成都涂胶显影设备项目可行性研究报告.docx

《成都涂胶显影设备项目可行性研究报告.docx》由会员分享，可在线阅读，更多相关《成都涂胶显影设备项目可行性研究报告.docx（109页珍藏版）》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。

1、泓域咨询/成都涂胶显影设备项目可行性研究报告报告说明集成电路系采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及它们之间的连接导线全部制作在一小块半导体晶片如硅片或介质基片上，然后焊接封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的电子器件。根据谨慎财务估算，项目总投资32207.00万元，其中：建设投资24901.71万元，占项目总投资的77.32%；建设期利息363.46万元，占项目总投资的1.13%；流动资金6941.83万元，占项目总投资的21.55%。项目正常运营每年营业收入61700.00万元，综合总成本费用47667.51万元，净利润10271.81万元，财务内部收益率2

2、4.76%，财务净现值16533.74万元，全部投资回收期5.27年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。该项目的建设符合国家产业政策；同时项目的技术含量较高，其建设是必要的；该项目市场前景较好；该项目外部配套条件齐备，可以满足生产要求；财务分析表明，该项目具有一定盈利能力。综上，该项目建设条件具备，经济效益较好，其建设是可行的。本期项目是基于公开的产业信息、市场分析、技术方案等信息，并依托行业分析模型而进行的模板化设计，其数据参数符合行业基本情况。本报告仅作为投资参考或作为学习参考模板用途。目录第一章 项目概况8一、 项目名称及项目单位8二、 项目建设地点8三、

3、 可行性研究范围8四、 编制依据和技术原则9五、 建设背景、规模10六、 项目建设进度11七、 环境影响11八、 建设投资估算12九、 项目主要技术经济指标12主要经济指标一览表12十、 主要结论及建议14第二章 行业发展分析15一、 涂胶显影设备15二、 半导体设备行业15三、 本土设备厂商的竞争优势和未来前景16第三章 项目投资主体概况17一、 公司基本信息17二、 公司简介17三、 公司竞争优势18四、 公司主要财务数据20公司合并资产负债表主要数据20公司合并利润表主要数据20五、 核心人员介绍21六、 经营宗旨22七、 公司发展规划22第四章 项目背景分析24一、 半导体设备国产替代

4、空间广阔24二、 半导体设备行业的壁垒25三、 半导体前道设备各环节格局梳理26四、 加快建设改革开放新高地，塑造国际合作与竞争新优势27五、 加快推动成渝地区双城经济圈建设30第五章 项目选址方案34一、 项目选址原则34二、 建设区基本情况34三、 积极融入更好服务新发展格局38四、 项目选址综合评价40第六章 建筑工程方案分析42一、 项目工程设计总体要求42二、 建设方案43三、 建筑工程建设指标44建筑工程投资一览表44第七章 SWOT分析46一、 优势分析（S）46二、 劣势分析（W）48三、 机会分析（O）48四、 威胁分析（T）49第八章 运营模式分析53一、 公司经营宗旨53

5、二、 公司的目标、主要职责53三、 各部门职责及权限54四、 财务会计制度57第九章 发展规划分析64一、 公司发展规划64二、 保障措施65第十章 原辅材料供应、成品管理68一、 项目建设期原辅材料供应情况68二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理68第十一章 人力资源配置70一、 人力资源配置70劳动定员一览表70二、 员工技能培训70第十二章 投资计划方案72一、 投资估算的依据和说明72二、 建设投资估算73建设投资估算表75三、 建设期利息75建设期利息估算表75四、 流动资金76流动资金估算表77五、 总投资78总投资及构成一览表78六、 资金筹措与投资计划79项目投资计划与资金筹

6、措一览表79第十三章 经济收益分析81一、 经济评价财务测算81营业收入、税金及附加和增值税估算表81综合总成本费用估算表82固定资产折旧费估算表83无形资产和其他资产摊销估算表84利润及利润分配表85二、 项目盈利能力分析86项目投资现金流量表88三、 偿债能力分析89借款还本付息计划表90第十四章 项目招投标方案92一、 项目招标依据92二、 项目招标范围92三、 招标要求92四、 招标组织方式93五、 招标信息发布96第十五章 项目综合评价说明97第十六章 补充表格99建设投资估算表99建设期利息估算表99固定资产投资估算表100流动资金估算表101总投资及构成一览表102项目投资计划与

