廊坊半导体清洗设备项目建议书.docx
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1、泓域咨询/廊坊半导体清洗设备项目建议书目录第一章 市场分析8一、 海外设备厂商在手订单饱满,供应链限制延续8二、 国内需求爆发,国产替代空间快速打开9第二章 项目建设背景及必要性分析12一、 全球设备市场创新高,受益于资本开支提升、制程节点进步12二、 全球市场受海外厂商主导,前五大厂商市占率较高15三、 清洗设备:去除晶圆片表面杂质,各制程前后均需使用16四、 着力推动中部县区借势临空经济区加速发展16五、 加快推动北三县与通州区一体化联动发展19六、 项目实施的必要性22第三章 项目承办单位基本情况23一、 公司基本信息23二、 公司简介23三、 公司竞争优势24四、 公司主要财务数据26
2、公司合并资产负债表主要数据26公司合并利润表主要数据26五、 核心人员介绍27六、 经营宗旨28七、 公司发展规划28第四章 项目总论35一、 项目概述35二、 项目提出的理由36三、 项目总投资及资金构成37四、 资金筹措方案37五、 项目预期经济效益规划目标38六、 项目建设进度规划38七、 环境影响38八、 报告编制依据和原则39九、 研究范围40十、 研究结论40十一、 主要经济指标一览表40主要经济指标一览表40第五章 选址方案分析43一、 项目选址原则43二、 建设区基本情况43三、 打造优势特色产业集群45四、 推动重点领域协同发展向纵深拓展47五、 项目选址综合评价50第六章
3、建筑工程可行性分析51一、 项目工程设计总体要求51二、 建设方案53三、 建筑工程建设指标56建筑工程投资一览表57第七章 法人治理59一、 股东权利及义务59二、 董事64三、 高级管理人员69四、 监事72第八章 SWOT分析74一、 优势分析(S)74二、 劣势分析(W)76三、 机会分析(O)76四、 威胁分析(T)77第九章 运营模式85一、 公司经营宗旨85二、 公司的目标、主要职责85三、 各部门职责及权限86四、 财务会计制度89第十章 工艺技术说明95一、 企业技术研发分析95二、 项目技术工艺分析97三、 质量管理98四、 设备选型方案99主要设备购置一览表100第十一章
4、 原辅材料供应、成品管理101一、 项目建设期原辅材料供应情况101二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理101第十二章 项目节能分析102一、 项目节能概述102二、 能源消费种类和数量分析103能耗分析一览表103三、 项目节能措施104四、 节能综合评价105第十三章 组织机构管理106一、 人力资源配置106劳动定员一览表106二、 员工技能培训106第十四章 环保分析109一、 编制依据109二、 建设期大气环境影响分析109三、 建设期水环境影响分析109四、 建设期固体废弃物环境影响分析110五、 建设期声环境影响分析110六、 环境管理分析111七、 结论114八、 建议115
5、第十五章 项目投资分析116一、 投资估算的依据和说明116二、 建设投资估算117建设投资估算表119三、 建设期利息119建设期利息估算表119四、 流动资金121流动资金估算表121五、 总投资122总投资及构成一览表122六、 资金筹措与投资计划123项目投资计划与资金筹措一览表124第十六章 经济效益及财务分析125一、 基本假设及基础参数选取125二、 经济评价财务测算125营业收入、税金及附加和增值税估算表125综合总成本费用估算表127利润及利润分配表129三、 项目盈利能力分析130项目投资现金流量表131四、 财务生存能力分析133五、 偿债能力分析133借款还本付息计划表
6、134六、 经济评价结论135第十七章 项目风险评估136一、 项目风险分析136二、 项目风险对策138第十八章 招标、投标140一、 项目招标依据140二、 项目招标范围140三、 招标要求140四、 招标组织方式141五、 招标信息发布143第十九章 项目综合评价说明144第二十章 附表146营业收入、税金及附加和增值税估算表146综合总成本费用估算表146固定资产折旧费估算表147无形资产和其他资产摊销估算表148利润及利润分配表149项目投资现金流量表150借款还本付息计划表151建设投资估算表152建设投资估算表152建设期利息估算表153固定资产投资估算表154流动资金估算表15
