平台。规划建设淮南科技创新馆。（二）提升科技创新能力落实科技强国行动纲要。加强基础研究、注重原始创新，优化学科布局和研发布局，推进学科交叉融合，支持开展战略性前沿基础研究。开展科技创新“攻尖”计划，聚焦智能装备、生物医药、现代煤化工、互联网大数据、光通信、先进结构材料等重点领域，瞄准工业“四基”瓶颈制约，加快实施科技专项。加强首台套设备、首批次新材料、首版次软件应用的扶持。积极创造条件，推动与大院大所大学深度合作对接，重点支持在淮高校、科研院所和企业与长三角名校、重点科研院所开展科技创新和研发转化合作。

23、强化企业创新主体地位，促进各类创新要素向企业集聚，支持龙头企业牵头联合高等院校、科研院所建设创新联盟和创新平台，共同承接国家、省重大科研任务，共同实施技术攻关。发挥企业家在技术创新中的重要作用，鼓励企业加大研发投入，落实企业投入基础研究、应用技术开发税收优惠政策，支持建设产业共性技术创新平台和研发公共服务平台。深入实施高新技术企业和科技型企业倍增计划，发挥大企业引领支撑作用，梯度培育中小微科技型企业，支持创新型中小微企业成长为技术创新重要发源地，推动产业链上中下游、大中小企业融通创新。（三）激发人才创新活力深入贯彻落实新阶段江淮人才政策和江淮英才计划，修订完善淮南市“招才引智办法”，健全人才柔

24、性流动机制，落实编制周转池等制度。制定海外引才工作新机制，加大战略科技人才、科技领军人才、青年科技人才和基础研究人才引进培养力度，对顶尖人才引进“一事一议”，建立吸引高素质年轻人流入留住机制。健全以创新能力、质量、实效、贡献为导向的科技人才评价体系，构建充分体现知识、技术等创新要素价值的收益分配机制，推动科技成果使用权、处置权、收益权改革，开展赋予科研人员职务科技成果所有权或长期使用权试点。加强创新型、应用型、技能型人才培养，实施知识更新工程、技能提升行动，壮大高水平工程师和高技能人才队伍，培育“淮南工匠”，支持高校加强基础研究人才培养。加强学风建设，坚守学术诚信。（四）完善科技创新体制机制深

25、入推进科技体制改革，推动重点领域项目、基地、人才、资金一体化配置。改进科技项目组织管理方式，建立第三方科技项目选择和评价机制，争取开展科研管理“绿色通道”、项目经费使用“包干制”、财务报销责任告知和信用承诺制试点，优化科技奖励项目。支持科研院所分类改革，扩大科研自主权，建立完善高校院所增加科技投入的激励政策和机制。引导加大全社会研发投入，健全基础前沿研究政府投入为主、社会多渠道投入机制。加强知识产权创造、保护、运用、管理和服务。弘扬科学精神，加强科普工作，营造崇尚创新的社会氛围。（五）促进科技成果转化坚持“政产学研用金”六位一体，培养发展技术转移机构和技术经理人，构建重大科研成果技术熟化、产业

26、孵化、企业对接、成果落地全链条转化机制。完善金融支持创新体系，谋划建立科技创新基金，鼓励银行金融机构设立科技支行、开展投贷联动试点，支持保险机构拓展科技保险险种范围，推动资本要素对接创新成果转化全过程、企业生命全周期、产业形成全链条。四、 推动战略性新兴产业培育壮大持续深化“三重一创”建设，加快高新战新产业集群式发展，做大做强大数据、特钢、现代装备制造、新能源汽车、煤系固废物利用等5个百亿产业集群，扎实推进恒大新能源电池、淮南矿区大宗固体废弃物综合循环利用基地、新型功能材料产业基地等项目，着力构建各具特色、优势互补、结构合理的战新产业增长引擎。深化规上工业企业培育行动，推动个转企、小升规、规改

27、股、股上市，引导中小企业走“专精特新”发展道路，培育省专精特新企业100户、“小巨人”和“冠军”企业10个。完善质量基础设施，加强标准、计量、专利等体系和能力建设，深入开展质量提升行动。促进平台经济、共享经济健康发展，培育生态主导型头部企业。鼓励企业兼并重组，防止低水平重复建设。五、 项目实施的必要性（一）提升公司核心竞争力项目的投资，引入资金的到位将改善公司的资产负债结构，补充流动资金将提高公司应对短期流动性压力的能力，降低公司财务费用水平，提升公司盈利能力，促进公司的进一步发展。同时资金补充流动资金将为公司未来成为国际领先的产业服务商发展战略提供坚实支持，提高公司核心竞争力。第三章 项目建

