濮阳光刻机项目可行性研究报告(范文参考).docx
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1、泓域咨询/濮阳光刻机项目可行性研究报告濮阳光刻机项目可行性研究报告xx(集团)有限公司目录第一章 行业、市场分析8一、 全球市场受海外厂商主导,前五大厂商市占率较高8第二章 项目承办单位基本情况9一、 公司基本信息9二、 公司简介9三、 公司竞争优势10四、 公司主要财务数据11公司合并资产负债表主要数据11公司合并利润表主要数据11五、 核心人员介绍12六、 经营宗旨13七、 公司发展规划14第三章 背景及必要性16一、 光刻机:半导体制程工艺核心环节,将掩膜板图形缩小16二、 国内需求爆发,国产替代空间快速打开17三、 全球设备市场创新高,受益于资本开支提升、制程节点进步19四、 建设省际
2、区域中心22第四章 总论27一、 项目名称及投资人27二、 编制原则27三、 编制依据28四、 编制范围及内容28五、 项目建设背景29六、 结论分析30主要经济指标一览表31第五章 产品方案34一、 建设规模及主要建设内容34二、 产品规划方案及生产纲领34产品规划方案一览表34第六章 建筑工程可行性分析37一、 项目工程设计总体要求37二、 建设方案38三、 建筑工程建设指标39建筑工程投资一览表39第七章 法人治理结构41一、 股东权利及义务41二、 董事44三、 高级管理人员48四、 监事50第八章 运营模式分析53一、 公司经营宗旨53二、 公司的目标、主要职责53三、 各部门职责及
3、权限54四、 财务会计制度57第九章 SWOT分析63一、 优势分析(S)63二、 劣势分析(W)64三、 机会分析(O)65四、 威胁分析(T)66第十章 劳动安全分析74一、 编制依据74二、 防范措施75三、 预期效果评价79第十一章 原材料及成品管理81一、 项目建设期原辅材料供应情况81二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理81第十二章 进度计划方案83一、 项目进度安排83项目实施进度计划一览表83二、 项目实施保障措施84第十三章 环保方案分析85一、 编制依据85二、 环境影响合理性分析86三、 建设期大气环境影响分析86四、 建设期水环境影响分析89五、 建设期固体废弃物环境
4、影响分析89六、 建设期声环境影响分析90七、 环境管理分析90八、 结论及建议94第十四章 节能方案96一、 项目节能概述96二、 能源消费种类和数量分析97能耗分析一览表98三、 项目节能措施98四、 节能综合评价100第十五章 人力资源配置101一、 人力资源配置101劳动定员一览表101二、 员工技能培训101第十六章 投资计划103一、 投资估算的编制说明103二、 建设投资估算103建设投资估算表105三、 建设期利息105建设期利息估算表106四、 流动资金107流动资金估算表107五、 项目总投资108总投资及构成一览表108六、 资金筹措与投资计划109项目投资计划与资金筹措
5、一览表110第十七章 项目经济效益分析112一、 基本假设及基础参数选取112二、 经济评价财务测算112营业收入、税金及附加和增值税估算表112综合总成本费用估算表114利润及利润分配表116三、 项目盈利能力分析117项目投资现金流量表118四、 财务生存能力分析120五、 偿债能力分析120借款还本付息计划表121六、 经济评价结论122第十八章 招标及投资方案123一、 项目招标依据123二、 项目招标范围123三、 招标要求123四、 招标组织方式126五、 招标信息发布126第十九章 总结分析127第二十章 附表附件129主要经济指标一览表129建设投资估算表130建设期利息估算表
6、131固定资产投资估算表132流动资金估算表133总投资及构成一览表134项目投资计划与资金筹措一览表135营业收入、税金及附加和增值税估算表136综合总成本费用估算表136固定资产折旧费估算表137无形资产和其他资产摊销估算表138利润及利润分配表139项目投资现金流量表140借款还本付息计划表141建筑工程投资一览表142项目实施进度计划一览表143主要设备购置一览表144能耗分析一览表144第一章 行业、市场分析一、 全球市场受海外厂商主导,前五大厂商市占率较高全球设备五强占市场主导角色。全球设备竞争格局,主要前道工艺(刻蚀、沉积、涂胶、热处理、清洗等)整合成三强AMAT、LAM、TEL
7、。另外,光刻机龙头ASML市占率80%+;过程控制龙头KLA市占率50%。根据SEMI,ASML、AMAT、LAMResearch、TEL、KLA五大厂商2021年收入合计788亿美元,占全球市场约77%。综合看下来,设备五强市场在各赛道合计市占率基本在50%以上。AMSL优势在光刻方面遥遥领先;AMAT优势在产品线广,沉积(CVD、PVD)市占率高;LAM优势在刻蚀领域;TEL优势在小赛道如涂胶、去胶、热处理;KLA优势在过程控制。第二章 项目承办单位基本情况一、 公司基本信息1、公司名称:xx(集团)有限公司2、法定代表人:周xx3、注册资本:800万元4、统一社会信用代码:xxxxxxx
8、xxxxxx5、登记机关:xxx市场监督管理局6、成立日期:2014-11-97、营业期限:2014-11-9至无固定期限8、注册地址:xx市xx区xx9、经营范围:从事光刻机相关业务(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)二、 公司简介公司秉承“以人为本、品质为本”的发展理念,倡导“诚信尊重”的企业情怀;坚持“品质营造未来,细节决定成败”为质量方针;以“真诚服务赢得市场,以优质品质谋求发展”的营销思路;以科学发展观纵观全局,争取实现行业领军、技术领先、产品领跑的发展目标。 未来,