7、5总投资及构成一览表156项目投资计划与资金筹措一览表157第一章 市场分析一、 海外设备厂商在手订单饱满,供应链限制延续在手订单依旧强劲,供应链限制延续,设备大厂积极扩产。1)供给高度紧张:ASML22Q1营收yoy-19%,下滑主要系部分订单确认延迟;毛利率同比-5pt,承压主要系材料、供应链、运输等成本上升;库存周转率降低。泛林毛利率同比-1.7pt,主要系成本压力(原材料、物流、通胀等)。2)订单依旧强劲:ASML新增在手订单约70亿欧元,环比持平。KLA:当前在手订单交期总体56个月,部分产品78月。爱德万客户订单提前量增加,由于系半导体等材料和零件短缺,交期延长。3)积极扩产:AS
8、ML预计2030年产能至少翻番,2025年年产能增加到约90套0.33孔径EUV和600套DUV。泰瑞达预计2023研发费用1900亿日元,yoy+20.1%;资本开支750亿日元,yoy+31.1%,规划金额皆较往年有大幅提升。2022下半年展望乐观,全年需求强劲将有订单递延至明年。泛林2022Q2毛利率指引中枢仍略降,持续成本和供应压力影响持续,二季度订单积压不断增加。随产能落地、产品竞争力效益显现及部分订单延迟多数企业对H2展望乐观。ASML预计2022H2表现强劲,毛利率约54%,高于全年52%指引,主要由EUV和DPV出货及安装基础管理业务利润率提升驱动。Q4部分EUV系统收入将递延
9、到2023年。泛林预计2022WFE需求将超1000亿美元,未满足的设备需求将递延至明年。泰瑞达积极建立库存及扩产,预计H2出货有更大增量及灵活性,预计Q2实现增长,仅高端产品出货受限。二、 国内需求爆发,国产替代空间快速打开国内晶圆厂投资进入高峰期。根据集微网统计,20202022年国内晶圆厂总投资金额分别约1500/1400/1200亿元,其中内资晶圆厂投资金额约1000/1200/1100亿元。20202022年国内晶圆厂投资额将是历史上最高的三年,且未来还有新增项目的可能。设备国产化率较低,海外龙头垄断性较高。我国半导体设备市场仍非常依赖进口,从市场格局来看,细分市场均有较高集中度,主
10、要参与厂商一般不超过5家,top3份额往往高于90%,部分设备甚至出现一家独大的情况,目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求,尤其是内资投建的需求。制程越先进,设备投资额占比越高。设备投资一般占比7080%,当制程到16/14nm时,设备投资占比达85%;7nm及以下占比将更高。光刻、刻蚀、沉积、过程控制、热处理等均是重要投资环节。国内国产化逐渐起航,从0到1的过程基本完成。北方华创产品布局广泛,刻蚀机、PVD、CVD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机、ALD等设备新产品市场导入节奏加快,产品工艺覆盖率及客户渗透率进一步提高,在集成电路领域主流生产线实现批量销售,产品加速迭代;第三代半导体、新型
11、显示、光伏设备产品线进一步拓宽,出货量实现较快增长。拓荆科技作为国内唯一一家产业化应用PECVD和SACVD设备的供应商,PECVD累计发货150台,广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、合肥长鑫、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂,PEALD已实现销售;中微公司介质刻蚀机已经打入5nm制程,新款用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备UniMax2022Q1订单已超180腔;芯源微前道涂胶显影设备在28nm及以上多项技术及高产能结构方面取得进展,并实现多种核心零部件的国产替代,公司前道物理清洗设备已经达到国际先进水平并成功实现国产替代,新签订单结构中前道产品占比大幅提升;华海清科CM