7、资金筹措一览表103营业收入、税金及附加和增值税估算表104综合总成本费用估算表104固定资产折旧费估算表105无形资产和其他资产摊销估算表106利润及利润分配表106项目投资现金流量表107第一章 项目概况一、 项目名称及项目单位项目名称：成都涂胶显影设备项目项目单位：xxx有限责任公司二、 项目建设地点本期项目选址位于xx（以选址意见书为准），占地面积约90.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越，交通便利，规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备，非常适宜本期项目建设。三、 可行性研究范围1、项目提出的背景及建设必要性；2、市场需求预测；3、建设规模及产品方案；4、建设地点与建设条性；5、

8、工程技术方案；6、公用工程及辅助设施方案；7、环境保护、安全防护及节能；8、企业组织机构及劳动定员；9、建设实施与工程进度安排；10、投资估算及资金筹措；11、经济评价。四、 编制依据和技术原则（一）编制依据1、国家经济和社会发展的长期规划，部门与地区规划，经济建设的指导方针、任务、产业政策、投资政策和技术经济政策以及国家和地方法规等；2、经过批准的项目建议书和在项目建议书批准后签订的意向性协议等；3、当地的拟建厂址的自然、经济、社会等基础资料；4、有关国家、地区和行业的工程技术、经济方面的法令、法规、标准定额资料等；5、由国家颁布的建设项目可行性研究及经济评价的有关规定；6、相关市场调研报告

9、等。（二）技术原则1、政策符合性原则：报告的内容应符合国家产业政策、技术政策和行业规划。2、循环经济原则：树立和落实科学发展观、构建节约型社会。以当地的资源优势为基础，通过对本项目的工艺技术方案、产品方案、建设规模进行合理规划，提高资源利用率，减少生产过程的资源和能源消耗延长生产技术链，减少生产过程的污染排放，走出一条有市场、科技含量高、经济效益好、资源消耗低、环境污染少、资源优势得到充分发挥的新型工业化路子，实现可持续发展。3、工艺先进性原则：按照“工艺先进、技术成熟、装置可靠、经济运行合理”的原则，积极应用当今的各项先进工艺技术、环境技术和安全技术，能耗低、三废排放少、产品质量好、经济效益

10、明显。4、提高劳动生产率原则：近一步提高信息化水平，切实达到提高产品的质量、降低成本、减轻工人劳动强度、降低工厂定员、保证安全生产、提高劳动生产率的目的。5、产品差异化原则：认真分析市场需求、了解市场的区域性差别、针对产品的差异化要求、区异化的特点，来设计不同品种、不同的规格、不同质量的产品以满足不同用户的不同要求，以此来扩大市场占有率，寻求经济效益最大化，提高企业在国内外的知名度。五、 建设背景、规模（一）项目背景国内为全球半导体设备最大市场，先进技术由美欧日等国主导。从地区分布来看，中国大陆半导体设备市场占比呈持续提升之势，2021年市场规模达到296亿美元，占全球市场的比重为29%，是半

11、导体设备的最大市场。先进半导体设备技术仍由美欧日等国主导，其中美国的刻蚀设备、离子注入机、薄膜沉积设备、测试设备、程序控制、CMP等设备的制造技术位于世界前列；荷兰凭借ASML的高端光刻机在全球处于领先地位；日本则在刻蚀设备、清洗设备、测试设备等方面具有竞争优势。（二）建设规模及产品方案该项目总占地面积60000.00（折合约90.00亩），预计场区规划总建筑面积101626.57。其中：生产工程61447.14，仓储工程19507.68，行政办公及生活服务设施8455.51，公共工程12216.24。项目建成后，形成年产xx套涂胶显影设备的生产能力。六、 项目建设进度结合该项目建设的实际工作

12、情况，xxx有限责任公司将项目工程的建设周期确定为12个月，其工作内容包括：项目前期准备、工程勘察与设计、土建工程施工、设备采购、设备安装调试、试车投产等。七、 环境影响本项目所选生产工艺及规模符合国家产业政策，在严格采取环评报告规定的环境保护对策后，各污染源所排放污染物可以达标排放，对环境影响较小，仅从环保角度来看本项目建设是可行的。八、 建设投资估算（一）项目总投资构成分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算，项目总投资32207.00万元，其中：建设投资24901.71万元，占项目总投资的77.32%；建设期利息363.46万元，占项目总投资的1.13%；流

