吕梁半导体设备项目招商引资方案.docx
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1、泓域咨询/吕梁半导体设备项目招商引资方案报告说明在手订单依旧强劲,供应链限制延续,设备大厂积极扩产。1)供给高度紧张:ASML22Q1营收yoy-19%,下滑主要系部分订单确认延迟;毛利率同比-5pt,承压主要系材料、供应链、运输等成本上升;库存周转率降低。泛林毛利率同比-1.7pt,主要系成本压力(原材料、物流、通胀等)。2)订单依旧强劲:ASML新增在手订单约70亿欧元,环比持平。KLA:当前在手订单交期总体56个月,部分产品78月。爱德万客户订单提前量增加,由于系半导体等材料和零件短缺,交期延长。3)积极扩产:ASML预计2030年产能至少翻番,2025年年产能增加到约90套0.33孔径
2、EUV和600套DUV。泰瑞达预计2023研发费用1900亿日元,yoy+20.1%;资本开支750亿日元,yoy+31.1%,规划金额皆较往年有大幅提升。根据谨慎财务估算,项目总投资12259.56万元,其中:建设投资9767.31万元,占项目总投资的79.67%;建设期利息253.23万元,占项目总投资的2.07%;流动资金2239.02万元,占项目总投资的18.26%。项目正常运营每年营业收入24300.00万元,综合总成本费用20213.68万元,净利润2983.57万元,财务内部收益率17.18%,财务净现值944.37万元,全部投资回收期6.39年。本期项目具有较强的财务盈利能力,
3、其财务净现值良好,投资回收期合理。通过分析,该项目经济效益和社会效益良好。从发展来看公司将面向市场调整产品结构,改变工艺条件以高附加值的产品代替目前产品的产业结构。本期项目是基于公开的产业信息、市场分析、技术方案等信息,并依托行业分析模型而进行的模板化设计,其数据参数符合行业基本情况。本报告仅作为投资参考或作为学习参考模板用途。目录第一章 项目概况8一、 项目名称及项目单位8二、 项目建设地点8三、 可行性研究范围8四、 编制依据和技术原则9五、 建设背景、规模10六、 项目建设进度11七、 环境影响11八、 建设投资估算11九、 项目主要技术经济指标12主要经济指标一览表12十、 主要结论及
4、建议14第二章 项目背景分析15一、 测试设备:用于测试晶圆片及成品15二、 全球市场受海外厂商主导,前五大厂商市占率较高16三、 光刻机:半导体制程工艺核心环节,将掩膜板图形缩小17四、 技术创新强主体18第三章 产品规划与建设内容19一、 建设规模及主要建设内容19二、 产品规划方案及生产纲领19产品规划方案一览表19第四章 建筑工程可行性分析21一、 项目工程设计总体要求21二、 建设方案22三、 建筑工程建设指标23建筑工程投资一览表23第五章 法人治理结构25一、 股东权利及义务25二、 董事30三、 高级管理人员35四、 监事37第六章 SWOT分析说明40一、 优势分析(S)40
5、二、 劣势分析(W)42三、 机会分析(O)42四、 威胁分析(T)44第七章 发展规划分析49一、 公司发展规划49二、 保障措施50第八章 进度计划方案53一、 项目进度安排53项目实施进度计划一览表53二、 项目实施保障措施54第九章 项目节能说明55一、 项目节能概述55二、 能源消费种类和数量分析56能耗分析一览表56三、 项目节能措施57四、 节能综合评价58第十章 组织机构及人力资源配置59一、 人力资源配置59劳动定员一览表59二、 员工技能培训59第十一章 投资方案61一、 投资估算的编制说明61二、 建设投资估算61建设投资估算表63三、 建设期利息63建设期利息估算表64