9、在保持健康、稳定、快速、持续发展的同时,公司以“和谐发展”为目标,践行社会责任,秉承“责任、公平、开放、求实”的企业责任,服务全国。三、 公司竞争优势(一)公司具有技术研发优势,创新能力突出公司在研发方面投入较高,持续进行研究开发与技术成果转化,形成企业核心的自主知识产权。公司产品在行业中的始终保持良好的技术与质量优势。此外,公司目前主要生产线为使用自有技术开发而成。(二)公司拥有技术研发、产品应用与市场开拓并进的核心团队公司的核心团队由多名具备行业多年研发、经营管理与市场经验的资深人士组成,与公司利益捆绑一致。公司稳定的核心团队促使公司形成了高效务实、团结协作的企业文化和稳定的干部队伍,为公
10、司保持持续技术创新和不断扩张提供了必要的人力资源保障。(三)公司具有优质的行业头部客户群体公司凭借出色的技术创新、产品质量和服务,树立了良好的品牌形象,获得了较高的客户认可度。公司通过与优质客户保持稳定的合作关系,对于行业的核心需求、产品变化趋势、最新技术要求的理解更为深刻,有利于研发生产更符合市场需求产品,提高公司的核心竞争力。(四)公司在行业中占据较为有利的竞争地位公司经过多年深耕,已在技术、品牌、运营效率等多方面形成竞争优势;同时随着行业的深度整合,行业集中度提升,下游客户为保障其自身原材料供应的安全与稳定,在现有竞争格局下对于公司产品的需求亦不断提升。公司较为有利的竞争地位是长期可持续
11、发展的有力支撑。四、 公司主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额7525.436020.345644.07负债总额4295.143436.113221.36股东权益合计3230.292584.232422.72公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入28079.6622463.7321059.74营业利润4500.463600.373375.35利润总额4235.493388.393176.62净利润3176.622477.762287.17归属于母公司所有者的净利润3176.622477.762287.
12、17五、 核心人员介绍1、周xx,中国国籍,无永久境外居留权,1958年出生,本科学历,高级经济师职称。1994年6月至2002年6月任xxx有限公司董事长;2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事长;2016年11月至今任xxx有限公司董事、经理;2019年3月至今任公司董事。2、廖xx,中国国籍,1978年出生,本科学历,中国注册会计师。2015年9月至今任xxx有限公司董事、2015年9月至今任xxx有限公司董事。2019年1月至今任公司独立董事。3、邱xx,中国国籍,无永久境外居留权,1970年出生,硕士研究生学历。2012年4月至今任xxx有限公司监事。2018年8月至
13、今任公司独立董事。4、毛xx,1974年出生,研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公司;2006年8月至2011年3月,任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历任公司监事、销售部副部长、部长;2019年8月至今任公司监事会主席。5、郭xx,中国国籍,无永久境外居留权,1961年出生,本科学历,高级工程师。2002年11月至今任xxx总经理。2017年8月至今任公司独立董事。6、付xx,1957年出生,大专学历。1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司;2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2018年3月至今任公司董事。7、金x
14、x,中国国籍,1977年出生,本科学历。2018年9月至今历任公司办公室主任,2017年8月至今任公司监事。8、罗xx,中国国籍,1976年出生,本科学历。2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理;2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司执行董事、总经理;2004年4月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理。2018年3月起至今任公司董事长、总经理。六、 经营宗旨加强经济合作和技术交流,采用先进适用的科学技术和科学经营管理方法,提高产品质量,发展新产品,并在质量、价格等方面具有国际市场上的竞争能力,提高经济效益,使投资者获得满意的利益。七、
15、公司发展规划(一)战略目标与发展规划公司致力于为多产业的多领域客户提供高质量产品、技术服务与整体解决方案,为成为百亿级产业领军企业而努力奋斗。(二)措施及实施效果公司立足于本行业,以先进的技术和高品质的产品满足产品日益提升的质量标准和技术进步要求,为国内外生产商率先提供多种产品,为提升转换率和品质保证以及成本降低持续做出贡献,同时通过与产业链优质客户紧密合作,为公司带来稳定的业务增长和持续的收益。公司通过产品和商业模式的不断创新以及与产业链企业深度融合,建立创新引领、合作共赢的模式,再造行业新格局。(三)未来规划采取的措施公司始终秉持提供性价比最优的产品和技术服务的理念,充分发挥公司在技术以及