28、设单位说明一、 公司基本信息1、公司名称：xxx集团有限公司2、法定代表人：沈xx3、注册资本：710万元4、统一社会信用代码：xxxxxxxxxxxxx5、登记机关：xxx市场监督管理局6、成立日期：2011-6-67、营业期限：2011-6-6至无固定期限8、注册地址：xx市xx区xx9、经营范围：从事半导体清洗设备相关业务（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）二、 公司简介公司全面推行“政府、市场、投资、消费、经营、企业”六位一体合作共赢的市场战略，以高度的社会责任积极响应

29、政府城市发展号召，融入各级城市的建设与发展，在商业模式思路上领先业界，对服务区域经济与社会发展做出了突出贡献。 公司依据公司法等法律法规、规范性文件及公司章程的有关规定，制定并由股东大会审议通过了董事会议事规则，董事会议事规则对董事会的职权、召集、提案、出席、议事、表决、决议及会议记录等进行了规范。 三、 公司竞争优势（一）自主研发优势公司在各个细分领域深入研究的同时，通过整合各平台优势，构建全产品系列，并不断进行产品结构升级，顺应行业一体化、集成创新的发展趋势。通过多年积累，公司产品性能处于国内领先水平。公司多年来坚持技术创新，不断改进和优化产品性能，实现产品结构升级。公司结合国内市场客户的

30、个性化需求，不断升级技术，充分体现了公司的持续创新能力。在不断开发新产品的过程中，公司已有多项产品均为国内领先水平。在注重新产品、新技术研发的同时，公司还十分重视自主知识产权的保护。（二）工艺和质量控制优势公司进口大量设备和检测设备，有效提高了精度、生产效率，为产品研发与确保产品质量奠定了坚实的基础。此外，公司是行业内较早通过ISO9001质量体系认证的企业之一，公司产品根据市场及客户需要通过了产品认证，表明公司产品不仅满足国内高端客户的要求，而且部分产品能够与国际标准接轨，能够跻身于国际市场竞争中。在日常生产中，公司严格按照质量体系管理要求，不断完善产品的研发、生产、检验、客户服务等流程，保

31、证公司产品质量的稳定性。（三）产品种类齐全优势公司不仅能满足客户对标准化产品的需求，而且能根据客户的个性化要求，定制生产规格、型号不同的产品。公司齐全的产品系列，完备的产品结构，能够为客户提供一站式服务。对公司来说，实现了对具有多种产品需求客户的资源共享，拓展了销售渠道，增加了客户粘性。公司产品价格与国外同类产品相比有较强性价比优势，在国内市场起到了逐步替代进口产品的作用。（四）营销网络及服务优势根据公司产品服务的特点、客户分布的地域特点，公司营销覆盖了华南、华东、华北及东北等下游客户较为集中的区域，并在欧美、日本、东南亚等国家和地区初步建立经销商网络，及时了解客户需求，为客户提供贴身服务，达

32、到快速响应的效果。公司拥有一支行业经验丰富的销售团队，在各区域配备销售人员，建立从市场调研、产品推广、客户管理、销售管理到客户服务的多维度销售网络体系。公司的服务覆盖产品服务整个生命周期，公司多名销售人员具有研发背景，可引导客户的技术需求并为其提供解决方案，为客户提供及时、深入的专业技术服务与支持。公司与经销商互利共赢，结成了长期战略合作伙伴关系，公司经销网络较为稳定，有利于深耕行业和区域市场，带动经销商共同成长。四、 公司主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额7501.526001.225626.14负债总额3036.072428.

33、862277.05股东权益合计4465.453572.363349.09公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入24178.6219342.9018133.97营业利润5884.804707.844413.60利润总额4769.403815.523577.05净利润3577.052790.102575.48归属于母公司所有者的净利润3577.052790.102575.48五、 核心人员介绍1、沈xx，中国国籍，1976年出生，本科学历。2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司执行董事

34、、总经理；2004年4月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理。2018年3月起至今任公司董事长、总经理。2、宋xx，中国国籍，无永久境外居留权，1958年出生，本科学历，高级经济师职称。1994年6月至2002年6月任xxx有限公司董事长；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事长；2016年11月至今任xxx有限公司董事、经理；2019年3月至今任公司董事。3、贺xx，中国国籍，1977年出生，本科学历。2018年9月至今历任公司办公室主任，2017年8月至今任公司监事。4、郭xx，1974年出生，研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公