12、P设备在逻辑芯片、3DNAND、DRAM制造等领域的工艺技术水平已分别突破至14nm、128层、1X/1Ynm,到2021年底,公司CMP设备累计出货超过140台,未发出产品的在手订单超70台。Mattson(屹唐半导体)在去胶设备市占率全球第二;盛美半导体单片清洗机在海力士、长存、SMIC等产线量产。精测电子、上海睿励在测量领域突破国外垄断。设备国产化率较低,国产厂商成长空间巨大。我国半导体设备市场仍非常依赖进口,目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求,尤其是内资投建的需求,潜在收入目标空间较大。第二章 项目建设背景及必要性分析一、 全球设备市场创新高,受益于资本开支提升、制程节点进步20
13、21年全球半导体设备市场规模创1026亿美元新高,大陆首次占比全球第一。根据SEMI,2021年半导体设备销售额1026亿美元,同比激增44%,全年销售额创历史新高。大陆设备市场在2013年之前占全球比重为10%以内,20142017年提升至1020%,2018年之后保持在20%以上,份额呈逐年上行趋势。2020-2021年,国内晶圆厂投建、半导体行业加大投入,大陆半导体设备市场规模首次在市场全球排首位,2021达到296.2亿美元,同比增长58%,占比28.9%。展望2022年,存储需求复苏,韩国预计将领跑全球,但大陆设备市场规模有望保持较高比重。北美半导体设备厂商月销售额2021年以来稳站
14、30亿+美金。通过复盘半导体行业景气周期历史,北美半导体设备厂商月销售额对于全球半导体行业景气度分析具有重要意义,北美半导体设备销售额水平通常领先全球半导体销售额一个季度。2021年1月,北美半导体设备厂商月销售额首次突破了30亿美金关口,创历史新高,达到了30.4亿美金。此后月度销售额逐季创新高,至12月份销售额达到39.2亿美金,同比增长46%。与此同时全球半导体销售市场自2021年4月以来连续12个月同比增速超过20%,2022年3月,全球半导体销售额达到505.8亿美金,同比增长23.0%,展望2022全年,从各机构当前预测平均值来看,预计2022年全球半导体市场仍将保持10%以上同比
15、增长。半导体设备行业呈现明显的周期性,受下游厂商资本开支节奏变化较为明显。2017年,存储厂商的大幅资本开支推动半导体设备迎来巨大需求,且这一势头一直延续到2018年上半年。但随后产能过剩致使存储价格走低,导致DRAM和NAND厂商纷纷推迟设备订单。存储产能过剩一直持续到2019年上半年,同时上半年整体半导体行业景气度不佳,虽然下半年随着行业景气度恢复,以台积电为代表的晶圆厂陆续调高资本开支大幅扩产,2019年全年半导体设备需求同比仍回落约2%。2020年全球各地先后受疫情影响,但存储行业资本支出修复、先进制程投资叠加数字化、5G带来的下游各领域强劲需求,全年设备市场同比增长19%。伴随半导体
16、厂商新一轮资本开支开启,2021年全球设备市场继续大幅增长44%。当前海外设备龙头应用材料、泛林集团等均预计2022年全球设备市场规模将进一步增长。未来两年全球晶圆厂设备开支持续增长。2020年疫情带来的居家及远程办公带来笔电等消费电子需求激增作为本轮周期的催化剂,2020H2以车用芯片为代表的供应链开始紧张,下游持续增长的需求与上游有限产能的矛盾演绎为2021年全年行业供需失衡加剧。2022年以来,消费性电子、智能手机、PC等领域需求确有下滑,但更值得注意的是全球正步入第四轮硅含量提升周期,服务器、汽车、工业、物联网等需求大规模提升。在6月台积电召开的股东大会上,公司管理层表示未来10年是半
17、导体行业非常好的机会,主要原因就是5G及高效能运算的普及,生活数字化转型,带来对车用(新车半导体含量可达传统车的10倍)、手机、服务器等终端内半导体含量的增加,推动半导体需求大幅成长。中芯国际在22Q1法说会表示,尽管消费电子,手机等存量市场进入去库存阶段,开始软着陆,但高端物联网、电动车、绿色能源、工业等增量市场尚未建立足够的库存,近年来硅含量提升与晶圆厂有限的产能扩充矛盾,叠加产业链转移带来的本土化产能缺口,使得公司需要大幅扩产,推出新产品工艺平台,满足客户旺盛的增量需求。疫情、全球经济及半导体周期性虽然会带来短期内的不确定性,但是技术进步、硅含量提升是长期支撑半导体行业持续发展的最关键驱