16、膜工艺技术的扎实基础及创新能力,为成为百亿级产业领军企业而努力奋斗。在近期的三至五年,公司聚焦于产业的研发、智能制造和销售,在消费升级带来的产业结构调整所需的领域积极布局。致力于为多产业的多领域客户提供中高端技术服务与整体解决方案。在未来的五至十年,以蓬勃发展的中国市场为核心,利用中国“一带一路”发展机遇,利用独立创新、联合开发、并购和收购等多种方法,掌握国际领先的技术,使得公司真正成为国际领先的创新型企业。第三章 背景及必要性一、 光刻机:半导体制程工艺核心环节,将掩膜板图形缩小2020年,全球光刻机市场约135亿美元,占全球半导体制造设备市场21%。光刻机市场一直以来在全球设备市场中的比重
17、都较高,具有较高技术难度,并且单台设备价值量也较高,属于半导体制造设备的“皇冠”。光刻机单机价值量高,每年出货数量约300400台。根据ASML、Nikon、Canon三家光刻机财报数据统计,近两年全球光刻机每年出货量大约在300400台之间,整体均价约0.3亿美元。其中主要产品是KrF约90100台,ArFi约90100台。近几年EUV出货量在逐步增长,全球仅有ASML具备供应能力,每年出货3050台,均价超过1亿美元。光刻机的供给有限,前三大晶圆制造领先厂商占据大部分需求。ASML在2020年一共销售34台EUV光刻机,2021年EUV光刻机的产能将增长到4550台。从历史需求端来看,全球
18、90%以上的EUV光刻机由TSMC、Samsung、Intel三家采购,其他诸如代工厂GobalFoundries、存储厂海力士、美光每年最多采购1台光刻机。ASML主导全球光刻机市场。从光刻机格局来看,2020年ASML占据全球光刻机市场84%的市场空间,Nikon约7%,Canon约5%。ASML具有高度的垄断地位,并且由于EUV跨越式的升级进步,ASML在技术上的领先性更加明显。国内上海微布局前道光刻机设备。上海微电子装备(集团)股份有限公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司于2002年成立,2006年公司光刻机产品注册商标获得国家工
19、商局批准。二、 国内需求爆发,国产替代空间快速打开国内晶圆厂投资进入高峰期。根据集微网统计,20202022年国内晶圆厂总投资金额分别约1500/1400/1200亿元,其中内资晶圆厂投资金额约1000/1200/1100亿元。20202022年国内晶圆厂投资额将是历史上最高的三年,且未来还有新增项目的可能。设备国产化率较低,海外龙头垄断性较高。我国半导体设备市场仍非常依赖进口,从市场格局来看,细分市场均有较高集中度,主要参与厂商一般不超过5家,top3份额往往高于90%,部分设备甚至出现一家独大的情况,目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求,尤其是内资投建的需求。制程越先进,设备投资额占比
20、越高。设备投资一般占比7080%,当制程到16/14nm时,设备投资占比达85%;7nm及以下占比将更高。光刻、刻蚀、沉积、过程控制、热处理等均是重要投资环节。国内国产化逐渐起航,从0到1的过程基本完成。北方华创产品布局广泛,刻蚀机、PVD、CVD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机、ALD等设备新产品市场导入节奏加快,产品工艺覆盖率及客户渗透率进一步提高,在集成电路领域主流生产线实现批量销售,产品加速迭代;第三代半导体、新型显示、光伏设备产品线进一步拓宽,出货量实现较快增长。拓荆科技作为国内唯一一家产业化应用PECVD和SACVD设备的供应商,PECVD累计发货150台,广泛用于中芯国际、华虹集团
21、、长江存储、合肥长鑫、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂,PEALD已实现销售;中微公司介质刻蚀机已经打入5nm制程,新款用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备UniMax2022Q1订单已超180腔;芯源微前道涂胶显影设备在28nm及以上多项技术及高产能结构方面取得进展,并实现多种核心零部件的国产替代,公司前道物理清洗设备已经达到国际先进水平并成功实现国产替代,新签订单结构中前道产品占比大幅提升;华海清科CMP设备在逻辑芯片、3DNAND、DRAM制造等领域的工艺技术水平已分别突破至14nm、128层、1X/1Ynm,到2021年底,公司CMP设备累计出货超过140台,未发出产品的
22、在手订单超70台。Mattson(屹唐半导体)在去胶设备市占率全球第二;盛美半导体单片清洗机在海力士、长存、SMIC等产线量产。精测电子、上海睿励在测量领域突破国外垄断。设备国产化率较低,国产厂商成长空间巨大。我国半导体设备市场仍非常依赖进口,目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求,尤其是内资投建的需求,潜在收入目标空间较大。三、 全球设备市场创新高,受益于资本开支提升、制程节点进步2021年全球半导体设备市场规模创1026亿美元新高,大陆首次占比全球第一。根据SEMI,2021年半导体设备销售额1026亿美元,同比激增44%,全年销售额创历史新高。大陆设备市场在2013年之前占全球比重为1
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