13、动资金6941.83万元，占项目总投资的21.55%。（二）建设投资构成本期项目建设投资24901.71万元，包括工程费用、工程建设其他费用和预备费，其中：工程费用21604.12万元，工程建设其他费用2671.01万元，预备费626.58万元。九、 项目主要技术经济指标（一）财务效益分析根据谨慎财务测算，项目达产后每年营业收入61700.00万元，综合总成本费用47667.51万元，纳税总额6566.89万元，净利润10271.81万元，财务内部收益率24.76%，财务净现值16533.74万元，全部投资回收期5.27年。（二）主要数据及技术指标表主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地

14、面积60000.00约90.00亩1.1总建筑面积101626.571.2基底面积34200.001.3投资强度万元/亩264.092总投资万元32207.002.1建设投资万元24901.712.1.1工程费用万元21604.122.1.2其他费用万元2671.012.1.3预备费万元626.582.2建设期利息万元363.462.3流动资金万元6941.833资金筹措万元32207.003.1自筹资金万元17371.993.2银行贷款万元14835.014营业收入万元61700.00正常运营年份5总成本费用万元47667.516利润总额万元13695.757净利润万元10271.818所得

15、税万元3423.949增值税万元2806.2110税金及附加万元336.7411纳税总额万元6566.8912工业增加值万元21435.6413盈亏平衡点万元23647.12产值14回收期年5.2715内部收益率24.76%所得税后16财务净现值万元16533.74所得税后十、 主要结论及建议项目产品应用领域广泛，市场发展空间大。本项目的建立投资合理，回收快，市场销售好，无环境污染，经济效益和社会效益良好，这也奠定了公司可持续发展的基础。第二章 行业发展分析一、 涂胶显影设备涂胶显影设备是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。涂胶显影设备是与光刻机配合进行作业的关键处理设备，主要负责涂胶、

16、烘烤及显影。涂胶/显影机作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影）设备，主要通过机械手使晶圆在各系统之间传输和处理，从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程，其直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成，从而影响后续蚀刻和离子注入等工艺中图形转移的结果。在早期的集成电路和较低端的半导体制造工艺中，此类设备往往单独使用，随着集成电路制造工艺自动化程度及客户对产能要求的不断提升，多与光刻设备联机作业，KrF、ArF以及ArFi工艺设备逐渐占领市场。二、 半导体设备行业集成电路系采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及它们之间的连接导线全部制作在一

17、小块半导体晶片如硅片或介质基片上，然后焊接封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的电子器件。半导体设备在芯片制造中发挥着重要作用。半导体设备是半导体制造的基石，是半导体行业的基础和核心。半导体工艺流程主要包括硅片制造、IC设计、芯片制造和芯片封测，从产业链来看，半导体设备在硅片制造以及芯片制造的前道/后道工艺中均发挥着重要作用。三、 本土设备厂商的竞争优势和未来前景成本和价格并非本土标签以外的唯一竞争力，快速响应的定制化服务为重要优势。基于本土优势，一方面可以提供低成本、定制化、及时的服务（海外设备厂商往往委托国内团队做售后服务，同时服务定制化程度弱），另一方面能够针对客户技术需求进行联合攻关

18、、定制化开发，适配性的提升会带动稳定性和良率的提升。伴随客户导入，国产设备技术水平/工艺覆盖度有望快速提升。尽管部分国产设备目前稳定性、良率方面等相较国际大厂仍有差距，但只要下游厂商愿意导入国产设备，长远来看，部分国产设备技术能力、稳定性、良率将随与下游客户的积累持续加速提升，将实现从“能用”到“好用”的转变，如：中微公司在部分MOCVD设备市场已实现对海外巨头的超越。第三章 项目投资主体概况一、 公司基本信息1、公司名称：xxx有限责任公司2、法定代表人：黄xx3、注册资本：530万元4、统一社会信用代码：xxxxxxxxxxxxx5、登记机关：xxx市场监督管理局6、成立日期：2012-4