6、四、 流动资金65流动资金估算表65五、 项目总投资66总投资及构成一览表66六、 资金筹措与投资计划67项目投资计划与资金筹措一览表68第十二章 项目经济效益分析70一、 基本假设及基础参数选取70二、 经济评价财务测算70营业收入、税金及附加和增值税估算表70综合总成本费用估算表72利润及利润分配表74三、 项目盈利能力分析75项目投资现金流量表76四、 财务生存能力分析78五、 偿债能力分析78借款还本付息计划表79六、 经济评价结论80第十三章 项目招标方案81一、 项目招标依据81二、 项目招标范围81三、 招标要求81四、 招标组织方式82五、 招标信息发布82第十四章 风险风险及
7、应对措施83一、 项目风险分析83二、 项目风险对策85第十五章 项目综合评价88第十六章 补充表格90主要经济指标一览表90建设投资估算表91建设期利息估算表92固定资产投资估算表93流动资金估算表94总投资及构成一览表95项目投资计划与资金筹措一览表96营业收入、税金及附加和增值税估算表97综合总成本费用估算表97固定资产折旧费估算表98无形资产和其他资产摊销估算表99利润及利润分配表100项目投资现金流量表101借款还本付息计划表102建筑工程投资一览表103项目实施进度计划一览表104主要设备购置一览表105能耗分析一览表105第一章 项目概况一、 项目名称及项目单位项目名称:吕梁半导
8、体设备项目项目单位:xxx投资管理公司二、 项目建设地点本期项目选址位于xxx(以选址意见书为准),占地面积约25.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设。三、 可行性研究范围1、项目背景及市场预测分析;2、建设规模的确定;3、建设场地及建设条件;4、工程设计方案;5、节能;6、环境保护、劳动安全、卫生与消防;7、组织机构与人力资源配置;8、项目招标方案;9、投资估算和资金筹措;10、财务分析。四、 编制依据和技术原则(一)编制依据1、国家经济和社会发展的长期规划,部门与地区规划,经济建设的指导方针、任务、产业政策、投资政
9、策和技术经济政策以及国家和地方法规等;2、经过批准的项目建议书和在项目建议书批准后签订的意向性协议等;3、当地的拟建厂址的自然、经济、社会等基础资料;4、有关国家、地区和行业的工程技术、经济方面的法令、法规、标准定额资料等;5、由国家颁布的建设项目可行性研究及经济评价的有关规定;6、相关市场调研报告等。(二)技术原则1、严格遵守国家和地方的有关政策、法规,认真执行国家、行业和地方的有关规范、标准规定;2、选择成熟、可靠、略带前瞻性的工艺技术路线,提高项目的竞争力和市场适应性;3、设备的布置根据现场实际情况,合理用地;4、严格执行“三同时”原则,积极推进“安全文明清洁”生产工艺,做到环境保护、劳
10、动安全卫生、消防设施和工程建设同步规划、同步实施、同步运行,注意可持续发展要求,具有可操作弹性;5、形成以人为本、美观的生产环境,体现企业文化和企业形象;6、满足项目业主对项目功能、盈利性等投资方面的要求;7、充分估计工程各类风险,采取规避措施,满足工程可靠性要求。五、 建设背景、规模(一)项目背景物理气相沉积(PVD):利用蒸发或溅射,实现原子从源物质到沉底材料表面的物质转移,沉积形成薄膜。物理气相沉积是一种物理气相反应生长法,沉积过程是在真空或低压气体放电条件下,涂层物质源是固态物质,经过“蒸发或溅射”后,在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。PVD具有成膜速率高、镀膜厚度及
11、均匀性可控好、薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高等优点。(二)建设规模及产品方案该项目总占地面积16667.00(折合约25.00亩),预计场区规划总建筑面积31355.38。其中:生产工程17975.32,仓储工程7006.40,行政办公及生活服务设施3385.85,公共工程2987.81。项目建成后,形成年产xxx套半导体设备的生产能力。六、 项目建设进度结合该项目建设的实际工作情况,xxx投资管理公司将项目工程的建设周期确定为24个月,其工作内容包括:项目前期准备、工程勘察与设计、土建工程施工、设备采购、设备安装调试、试车投产等。七、 环境影响本项目生产过程中产生的“三废”和产生的噪声均可
