郑州关于成立薄膜设备公司可行性报告.docx
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1、泓域咨询/郑州关于成立薄膜设备公司可行性报告郑州关于成立薄膜设备公司可行性报告xx投资管理公司目录第一章 拟组建公司基本信息8一、 公司名称8二、 注册资本8三、 注册地址8四、 主要经营范围8五、 主要股东8公司合并资产负债表主要数据9公司合并利润表主要数据9公司合并资产负债表主要数据10公司合并利润表主要数据11六、 项目概况11第二章 项目背景、必要性14一、 海外设备厂商在手订单饱满,供应链限制延续14二、 薄膜设备:用于沉积物质,在设备市场占比较高15三、 国内需求爆发,国产替代空间快速打开17四、 坚持创新驱动发展,塑造追赶超越新动能18五、 畅通内外双循环,打造内陆高水平开放新高
2、地22六、 项目实施的必要性25第三章 公司筹建方案27一、 公司经营宗旨27二、 公司的目标、主要职责27三、 公司组建方式28四、 公司管理体制28五、 部门职责及权限29六、 核心人员介绍33七、 财务会计制度35第四章 市场预测42一、 全球市场受海外厂商主导,前五大厂商市占率较高42二、 全球设备市场创新高,受益于资本开支提升、制程节点进步42第五章 发展规划分析47一、 公司发展规划47二、 保障措施51第六章 法人治理结构54一、 股东权利及义务54二、 董事59三、 高级管理人员63四、 监事66第七章 项目环保分析68一、 编制依据68二、 建设期大气环境影响分析69三、 建
3、设期水环境影响分析71四、 建设期固体废弃物环境影响分析71五、 建设期声环境影响分析71六、 环境管理分析72七、 结论74八、 建议74第八章 项目风险评估76一、 项目风险分析76二、 项目风险对策78第九章 选址可行性分析81一、 项目选址原则81二、 建设区基本情况81三、 转变城市发展方式,建设高品质现代化都市87四、 项目选址综合评价92第十章 经济效益分析93一、 经济评价财务测算93营业收入、税金及附加和增值税估算表93综合总成本费用估算表94固定资产折旧费估算表95无形资产和其他资产摊销估算表96利润及利润分配表98二、 项目盈利能力分析98项目投资现金流量表100三、 偿
4、债能力分析101借款还本付息计划表102第十一章 投资方案104一、 投资估算的依据和说明104二、 建设投资估算105建设投资估算表107三、 建设期利息107建设期利息估算表107四、 流动资金109流动资金估算表109五、 总投资110总投资及构成一览表110六、 资金筹措与投资计划111项目投资计划与资金筹措一览表112第十二章 进度计划113一、 项目进度安排113项目实施进度计划一览表113二、 项目实施保障措施114第十三章 总结说明115第十四章 补充表格116主要经济指标一览表116建设投资估算表117建设期利息估算表118固定资产投资估算表119流动资金估算表120总投资及
5、构成一览表121项目投资计划与资金筹措一览表122营业收入、税金及附加和增值税估算表123综合总成本费用估算表123固定资产折旧费估算表124无形资产和其他资产摊销估算表125利润及利润分配表126项目投资现金流量表127借款还本付息计划表128建筑工程投资一览表129项目实施进度计划一览表130主要设备购置一览表131能耗分析一览表131报告说明xx投资管理公司主要由xxx有限责任公司和xxx(集团)有限公司共同出资成立。其中:xxx有限责任公司出资330.00万元,占xx投资管理公司55%股份;xxx(集团)有限公司出资270万元,占xx投资管理公司45%股份。根据谨慎财务估算,项目总投资
6、26096.51万元,其中:建设投资21045.39万元,占项目总投资的80.64%;建设期利息227.86万元,占项目总投资的0.87%;流动资金4823.26万元,占项目总投资的18.48%。项目正常运营每年营业收入54400.00万元,综合总成本费用44450.81万元,净利润7269.98万元,财务内部收益率20.54%,财务净现值8537.20万元,全部投资回收期5.66年。本期项目具有较强的财务盈利能力,其财务净现值良好,投资回收期合理。2020年开始全球领先的晶圆厂纷纷加速扩产提升资本开支,根据ICInsights,2021年全球半导体资本开支增速达到36%,预计2022年将继续