19、-17、营业期限：2012-4-1至无固定期限8、注册地址：xx市xx区xx9、经营范围：从事涂胶显影设备相关业务（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）二、 公司简介公司坚持提升企业素质，即“企业管理水平进一步提高，人力资源结构进一步优化，人员素质进一步提升，安全生产意识和社会责任意识进一步增强，诚信经营水平进一步提高”，培育一批具有工匠精神的高素质企业员工，企业品牌影响力不断提升。展望未来，公司将围绕企业发展目标的实现，在“梦想、责任、忠诚、一流”核心价值观的指引下，围绕业务体

20、系、管控体系和人才队伍体系重塑，推动体制机制改革和管理及业务模式的创新，加强团队能力建设，提升核心竞争力，努力把公司打造成为国内一流的供应链管理平台。三、 公司竞争优势（一）工艺技术优势公司一直注重技术进步和工艺创新，通过引入国际先进的设备，不断加大自主技术研发和工艺改进力度，形成较强的工艺技术优势。公司根据客户受托产品的品种和特点，制定相应的工艺技术参数，以满足客户需求，已经积累了丰富的工艺技术。经过多年的技术改造和工艺研发，公司已经建立了丰富完整的产品生产线，配备了行业先进的设备，形成了门类齐全、品种丰富的工艺，可为客户提供一体化综合服务。（二）节能环保和清洁生产优势公司围绕清洁生产、绿色

21、环保的生产理念，依托科技创新，注重从产品结构和工艺技术的优化来减少三废排放，实现污染的源头和过程控制，通过引进智能化设备和采用自动化管理系统保障清洁生产，提高三废末端治理水平，保障环境绩效。经过持续加大环保投入，公司已在节能减排和清洁生产方面形成了较为明显的竞争优势。（三）智能生产优势近年来，公司着重打造 “智慧工厂”，通过建立生产信息化管理系统和自动输送系统，将企业的决策管理层、生产执行层和设备运作层进行有机整合，搭建完整的现代化生产平台，智能系统的建设有利于公司的订单管理和工艺流程的优化，在确保满足客户的各类功能性需求的同时缩短了产品交付期，提高了公司的竞争力，增强了对客户的服务能力。（四

22、）区位优势公司地处产业集聚区，在集中供气、供电、供热、供水以及废水集中处理方面积累了丰富的经验，能源配套优势明显。产业集群效应和配套资源优势使公司在市场拓展、技术创新以及环保治理等方面具有独特的竞争优势。（五）经营管理优势公司拥有一支敬业务实的经营管理团队，主要高级管理人员长期专注于印染行业，对行业具有深刻的洞察和理解，对行业的发展动态有着较为准确的把握，对产品趋势具有良好的市场前瞻能力。公司通过自主培养和外部引进等方式，建立了一支团结进取的核心管理团队，形成了稳定高效的核心管理架构。公司管理团队对公司的品牌建设、营销网络管理、人才管理等均有深入的理解，能够及时根据客户需求和市场变化对公司战略

23、和业务进行调整，为公司稳健、快速发展提供了有力保障。四、 公司主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额10254.538203.627690.90负债总额4367.423493.943275.57股东权益合计5887.114709.694415.33公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入41460.3433168.2731095.25营业利润9039.917231.936779.93利润总额7735.816188.655801.86净利润5801.864525.454177.34归属于母公司所有者的净利润

24、5801.864525.454177.34五、 核心人员介绍1、黄xx，中国国籍，1976年出生，本科学历。2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2004年4月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理。2018年3月起至今任公司董事长、总经理。2、任xx，中国国籍，1978年出生，本科学历，中国注册会计师。2015年9月至今任xxx有限公司董事、2015年9月至今任xxx有限公司董事。2019年1月至今任公司独立董事。3、白xx，中国国籍，无永久境外居留权，1961年出生，本科学历，

25、高级工程师。2002年11月至今任xxx总经理。2017年8月至今任公司独立董事。4、郑xx，中国国籍，1977年出生，本科学历。2018年9月至今历任公司办公室主任，2017年8月至今任公司监事。5、余xx，1974年出生，研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公司；2006年8月至2011年3月，任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历任公司监事、销售部副部长、部长；2019年8月至今任公司监事会主席。6、韦xx，中国国籍，无永久境外居留权，1970年出生，硕士研究生学历。2012年4月至今任xxx有限公司监事。2018年8月至今任公司独立董事。7、于