35、司；2006年8月至2011年3月，任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历任公司监事、销售部副部长、部长；2019年8月至今任公司监事会主席。5、陈xx，1957年出生，大专学历。1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2018年3月至今任公司董事。6、韩xx，中国国籍，无永久境外居留权，1971年出生，本科学历，中级会计师职称。2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司财务经理。2017年3月至今任公司董事、副总经理、财务总监。7、龚xx，中国

36、国籍，无永久境外居留权，1961年出生，本科学历，高级工程师。2002年11月至今任xxx总经理。2017年8月至今任公司独立董事。8、袁xx，中国国籍，无永久境外居留权，1959年出生，大专学历，高级工程师职称。2003年2月至2004年7月在xxx股份有限公司兼任技术顾问；2004年8月至2011年3月任xxx有限责任公司总工程师。2018年3月至今任公司董事、副总经理、总工程师。六、 经营宗旨根据国家法律、行政法规的规定，依照诚实信用、勤勉尽责的原则，以专业经营的方式管理和经营公司资产，为全体股东创造满意的投资回报。七、 公司发展规划（一）战略目标与发展规划公司致力于为多产业的多领域客户

37、提供高质量产品、技术服务与整体解决方案，为成为百亿级产业领军企业而努力奋斗。（二）措施及实施效果公司立足于本行业，以先进的技术和高品质的产品满足产品日益提升的质量标准和技术进步要求，为国内外生产商率先提供多种产品，为提升转换率和品质保证以及成本降低持续做出贡献，同时通过与产业链优质客户紧密合作，为公司带来稳定的业务增长和持续的收益。公司通过产品和商业模式的不断创新以及与产业链企业深度融合，建立创新引领、合作共赢的模式，再造行业新格局。（三）未来规划采取的措施公司始终秉持提供性价比最优的产品和技术服务的理念，充分发挥公司在技术以及膜工艺技术的扎实基础及创新能力，为成为百亿级产业领军企业而努力奋斗

38、。在近期的三至五年，公司聚焦于产业的研发、智能制造和销售，在消费升级带来的产业结构调整所需的领域积极布局。致力于为多产业的多领域客户提供中高端技术服务与整体解决方案。在未来的五至十年，以蓬勃发展的中国市场为核心，利用中国“一带一路”发展机遇，利用独立创新、联合开发、并购和收购等多种方法，掌握国际领先的技术，使得公司真正成为国际领先的创新型企业。第四章 行业、市场分析一、 清洗设备市场空间大，单片设备将长期占据主体地位在半导体制造设备中，一般包含光刻、刻蚀、薄膜沉积、两侧、清洗、CMP等设备，根据Gartner的数据，清洗设备在晶圆制造设备中的占比大概在4%以上。根据Gartner数据，2018

39、年全球半导体清洗设备市场规模为34.2亿美元，2019和2020年受全球半导体行业景气度下降以及新冠疫情的影响，全球半导体清洗设备市场规模有所下降，分别为30.5亿美元和25.4亿美元。预计2021年随着全球半导体行业的复苏以及全球半导体设备市场规模提升的拉动，半导体清洗设备市场将呈现逐年增长的趋势，2024年全球半导体清洗设备市场规模将达到32亿美元。从结构来看，单片清洗设备是目前市场的绝对主流，根据Gartner的数据，2019年单片清洗设备、槽式清洗设备、批式旋转喷淋清洗设备和洗刷器等类型清洗设备的市场份额分别为22.76亿美元、5.52亿美元、0.13亿美元和2.08亿美元，占比分别为

40、74.63%、18.10%、0.44%和6.83%。随着集成电路特征尺寸的进一步缩小，单片清洗设备在40nm以下的制程中的应用会更加广泛，未来的占比有望逐步上升。根据东京电子的预测，单片清洗将长期占据主要市场份额。二、 芯片良率的重要保障，半导体清洗设备国产替代正当时清洗步骤是芯片良率的重要保障，单片成为先进制程清洗设备的主流发展趋势：为了最大限度降低杂质对芯片良率的影响，在实际生产过程中不仅需要确保高效的单次清洗，还需要在几乎所有的制程前后都进行频繁的清洗，清洗贯穿硅片制造、晶圆制造、芯片封装各环节。根据清洗的介质不同，清洗技术可以分为湿法清洗和干法清洗两种，湿法清洗技术是目前市场上的主流清