7、增长24%,2020-2022年将会成为自1993-1995年以来的首次CapEx连续三年增速超过20%。半导体设备作为晶圆厂扩产的重要开支部分,根据SEMI,2021年全球晶圆厂前道设备支出增速达到42%,预计2022年将进一步增长18%。本期项目是基于公开的产业信息、市场分析、技术方案等信息,并依托行业分析模型而进行的模板化设计,其数据参数符合行业基本情况。本报告仅作为投资参考或作为学习参考模板用途。第一章 拟组建公司基本信息一、 公司名称xx投资管理公司(以工商登记信息为准)二、 注册资本600万元三、 注册地址郑州xxx四、 主要经营范围经营范围:从事薄膜设备相关业务(企业依法自主选择
8、经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)五、 主要股东xx投资管理公司主要由xxx有限责任公司和xxx(集团)有限公司发起成立。(一)xxx有限责任公司基本情况1、公司简介公司依据公司法等法律法规、规范性文件及公司章程的有关规定,制定并由股东大会审议通过了董事会议事规则,董事会议事规则对董事会的职权、召集、提案、出席、议事、表决、决议及会议记录等进行了规范。 公司不断建设和完善企业信息化服务平台,实施“互联网+”企业专项行动,推广适合企业需求的信息化产品和服务,促进互联网和信息技术在企业经营管理各个
9、环节中的应用,业通过信息化提高效率和效益。搭建信息化服务平台,培育产业链,打造创新链,提升价值链,促进带动产业链上下游企业协同发展。2、主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额10893.858715.088170.39负债总额4324.583459.663243.43股东权益合计6569.275255.424926.95公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入41766.6133413.2931324.96营业利润7444.945955.955583.70利润总额7043.405634.725282.55
10、净利润5282.554120.393803.44归属于母公司所有者的净利润5282.554120.393803.44(二)xxx(集团)有限公司基本情况1、公司简介未来,在保持健康、稳定、快速、持续发展的同时,公司以“和谐发展”为目标,践行社会责任,秉承“责任、公平、开放、求实”的企业责任,服务全国。公司始终坚持“人本、诚信、创新、共赢”的经营理念,以“市场为导向、顾客为中心”的企业服务宗旨,竭诚为国内外客户提供优质产品和一流服务,欢迎各界人士光临指导和洽谈业务。2、主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额10893.858715.08
11、8170.39负债总额4324.583459.663243.43股东权益合计6569.275255.424926.95公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入41766.6133413.2931324.96营业利润7444.945955.955583.70利润总额7043.405634.725282.55净利润5282.554120.393803.44归属于母公司所有者的净利润5282.554120.393803.44六、 项目概况(一)投资路径xx投资管理公司主要从事关于成立薄膜设备公司的投资建设与运营管理。(二)项目提出的理由PVD和CVD是主要的薄膜设备,A
12、LD是产业技术发展趋势。在半导体领域,薄膜主要分给绝缘薄膜、金属薄膜。大部分绝缘薄膜使用CVD,金属薄膜常用PVD(主要是溅射)。其他常用的镀膜方式包括ECD、SOD、MOCVD、Epitaxy等。在薄膜设备整体中,CVD的使用越来越广泛,基于CVD发展的ALD更是行业升级的技术方向。(三)项目选址项目选址位于xx(以最终选址方案为准),占地面积约49.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设。(四)生产规模项目建成后,形成年产xx套薄膜设备的生产能力。(五)建设规模项目建筑面积66049.99,其中:生产工程46125.4