26、xx，1957年出生，大专学历。1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2018年3月至今任公司董事。8、郑xx，中国国籍，无永久境外居留权，1959年出生，大专学历，高级工程师职称。2003年2月至2004年7月在xxx股份有限公司兼任技术顾问；2004年8月至2011年3月任xxx有限责任公司总工程师。2018年3月至今任公司董事、副总经理、总工程师。六、 经营宗旨根据国家法律、法规及其他有关规定，依照诚实信用、勤勉尽责的原则，充分运用经济组织形式的优良运行机制，为公司股东谋求最大利益，取得更好的社会效益和经济效益。七、

27、公司发展规划（一）战略目标与发展规划公司致力于为多产业的多领域客户提供高质量产品、技术服务与整体解决方案，为成为百亿级产业领军企业而努力奋斗。（二）措施及实施效果公司立足于本行业，以先进的技术和高品质的产品满足产品日益提升的质量标准和技术进步要求，为国内外生产商率先提供多种产品，为提升转换率和品质保证以及成本降低持续做出贡献，同时通过与产业链优质客户紧密合作，为公司带来稳定的业务增长和持续的收益。公司通过产品和商业模式的不断创新以及与产业链企业深度融合，建立创新引领、合作共赢的模式，再造行业新格局。（三）未来规划采取的措施公司始终秉持提供性价比最优的产品和技术服务的理念，充分发挥公司在技术以及

28、膜工艺技术的扎实基础及创新能力，为成为百亿级产业领军企业而努力奋斗。在近期的三至五年，公司聚焦于产业的研发、智能制造和销售，在消费升级带来的产业结构调整所需的领域积极布局。致力于为多产业的多领域客户提供中高端技术服务与整体解决方案。在未来的五至十年，以蓬勃发展的中国市场为核心，利用中国“一带一路”发展机遇，利用独立创新、联合开发、并购和收购等多种方法，掌握国际领先的技术，使得公司真正成为国际领先的创新型企业。第四章 项目背景分析一、 半导体设备国产替代空间广阔半导体设备市场持续增长的底层逻辑是科技产业发展对半导体需求量的提升，直接驱动因素是下游晶圆制造厂商的扩产。2021年半导体市场规模实现同

29、比增长26%，达5530亿美元。全球半导体产业资本支出保持强劲增长，根据ICInsights数据，2021年，全球半导体行业资本支出达到1539亿美元，预计2022年将达到1904亿美元。摩尔定律推动产业发展，设备行业壁垒将持续提升。根据摩尔定律演进，每隔18-24个月芯片性能将提升一倍。先进制程IC产能具有强劲的增长势头，根据ICInsights预测，2024年先进制程（10nm）的IC产能预计增长并在全球产能占比提升至30%。每更新一代工艺制程，则需更新一代更为先进的制程设备，更加精密的制程带来半导体设备难度直线上升，行业壁垒不断提高。随着制程推进和工艺升级，单位产能下设备需求将进一步增加

30、。制程和工艺升级推动芯片复杂度提升，更复杂的结构需要更多的制造工序完成，各类设备的用量显著增加。以刻蚀环节为例，14nm制程所需使用的刻蚀步骤达到64次，7nm所需刻蚀步骤达140次，较14nm提升118%。设备用量方面，以中芯国际180nm8寸产线和90nm12寸产线所用到的薄膜沉积设备为例，每万片月产能所需的CVD设备、PVD设备分别增加3倍和4倍左右。先进工艺单位产能投资几何级数提升。随着技术节点的不断缩小，集成电路制造的设备投入呈大幅上升的趋势，5万片月产能的5nm技术节大陆半导体设备的成长空间较大，国产化率有望加速。中国大陆半导体设备企业经过多年的技术研发和工艺积累，在部分领域实现了

31、技术突破和创新，成功通过部分集成电路制造企业的验证，成为制造企业的设备供应商。去胶设备已基本实现国产化，CMP设备、清洗设备、热处理设备、刻蚀设备等的国产化率为20%左右；涂胶显影设备、离子注入设备、光刻设备也实现了突破。国产半导体设备进入生产线后，在不同产线持续测试和应用，可以及时掌握晶圆厂的技术需求，有针对性的对设备进行研发、升级，推动其技术的不断完善、进步和创新。目前国内晶圆厂积极扩产，极大拉动国内半导体设备需求；终端半导体产品的不断迭代推动晶圆厂开发新的工艺，随着国内晶圆制造产业的迅速发展，国产半导体设备种类将不断增加，性能也将不断提升，国产设备厂商将迎来增长机遇，进入加速成长阶段。二