12、得到有效治理和控制,各种污染物排放均满足国家有关环保标准。因此在设计和建设中认真按“三同时”落实、执行,严格遵守国家关于基本建设项目中有关环境保护的法规、法令,投产后,在生产中加强管理,不会给周围生态环境带来显著影响。八、 建设投资估算(一)项目总投资构成分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算,项目总投资12259.56万元,其中:建设投资9767.31万元,占项目总投资的79.67%;建设期利息253.23万元,占项目总投资的2.07%;流动资金2239.02万元,占项目总投资的18.26%。(二)建设投资构成本期项目建设投资9767.31万元,包括工程费用、
13、工程建设其他费用和预备费,其中:工程费用8356.45万元,工程建设其他费用1205.26万元,预备费205.60万元。九、 项目主要技术经济指标(一)财务效益分析根据谨慎财务测算,项目达产后每年营业收入24300.00万元,综合总成本费用20213.68万元,纳税总额2004.60万元,净利润2983.57万元,财务内部收益率17.18%,财务净现值944.37万元,全部投资回收期6.39年。(二)主要数据及技术指标表主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积16667.00约25.00亩1.1总建筑面积31355.381.2基底面积9500.191.3投资强度万元/亩371.612总
14、投资万元12259.562.1建设投资万元9767.312.1.1工程费用万元8356.452.1.2其他费用万元1205.262.1.3预备费万元205.602.2建设期利息万元253.232.3流动资金万元2239.023资金筹措万元12259.563.1自筹资金万元7091.803.2银行贷款万元5167.764营业收入万元24300.00正常运营年份5总成本费用万元20213.686利润总额万元3978.097净利润万元2983.578所得税万元994.529增值税万元901.8510税金及附加万元108.2311纳税总额万元2004.6012工业增加值万元6969.8213盈亏平衡点
15、万元10193.31产值14回收期年6.3915内部收益率17.18%所得税后16财务净现值万元944.37所得税后十、 主要结论及建议经初步分析评价,项目不仅有显著的经济效益,而且其社会救益、生态效益非常显著,项目的建设对提高农民收入、维护社会稳定,构建和谐社会、促进区域经济快速发展具有十分重要的作用。项目在社会经济、自然条件及投资等方面建设条件较好,项目的实施不但是可行而且是十分必要的。第二章 项目背景分析一、 测试设备:用于测试晶圆片及成品半导体测试包括晶圆允收测试(WAT)、晶圆检测(CP)、成品测试(FT)。WAT环节涉及测试机、分选机、探针台;CP由测试机、探针台搭配完成;FT涉及
16、测试机、分选机搭配完成。晶圆检测(CP)是指在晶圆完成后进行封装前,通过探针台和测试机的配合使用,对晶圆上的裸芯片进行功能和电参数测试。成品测试(FT)是指芯片完成封装后,通过分选机和测试机的配合使用,对封装完成后的芯片进行功能和电参数测试。测试机行业面临的测试任务日益复杂,测试机的测试能力和配置需求都在提高。随着集成电路管脚数增多、测试时间增长,包括华峰测控在内的测试机企业越来越多地采用多工位并测的方案来降低测试时间,推出测试覆盖面更广、资源更多的测试设备,不断提高测试系统的可靠性和稳定性,以降低客户平均到每颗器件的测试成本。测试技术要求不断提高。测试产品技术发展趋势主要包括:(1)并行测试
17、数量和测试速度的要求不断提升;(2)功能模块需求增加;(3)对测试精度的要求提升;(4)要求使用通用化软件开发平台;(5)对数据分析能力提升,全球半导体测试设备市场保持稳步增长,其中测试机占比最高。根据VLSI,全球半导体后道测试设备市场(含测试机、分选机、探针台)规模约50亿美元。检测设备市场空间大,包括CP测试和FT测试在内的半导体测试设备占半导体设备市场空间15%20%。整个测试设备市场中,测试机比重最高,分选机与探针台相对较少。测试机按测试对象包括模拟、混合、数字、SOC、存储器测试机等市场。半导体测试设备市场呈现寡头垄断格局。集成电路检测在测试精度、速度、效率和可靠性等方面要求高。全