13、2,仓储工程12759.73,行政办公及生活服务设施5350.13,公共工程1814.71。(六)项目投资根据谨慎财务估算,项目总投资26096.51万元,其中:建设投资21045.39万元,占项目总投资的80.64%;建设期利息227.86万元,占项目总投资的0.87%;流动资金4823.26万元,占项目总投资的18.48%。(七)经济效益(正常经营年份)1、营业收入(SP):54400.00万元。2、综合总成本费用(TC):44450.81万元。3、净利润(NP):7269.98万元。4、全部投资回收期(Pt):5.66年。5、财务内部收益率:20.54%。6、财务净现值:8537.20万
14、元。(八)项目进度规划项目建设期限规划12个月。(九)项目综合评价项目产品应用领域广泛,市场发展空间大。本项目的建立投资合理,回收快,市场销售好,无环境污染,经济效益和社会效益良好,这也奠定了公司可持续发展的基础。第二章 项目背景、必要性一、 海外设备厂商在手订单饱满,供应链限制延续在手订单依旧强劲,供应链限制延续,设备大厂积极扩产。1)供给高度紧张:ASML22Q1营收yoy-19%,下滑主要系部分订单确认延迟;毛利率同比-5pt,承压主要系材料、供应链、运输等成本上升;库存周转率降低。泛林毛利率同比-1.7pt,主要系成本压力(原材料、物流、通胀等)。2)订单依旧强劲:ASML新增在手订单
15、约70亿欧元,环比持平。KLA:当前在手订单交期总体56个月,部分产品78月。爱德万客户订单提前量增加,由于系半导体等材料和零件短缺,交期延长。3)积极扩产:ASML预计2030年产能至少翻番,2025年年产能增加到约90套0.33孔径EUV和600套DUV。泰瑞达预计2023研发费用1900亿日元,yoy+20.1%;资本开支750亿日元,yoy+31.1%,规划金额皆较往年有大幅提升。2022下半年展望乐观,全年需求强劲将有订单递延至明年。泛林2022Q2毛利率指引中枢仍略降,持续成本和供应压力影响持续,二季度订单积压不断增加。随产能落地、产品竞争力效益显现及部分订单延迟多数企业对H2展望
16、乐观。ASML预计2022H2表现强劲,毛利率约54%,高于全年52%指引,主要由EUV和DPV出货及安装基础管理业务利润率提升驱动。Q4部分EUV系统收入将递延到2023年。泛林预计2022WFE需求将超1000亿美元,未满足的设备需求将递延至明年。泰瑞达积极建立库存及扩产,预计H2出货有更大增量及灵活性,预计Q2实现增长,仅高端产品出货受限。二、 薄膜设备:用于沉积物质,在设备市场占比较高薄膜生长:采用物理或化学方法使物质附着于衬底材料表面的过程,常见生长物质包括金属、氧化物、氮化物等不同薄膜。根据工作原理不同,薄膜沉积生长设备可分为:物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和外延等
17、类别。PVD和CVD是主要的薄膜设备,ALD是产业技术发展趋势。在半导体领域,薄膜主要分给绝缘薄膜、金属薄膜。大部分绝缘薄膜使用CVD,金属薄膜常用PVD(主要是溅射)。其他常用的镀膜方式包括ECD、SOD、MOCVD、Epitaxy等。在薄膜设备整体中,CVD的使用越来越广泛,基于CVD发展的ALD更是行业升级的技术方向。物理气相沉积(PVD):利用蒸发或溅射,实现原子从源物质到沉底材料表面的物质转移,沉积形成薄膜。物理气相沉积是一种物理气相反应生长法,沉积过程是在真空或低压气体放电条件下,涂层物质源是固态物质,经过“蒸发或溅射”后,在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。PVD
18、具有成膜速率高、镀膜厚度及均匀性可控好、薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高等优点。PVD可以分为真空蒸镀(VacuumEvaporator)和溅射(Sputtering)。PVD发展初期以真空蒸镀镀膜为主,特点是工艺简单、操作容易、纯度较高,缺点是难以蒸发某些金属和氧化物。由于溅射设备制备的薄膜更加均匀、致密,对衬底附着性强,纯度更高,溅射设备取代了蒸镀设备。2020年全球薄膜设备市场达到138亿美元,占IC制造设备21%;其中主要是CVD和PVD,合计占IC制造设备18%。其中,CVD市场规模高度89亿美元,主流是设备包括PECVD、TubeCVD、LPCVD和ALD等。整个薄膜市场市占率最高