32、、 半导体设备行业的壁垒技术壁垒：1）半导体设备是由成千上万的零部件组成的复杂系统，将成千上万的零部件有机组合在一起实现精细至nm级别的操作是第一个难点。2）保障设备在nm级别的操作基础上的超高良率是半导体设备制造过程中的第二个难点。制造一块芯片通常需要上百台设备紧密配合，历经400-500道工序，若单工序良率仅能做到99%，则历经500道工序最终良率不足1%；提升至小数点后两位的水平才能使良率达到95%以上。3）保障设备在实现以上两个要求的基础上长时间稳定的运行是半导体设备制造过程中的第三个难点。与上述同理，一条芯片产线上百台设备，每一台设备稳定运行时间的微小降低将在整个体系内被巨额放大。若

33、发生设备宕机造成该批假设1000片晶圆的报废，在28nm及以下的制程级别对应的损失超过300万美元，近2000万人民币。客户验证壁垒：正是由于设备本身和产线构成的复杂性，单设备的良率、稳定性会在整个体系内产生累积效应的影响，同时可能带来巨额的潜在损失，因此晶圆制造厂商对于上游设备的验证、验收有严苛的标准和流程。同时，对于晶圆制造厂而言，配合上游设备验证需要付出大量的人力（合作研发、调试）、物力（拿出其他设备配合验证的机会成本损失、验证过程中的物料损失），以及采用新设备供应商面临的巨大潜在风险（批量晶圆报废的风险、向客户延迟交货的风险），很少有晶圆厂愿意承担以上的损失和风险去验证新供应商的设备。

34、三、 半导体前道设备各环节格局梳理晶圆制造设备是半导体设备行业需求最大的领域，光刻、刻蚀和沉积设备为主要组成部分。根据SEMI数据来看，目前半导体设备主要为晶圆制造设备，市场占有率超过85%。其中，刻蚀机、薄膜沉积、光刻机设备为半导体设备的核心设备，这三类半导体设备的市占率分别为22%、22%和20%。国内为全球半导体设备最大市场，先进技术由美欧日等国主导。从地区分布来看，中国大陆半导体设备市场占比呈持续提升之势，2021年市场规模达到296亿美元，占全球市场的比重为29%，是半导体设备的最大市场。先进半导体设备技术仍由美欧日等国主导，其中美国的刻蚀设备、离子注入机、薄膜沉积设备、测试设备、程

35、序控制、CMP等设备的制造技术位于世界前列；荷兰凭借ASML的高端光刻机在全球处于领先地位；日本则在刻蚀设备、清洗设备、测试设备等方面具有竞争优势。四、 加快建设改革开放新高地，塑造国际合作与竞争新优势推动有效市场和有为政府更好结合，破除深层次体制机制障碍，率先开展更深层次改革、实行更高水平开放，在更高层次更大范围更宽领域参与国际合作与竞争，打造内陆改革开放实践范例。全面加强开放平台和能力建设。坚持“四向拓展、全域开放”，深化外事外资外经外贸外宣“五外”联动，构建全方位多层次的开放合作格局。充分发挥自贸试验区、进口贸易促进创新示范区等战略平台的牵引集成作用，推动川渝自贸试验区协同开放示范区建设

36、，高标准建设天府中央法务区，打造面向区域的国际仲裁中心。加快推动天府国际空港综合保税区、天府国际机场口岸及综合性指定监管场地等项目建设。以区域全面经济伙伴关系协定签署为契机，坚持货物贸易与服务贸易并重，完善口岸开放体系，大力发展临港产业，增强国际贸易中心核心功能。充分发挥外国驻蓉领事机构、国际会议、主场外交等对国际高端资源要素的集聚吸附作用，强化国别合作园区等产业平台示范引领，打造国际产能合作新样板。持续深化“五项制度”改革。遵循“政府主导、政策供给，企业主体、市场运作”逻辑，构建系统完备、精准高效的高质量发展政策体系。深化以绩效为导向的财政预算制度改革，推进财政支出标准化，提升财政资金配置效