18、动力。2020年开始全球领先的晶圆厂纷纷加速扩产提升资本开支,根据ICInsights,2021年全球半导体资本开支增速达到36%,预计2022年将继续增长24%,2020-2022年将会成为自1993-1995年以来的首次CapEx连续三年增速超过20%。半导体设备作为晶圆厂扩产的重要开支部分,根据SEMI,2021年全球晶圆厂前道设备支出增速达到42%,预计2022年将进一步增长18%。台积电、中芯国际纷纷增加资本开支,CapEx进入上行期。根据ICInsights,全球代工厂资本开支约占半导体总体的35%,根据头部代工厂的资本开支规划来看,2022年代工领域资本开支将进一步提升。台积电从
19、2020年170亿美金增长到2021年的300亿美金(用于N3/N5/N7的资本开支占80%),公司2021年4月1日公布未来三年资本开支1000亿美金,2022年资本开支将进一步提升至400-440亿美金,预计2023年资本开支仍有望超过400亿美金;联电2021年CapEx18亿美金,预计2022年翻倍达到36亿美金(其中90%将用于12英寸晶圆);GlobalFoundries于2021年IPO后资本开支大幅提升用于扩产,公司2020年CapEx4.5亿美金,2021年提升至16.6亿美金,预计2022年超过40亿美金;中芯国际2021年资本开支维持高位,达到45亿美金(大部分用于扩成熟
20、制程,尤其是8寸数量扩4.5万片/月),预计2022年达到50亿美金。二、 全球市场受海外厂商主导,前五大厂商市占率较高全球设备五强占市场主导角色。全球设备竞争格局,主要前道工艺(刻蚀、沉积、涂胶、热处理、清洗等)整合成三强AMAT、LAM、TEL。另外,光刻机龙头ASML市占率80%+;过程控制龙头KLA市占率50%。根据SEMI,ASML、AMAT、LAMResearch、TEL、KLA五大厂商2021年收入合计788亿美元,占全球市场约77%。综合看下来,设备五强市场在各赛道合计市占率基本在50%以上。AMSL优势在光刻方面遥遥领先;AMAT优势在产品线广,沉积(CVD、PVD)市占率高
21、;LAM优势在刻蚀领域;TEL优势在小赛道如涂胶、去胶、热处理;KLA优势在过程控制。三、 清洗设备:去除晶圆片表面杂质,各制程前后均需使用清洗机是将晶圆表面上产生的颗粒、有机物、自然氧化层、金属杂质等污染物去除,以获得所需洁净表面的工艺设备。从工艺应用上来说,清洗机目前已广泛应用于集成电路制造工艺中的成膜前/成膜后清洗、等离子刻蚀后清洗、离子注入后清洗、化学机械抛光后的清洗和金属沉积后清洗等各个环节。升级方向:高效且无损。在过去的25年中,随着制程升级,晶圆湿法清洗变得越来越复杂和高效。清洗需要强力有效,还要减少对晶圆表面的损伤。清洁步骤占半导体工艺所有处理步骤1/3,最多已经达到200次。
22、几乎所有制程的前后都需要清洗环节。四、 着力推动中部县区借势临空经济区加速发展围绕临空经济区“国际交往中心功能承载区、国家航空科技创新引领区、京津冀协同发展示范区”定位,做到与北京片区在规划上协同、产业上错位、政策上同向同标,发展高端高新产业,打造对外开放的窗口,辐射带动中部地区高质量发展。(一)加速推进临空经济区开发建设推动规划设计再提升。坚持“世界眼光、国际标准、临空特色、高点定位”,不断完善和持续提升规划体系,把临空经济区打造为京津冀世界级城市群具有较强国际竞争力和影响力的重要区域。推动项目建设再提速。加速推进征迁安置和土地流转,以起步区建设为引擎,推进重大基础设施一体化建设,推动航空物
23、流区形成“一廊两带”空间结构,推动科技创新区形成“一园四带”空间结构,加速提升区内产业和人口综合承载能力,着力塑造“蓝绿萦城、中轴续脉、星团聚秀、国风巧筑”的风貌特色,到2025年,初步形成京冀共建共管、产业高端、产城融合、交通便捷、生态优美的现代化绿色临空经济区。(二)发展外向型临空指向性高端高新产业牢固树立“大临空”理念,打造临空指向性强、航空关联度高的高端高新产业集群。提高招商引资质量,促进新一代信息技术、智能装备制造、生命健康、航空科技创新、航空物流与高端服务业等产业发展,构建“1+2+3”现代高端临空产业体系,做到与大兴机场临空经济区北京片区、雄安新区、首都机场临空经济区、中关村国家
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