41、洗方法。根据结构，清洗设备主要包括单片清洗设备、槽式清洗设备、批式旋转喷淋清洗设备和洗刷器等，单片清洗具备良率高的优点，槽式清洗具备效率高的优点，单片清洗在先进工艺中逐步取代槽式清洗成为主流。根据东京电子的预测，预计未来单片清洗将占据主要份额。日系巨头领跑全球，国产替代进展顺利：从竞争格局来看，全球半导体清洗设备高度集中于日本、美国、韩国等企业。根据Gartner数据，全球半导体清洗设备行业的龙头企业主要是迪恩士(DainipponScreen)、东京电子(TEL)、韩国SEMES、拉姆研究（LamResearch）等，其中迪恩士处于绝对领先地位，2020年占据了全球半导体清洗设备45.1%的

42、市场份额，东京电子、SEMES和拉姆研究分别占据约25.3%、14.8%和12.5%。国内厂商主要包括至纯、盛美、北方华创、芯源微等，在全球市场规模占比较小，在国内市场占比处于快速提高状态。根据中国国际招标网信息，从2019年2021年H1中国主流晶圆厂清洗设备招标采购份额来看，我国半导体清洗设备的国产化率已经维持在10%20%，属于国产化突破较快的设备。目前，国内厂商如至纯、盛美、北方华创已经具备28nm制程清洗设备能力，产品性能比肩国际主流，具备进口替代能力，能满足大陆晶圆厂的扩产需求，清洗设备国产替代迎快速发展期。第五章 法人治理一、 股东权利及义务1、公司股东享有下列权利：（1）依照其

43、所持有的股份份额获得股利和其他形式的利益分配；（2）依法请求、召集、主持、参加或者委派股东代理人参加股东大会，并行使相应的表决权；（3）对公司的经营进行监督，提出建议或者质询；（4）依照法律、行政法规及本章程的规定转让、赠与或质押其所持有的股份；（5）查阅本章程、股东名册、公司债券存根、股东大会会议记录、董事会会议决议、监事会会议决议、财务会计报告；（6）公司终止或者清算时，按其所持有的股份份额参加公司剩余财产的分配；（7）对股东大会作出的公司合并、分立决议持异议的股东，要求公司收购其股份；（8）法律、行政法规、部门规章或本章程规定的其他权利。2、公司股东承担下列义务：（1）遵守法律、行政法规

44、和本章程；（2）依其所认购的股份和入股方式缴纳股金；（3）除法律、法规规定的情形外，不得退股；（4）不得滥用股东权利损害公司或者其他股东的利益；不得滥用公司法人独立地位和股东有限责任损害公司债权人的利益；公司股东滥用股东权利给公司或者其他股东造成损失的，应当依法承担赔偿责任。公司股东滥用公司法人独立地位和股东有限责任，逃避债务，严重损害公司债权人利益的，应当对公司债务承担连带责任。（5）法律、行政法规及本章程规定应当承担的其他义务。3、持有公司5%以上有表决权股份的股东，将其持有的股份进行质押的，应当自该事实发生当日，向公司作出书面报告。4、公司的控股股东、实际控制人员不得利用其关联关系损害公

45、司利益。违反规定给公司造成损失的，应当承担赔偿责任。公司控股股东及实际控制人对公司和公司社会公众股股东负有诚信义务。控股股东应严格依法行使出资人的权利，控股股东不得利用利润分配、资产重组、对外投资、资金占用、借款担保等方式损害公司和社会公众股股东的合法利益，不得利用其控制地位损害公司和社会公众股股东的利益。违反规定的，给公司造成损失的，应当承担赔偿责任。公司董事会建立对控股股东所持公司股份“占用即冻结”机制，即发现控股股东侵占公司资产立即申请司法冻结，凡不能以现金清偿的，通过变现股权偿还侵占资产。二、 董事1、公司董事为自然人，有下列情形之一的，不能担任公司的董事：（1）无民事行为能力或者限制

46、民事行为能力；（2）因贪污、贿赂、侵占财产、挪用财产或者破坏社会主义市场经济秩序，被判处刑罚，执行期满未逾5年，或者因犯罪被剥夺政治权利，执行期满未逾5年；（3）担任破产清算的公司、企业的董事或者厂长、经理，对该公司、企业的破产负有个人责任的，自该公司、企业破产清算完结之日起未逾3年；（4）担任因违法被吊销营业执照、责令关闭的公司、企业的法定代表人，并负有个人责任的，自该公司、企业被吊销营业执照之日起未逾3年；（5）个人所负数额较大的债务到期未清偿；（6）法律、行政法规或部门规章规定的其他内容。违反本条规定选举、委派董事的，该选举、委派或者聘任无效。董事在任职期间出现本条情形的，公司解除其职务。2、董事由股东大会选举或更换，任期3年。董事任期届满，可连选连任。董事在任期届满以前，股东大会不能无故解除其职务。