37、率和使用效益。深化以效率为导向的国资经营评价制度改革，实施国企改革三年行动，健全政府功能性任务管理机制，增强国资国企战略支撑能力、社会服务能力、市场竞争能力。深化以产出为导向的土地资源配置制度改革，坚持以亩产论英雄，建立容积率区域统筹机制，完善新型用地适用体系，不断提高土地集约节约利用水平。深化以利民便民为导向的基本公共服务清单标准管理和动态调整制度改革，大力培育民生类国企和社会企业，推动基本公共服务由户籍人口向常住人口覆盖。深化以成长为导向的企业扶持激励制度改革，健全分类分级企业全生命周期扶持激励机制，实现要素供给、政策扶持和政务服务精准匹配。充分激发各类市场主体活力。坚持“两个毫不动摇”，

38、依法平等保护国有、民营、外资等各种所有制企业产权和自主经营权，依法保护企业家合法权益。深化国有企业改革，建立健全现代企业治理、经营和激励、监管机制，争取区域性国资国企综合改革试验试点，积极稳妥深化混合所有制改革，做强做优做大国有资本和国有企业。大力发展民营经济，完善常态化规范化的政企沟通机制，构建亲清新型政商关系，健全支持民营企业和中小微企业发展政策体系，大力培育本土世界500强、中国500强和行业单项冠军企业，创建民营经济示范城市，弘扬蓉商精神，举办全球蓉商大会。全方位优化外商投资服务，吸引更多世界500强企业、国际组织落户，打造新时代外商投资标杆城市。打造稳定公平可及营商环境。坚持以市场主

39、体和市民获得感为重要评价标准，进一步深化“放管服”改革，让市场主体放心投资、安心创业、顺心发展。加强诚信政府建设，构建“无事不扰”“无处不在”监管服务体系，推动包容审慎、智能智慧监管，深化企业投资项目承诺制改革，逐步减少由地方设定的行政许可事项，推动环境预期更加稳定。进一步放开民营企业市场准入，推进市场主体信用积分管理，健全外商投资促进、保护和服务体系，推动市场竞争更加公平。完善企业全生命周期服务体系，升级“蓉易办”“蓉易享”平台，提升融合“一网通办、一网统管、一键回应”，全面推广项目审批“一站式”服务，实现同一政务服务事项无差别受理、同标准办理和惠企政策一窗通办、免申即享，推动政府服务更加可

40、及。五、 加快推动成渝地区双城经济圈建设坚持以发挥优势、彰显特色、协同发展为导向唱好“双城记”，全面提高经济集聚度、区域连接性和整体协同性，全面提升成都发展能级和综合竞争力，加快培育壮大成都都市圈，打造带动全国高质量发展的重要增长极和新的动力源。（一）推动形成成渝相向发展新格局坚定不移推动成都跨越龙泉山发展，发挥成都东部新区及淮州新城、简阳城区等协同区在成德眉资同城化中的产业协作引领作用，带动川南和川东北地区共同发展。协同建设现代产业体系，共建高水平汽车产业基地，共同培育世界级电子信息、装备制造产业集群，合力打造数字产业新高地和西部金融中心。共建协同创新体系，实施成渝科技创新合作计划，打造“一

41、带一路”科技创新合作区和国际技术转移中心，合力打造科技创新高地。共建开放合作体系，合力建设西部陆海新通道，依托成都国际铁路港经济开发区打造“一带一路”进出口商品集散中心、对外交往中心。强化公共服务共建共享。共建巴蜀文化旅游走廊。有序推进引大济岷、沱江团结枢纽重大水利工程建设。合力建设现代基础设施网络。（二）推动形成成德眉资同城化发展新格局坚持以体制机制创新为突破，探索行政区与经济区适度分离，创建成德眉资同城化综合试验区，加快建设经济发达、生态优良、生活幸福的现代化都市圈。加快推动交通网络同城化，构建区域空港物流、轨道交通、高快速路“三张网”。协同推进产业生态圈建设，加快推动“三区三带”发展，推