19、的是AMAT。高端领域如ALD受ASM、TEL和Lam等海外龙头主导。国内布局IC制造领域薄膜设备的主要国产厂商包括北方华创和沈阳拓荆。CVD市场主要由海外龙头主导,国内北方华创、沈阳拓荆积极布局。根据Gartner数据,全球CVD市场前五大供应商包括AMAT(28%)、LamResearch(25%)、TEL(17%)、Kokusai(原日立高新,8%)、ASM(11%)。国内半导体设备龙头北方华创、沈阳拓荆在该领域也有布局。从PVD市场格局来看,AMAT一家独大,长期占据约80%的市占率。PVD市场主要供应商包括AMAT、ULVAC、Evatec、KLA、TEL、北方华创等。根据Gartn
20、er,2020年北方华创的半导体PVD设备全球市占率为3%,属于国内领先地位。随着国产替代加速,北方华创PVD业务有望加速成长。三、 国内需求爆发,国产替代空间快速打开国内晶圆厂投资进入高峰期。根据集微网统计,20202022年国内晶圆厂总投资金额分别约1500/1400/1200亿元,其中内资晶圆厂投资金额约1000/1200/1100亿元。20202022年国内晶圆厂投资额将是历史上最高的三年,且未来还有新增项目的可能。设备国产化率较低,海外龙头垄断性较高。我国半导体设备市场仍非常依赖进口,从市场格局来看,细分市场均有较高集中度,主要参与厂商一般不超过5家,top3份额往往高于90%,部分
21、设备甚至出现一家独大的情况,目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求,尤其是内资投建的需求。制程越先进,设备投资额占比越高。设备投资一般占比7080%,当制程到16/14nm时,设备投资占比达85%;7nm及以下占比将更高。光刻、刻蚀、沉积、过程控制、热处理等均是重要投资环节。国内国产化逐渐起航,从0到1的过程基本完成。北方华创产品布局广泛,刻蚀机、PVD、CVD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机、ALD等设备新产品市场导入节奏加快,产品工艺覆盖率及客户渗透率进一步提高,在集成电路领域主流生产线实现批量销售,产品加速迭代;第三代半导体、新型显示、光伏设备产品线进一步拓宽,出货量实现较快增长。拓荆科
22、技作为国内唯一一家产业化应用PECVD和SACVD设备的供应商,PECVD累计发货150台,广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、合肥长鑫、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂,PEALD已实现销售;中微公司介质刻蚀机已经打入5nm制程,新款用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备UniMax2022Q1订单已超180腔;芯源微前道涂胶显影设备在28nm及以上多项技术及高产能结构方面取得进展,并实现多种核心零部件的国产替代,公司前道物理清洗设备已经达到国际先进水平并成功实现国产替代,新签订单结构中前道产品占比大幅提升;华海清科CMP设备在逻辑芯片、3DNAND、DRAM制造等领域的工艺技
23、术水平已分别突破至14nm、128层、1X/1Ynm,到2021年底,公司CMP设备累计出货超过140台,未发出产品的在手订单超70台。Mattson(屹唐半导体)在去胶设备市占率全球第二;盛美半导体单片清洗机在海力士、长存、SMIC等产线量产。精测电子、上海睿励在测量领域突破国外垄断。设备国产化率较低,国产厂商成长空间巨大。我国半导体设备市场仍非常依赖进口,目前国内厂商目标市场主要是国内晶圆厂需求,尤其是内资投建的需求,潜在收入目标空间较大。四、 坚持创新驱动发展,塑造追赶超越新动能坚持把科技创新作为国家中心城市核心功能来打造,坚持“四个面向”,深入实施人才强市战略、科技兴市战略、创新驱动发
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