实验45-电光调制器性能的测试优秀PPT.ppt
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1、外场对晶体宏观性质的影响,主要反映在晶体的折射率的变更上,这种变更虽小,但足以变更光在晶体中传播的很多特性,因而可以达到利用外场来限制光的传播方向、位相、强度、偏振态等,从而使输出光成为可利用的讯号光。晶体的折射率因外加场而发生变更的现象为电光效应。折射率与外电场成比例变更的称为线性电光效应或普克尔效应,与外加场的二次方成比例变更的,称为二次电光效应或克尔效应。外电场可以是直流场或交变场,频率可高达超高频或微波的范围。线性电光效应公式:双折射 o光和e光都是偏振光,振动方向相互垂直。o光的折射率不随方向而变,e光的折射率则随方向而变。折射率椭球 折射率椭球(习惯称光率体)是描述晶体光学性质常用
2、的示性面,在各向异性介质的主轴坐标系中,光率体用下式描述:式中n1、n2、n3为该光率体在主轴方向上的折射率,称为主折射率 输出光的干涉 在晶体的光学性质探讨和应用电光效应时,常常要运用两个偏光镜,一个偏光镜用于产生线偏振光,称为起偏镜,另一个偏光镜称检偏镜或分析镜,它可使具有确定光程差的两个相干的线偏振光在同一个平面内振动,引起干涉而产生强度的变更。右图为检偏镜和起偏镜偏振方向相互垂直状况下的干涉。本试验接受横向电光调制起偏镜和检偏镜偏振方向相互垂直的状况下,输出光强与电压的关系如下式:右图为相应的工作曲线试验所运用的主要仪器装置有:He-Ne激光器,直流电压,沟通电压,双踪示波器,光检测器
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