42、进区域内产业供需适配和本地配套。有序推进公共服务共享，按常住人口规模和布局均衡配置公共服务。推进功能平台相互开放，发挥国家级新区旗舰作用，联动共建国际铁路港、国际空港、总部商务区等合作平台和大科学装置、重大公共技术平台。推进生态环境联防共治，加快修复龙泉山、龙门山生态，推进沱江、岷江流域水生态治理，深化大气污染源头防控协作，合力建强长江上游生态屏障。（三）推动形成区域错位发展新格局坚定不移实施主体功能区战略，深入推进“东进、南拓、西控、北改、中优”，构建“一心三轴多中心”总体空间结构。“东进”区域立足成渝相向发展，高起点规划建设以先进制造业和生产性服务业基地为战略支撑的现代化未来新城。“南拓”

43、区域率先建设高质量发展先行区和公园城市示范区，加快建设全市综合性副中心，整体形成“两区一城”协同发展格局。“西控”区域以国家城乡融合发展试验区为统揽，提升农商文旅体融合发展水平，建设具备高端绿色成长基因的生物经济示范带。“北改”区域以强功能提高要素资源集成力、优形态提高人口经济承载力为着眼点，加快建设成都都市圈重要的经济增长极、链接欧亚的陆港门户枢纽、产贸结合的高质量发展先行区。“中优”区域以场景营造和片区开发为牵引，加快推进城市有机更新，积极发展都市工业和现代服务业，打造高能级高品质生活城区。（四）推动形成“两区一城”协同发展新格局坚持互利共生、开放协同、相互成就、整体成势，建设具有强大国际

44、竞争力和区域带动力的高能级共同体，建成成渝相向发展的战略支撑。协同打造创新策源地和成果转化区，做强“一核”创新策源功能，促进“四区”创新成果转移转化。协同培育现代产业集群，坚持战略导向做强优势产业链，聚焦未来产业构建创新生态链，推动“三网一智造”集成共享发展。协同共建公共服务供给体系，统筹布局教育、医疗等重大功能设施，组建城市一体化运营服务商联盟，健全公共服务域内共享机制。协同共享开放平台，推动自贸试验区和自主创新示范区联动发展，积极争设自贸试验区成都东部新区新片区，支持天府新区创建内陆开放型经济试验区，联动国际铁路港开拓海外市场。构建高效协同密切合作的制度体系。第五章 项目选址方案一、 项目

45、选址原则项目建设区域以城市总体规划为依据，布局相对独立，便于集中开展科研、生产经营和管理活动，并且统筹考虑用地与城市发展的关系，与当地的建成区有较方便的联系。二、 建设区基本情况成都，四川省辖地级市，简称“蓉”，别称蓉城、锦城，四川省省会，副省级市、超大城市、成渝地区双城经济圈核心城市，批复确定的中国西部地区重要的中心城市，国家重要的高新技术产业基地、商贸物流中心和综合交通枢纽。成都地处中国西南地区、四川盆地西部、成都平原腹地，境内地势平坦、河网纵横、物产丰富、农业发达，属亚热带季风性湿润气候，自古有“天府之国”的美誉，是中国人民解放军西部战区机关驻地，作为重要的电子信息产业基地，有国家级科研

46、机构30家，国家级研发平台67个，高校65所，2019年世界500强企业落户301家。成都是全国十大古都和首批国家历史文化名城，古蜀文明发祥地。境内金沙遗址有3000年历史，周太王以“一年成聚，二年成邑，三年成都”，故名成都；蜀汉、成汉、前蜀、后蜀等政权先后在此建都；一直是各朝代的州郡治所；汉为全国五大都会之一；唐为中国最发达工商业城市之一，史称“扬一益二”；北宋是汴京外第二大都会，发明世界上第一种纸币交子。拥有都江堰、武侯祠、杜甫草堂等名胜古迹，是中国最佳旅游城市。当今世界正处于百年未有之大变局，世界经济政治格局面临深度调整和深刻变化。我国已转向高质量发展阶段，经济长期向好基本面没有改变，人民对美好生活充满新期待。成都开启建设社会主义现代化城市新征程，迎来多重叠加的战略机遇，“一带一路”建设、长江经济带发展、西部陆海新通道建设等国家战略交汇实施，推动成都由内陆腹地转变为开放前沿，引领开放格局系统性重塑；构建新发展格局、新时代推进西部大开发、建设成渝地区双城经济圈等国家战略密集部署，推动成都由国家中心城市向现代化国际都市稳步迈进，引领能级层次全方位跃升