18、球先进测试设备制造技术基本掌握在美国、日本等集成电路产业发达国家厂商手中,市场格局呈现泰瑞达、爱德万、科休、科利登等四家厂商寡头垄断。各家厂商在检测设备侧重点也有所区别,如泰瑞达(Teradyne)主要产品为测试机,爱德万(Advantest)主要产品为测试机和分选机,科利登(Xcerra)主要产品为测试机,东京电子(TokyoElectron)主要产品为探针台,北京华峰主要产品为测试机,上海中艺主要产品为分选机。爱德万和泰瑞达在全球测试设备合计市场份额达到70%以上。二、 全球市场受海外厂商主导,前五大厂商市占率较高全球设备五强占市场主导角色。全球设备竞争格局,主要前道工艺(刻蚀、沉积、涂胶
19、、热处理、清洗等)整合成三强AMAT、LAM、TEL。另外,光刻机龙头ASML市占率80%+;过程控制龙头KLA市占率50%。根据SEMI,ASML、AMAT、LAMResearch、TEL、KLA五大厂商2021年收入合计788亿美元,占全球市场约77%。综合看下来,设备五强市场在各赛道合计市占率基本在50%以上。AMSL优势在光刻方面遥遥领先;AMAT优势在产品线广,沉积(CVD、PVD)市占率高;LAM优势在刻蚀领域;TEL优势在小赛道如涂胶、去胶、热处理;KLA优势在过程控制。三、 光刻机:半导体制程工艺核心环节,将掩膜板图形缩小2020年,全球光刻机市场约135亿美元,占全球半导体制
20、造设备市场21%。光刻机市场一直以来在全球设备市场中的比重都较高,具有较高技术难度,并且单台设备价值量也较高,属于半导体制造设备的“皇冠”。光刻机单机价值量高,每年出货数量约300400台。根据ASML、Nikon、Canon三家光刻机财报数据统计,近两年全球光刻机每年出货量大约在300400台之间,整体均价约0.3亿美元。其中主要产品是KrF约90100台,ArFi约90100台。近几年EUV出货量在逐步增长,全球仅有ASML具备供应能力,每年出货3050台,均价超过1亿美元。光刻机的供给有限,前三大晶圆制造领先厂商占据大部分需求。ASML在2020年一共销售34台EUV光刻机,2021年E
21、UV光刻机的产能将增长到4550台。从历史需求端来看,全球90%以上的EUV光刻机由TSMC、Samsung、Intel三家采购,其他诸如代工厂GobalFoundries、存储厂海力士、美光每年最多采购1台光刻机。ASML主导全球光刻机市场。从光刻机格局来看,2020年ASML占据全球光刻机市场84%的市场空间,Nikon约7%,Canon约5%。ASML具有高度的垄断地位,并且由于EUV跨越式的升级进步,ASML在技术上的领先性更加明显。国内上海微布局前道光刻机设备。上海微电子装备(集团)股份有限公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司于
22、2002年成立,2006年公司光刻机产品注册商标获得国家工商局批准。四、 技术创新强主体落实高新技术企业、科技型中小企业扶持政策,支持行业龙头企业创建重点产业技术创新联盟,带动中小企业开展创新活动。实施高新技术企业倍增计划,力争高新技术企业达75家、科技型中小企业达90家。加强知识产权保护,争取有效发明专利达270件。第三章 产品规划与建设内容一、 建设规模及主要建设内容(一)项目场地规模该项目总占地面积16667.00(折合约25.00亩),预计场区规划总建筑面积31355.38。(二)产能规模根据国内外市场需求和xxx投资管理公司建设能力分析,建设规模确定达产年产xxx套半导体设备,预计年
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