第1章-半导体二极管和三极管2分解优秀PPT.ppt
《第1章-半导体二极管和三极管2分解优秀PPT.ppt》由会员分享,可在线阅读,更多相关《第1章-半导体二极管和三极管2分解优秀PPT.ppt(44页珍藏版)》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。
1、下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程1.3 晶体管晶体管1.3.1 晶体管的结构及类型晶体管的结构及类型1.3.2 晶体管的放大原理晶体管的放大原理1.3.3 晶体管的共射特性曲线晶体管的共射特性曲线1.3.5 晶体管的主要参数晶体管的主要参数1.3.6 温度对晶体管特性及参数的影响温度对晶体管特性及参数的影响1.3.1.3.7 7 由晶体管组成的门电路由晶体管组成的门电路由晶体管组成的门电路由晶体管组成的门电路1.3.4 晶体管的共基特性曲线晶体管的共基特性曲线下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程 1.3.1 晶体管的结构和
2、类型晶体管的结构和类型1.1.晶体管的外形图晶体管的外形图晶体管的外形图晶体管的外形图下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程 1.3.1 晶体管的结构和类型晶体管的结构和类型1.1.晶体管的外形图晶体管的外形图晶体管的外形图晶体管的外形图下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程基极基极基极基极放射极放射极放射极放射极集电极集电极集电极集电极BEC符号:符号:符号:符号:BECIBIEICBECIBIEICNPN型型三三 个个 极极三三 个个 区区两两个个PN结结 1.3.1 晶体管的结构和类型晶体管的结构和类型.晶体管的结构和类型晶
3、体管的结构和类型晶体管的结构和类型晶体管的结构和类型NNPPNP型型B BE EC CP PP PN N基极基极基极基极发射极发射极发射极发射极集电极集电极集电极集电极下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程基区:最薄,基区:最薄,基区:最薄,基区:最薄,多子浓度最低多子浓度最低多子浓度最低多子浓度最低放射区:多子放射区:多子放射区:多子放射区:多子浓度最高浓度最高浓度最高浓度最高放射结放射结放射结放射结集电结集电结集电结集电结B BE EC CN NN NP P基极基极基极基极放射极放射极放射极放射极集电极集电极集电极集电极3.3.结构特点结构特点结构特点结构特
4、点集电区:集电区:集电区:集电区:结面积最大结面积最大结面积最大结面积最大 1.3.1 晶体管的结构和类型晶体管的结构和类型下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程1.3.2 晶体管的放大原理晶体管的放大原理晶体管三种工作状态晶体管三种工作状态晶体管三种工作状态晶体管三种工作状态放大:发射结正偏,集电结反偏。放大:发射结正偏,集电结反偏。放大:发射结正偏,集电结反偏。放大:发射结正偏,集电结反偏。饱和:发射结正偏,集电结正偏。饱和:发射结正偏,集电结正偏。饱和:发射结正偏,集电结正偏。饱和:发射结正偏,集电结正偏。截止:发射结反偏,集电结反偏。截止:发射结反偏,集
5、电结反偏。截止:发射结反偏,集电结反偏。截止:发射结反偏,集电结反偏。下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程1.1.粗浅理解粗浅理解粗浅理解粗浅理解“放大放大放大放大”作作作作用用用用xI-自自变变量量 xO-因因变变量量 A为常数时为常数时xO与xI呈线性关系。呈线性关系。当当xI是是电电路路的的输输入入信信号号,xO是是电电路路的的输输出出信信号号时时,A就就是是电路的增益电路的增益(放大倍数)(放大倍数)。传输特性曲线传输特性曲线1.3.2 晶体管的放大原理晶体管的放大原理“放大放大放大放大”作用可以理解为一种限制作用。作用可以理解为一种限制作用。作用可以
6、理解为一种限制作用。作用可以理解为一种限制作用。晶体管的晶体管的晶体管的晶体管的“放大放大放大放大”作用表现为作用表现为作用表现为作用表现为iBiB或或或或iEiE对对对对iCiC的限制作的限制作的限制作的限制作用。用。用。用。下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程2 2.晶体管放大的条件晶体管放大的条件晶体管放大的条件晶体管放大的条件放射结正偏、集电结反偏放射结正偏、集电结反偏放射结正偏、集电结反偏放射结正偏、集电结反偏 PNP PNP放射结正偏放射结正偏放射结正偏放射结正偏 VBVE VBVE集电结反偏集电结反偏集电结反偏集电结反偏 VCVB VCVE VB
7、VE集电结反偏集电结反偏集电结反偏集电结反偏 VCVB VCVB 1.3.2 晶体管的放大原理晶体管的放大原理放射区多子浓度最高。放射区多子浓度最高。放射区多子浓度最高。放射区多子浓度最高。基区最薄,多子浓度最低。基区最薄,多子浓度最低。基区最薄,多子浓度最低。基区最薄,多子浓度最低。集电结面积最大。集电结面积最大。集电结面积最大。集电结面积最大。uu内部条件:内部条件:内部条件:内部条件:uu外部条件:外部条件:外部条件:外部条件:B BEC CN NN NP PVBBRbV VCCCCRC共放射极放大电路共放射极放大电路共放射极放大电路共放射极放大电路下一页下一页总目录总目录 章目录章目录
8、返回返回上一页上一页黑工程黑工程1.3.2 晶体管的放大原理晶体管的放大原理 测量晶体管特性的实验线路测量晶体管特性的实验线路测量晶体管特性的实验线路测量晶体管特性的实验线路(共发射极电路共发射极电路)ICVBBmA AVUCEUBERbIBVCCV+RCI IB B(mA)(mA)I IC C(mA)(mA)I IE E(mA)(mA)0 00.020.020.040.040.060.060.080.080.100.100.0010.0010.700.701.501.502.302.303.103.103.953.950.0010.0010.720.721.541.542.362.363.1
9、83.184.054.05I IE E=I IB B+I IC C3.3.电流安排及电流放大作用电流安排及电流放大作用电流安排及电流放大作用电流安排及电流放大作用I IC C I IE E I IB B 结论:基极电流可限制集电极电流;结论:基极电流可限制集电极电流;结论:基极电流可限制集电极电流;结论:基极电流可限制集电极电流;这种限制作用称为晶体管的电流放大作用。这种限制作用称为晶体管的电流放大作用。这种限制作用称为晶体管的电流放大作用。这种限制作用称为晶体管的电流放大作用。下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程1.3.2 晶体管的放大原理晶体管的放大原理
10、测量晶体管特性的实验线路测量晶体管特性的实验线路测量晶体管特性的实验线路测量晶体管特性的实验线路(共发射极电路共发射极电路)ICVBBmA AVUCEUBERbIBVCCV+RC3.3.电流安排及电流放大作用电流安排及电流放大作用电流安排及电流放大作用电流安排及电流放大作用 测量晶体管特性的实验线路测量晶体管特性的实验线路测量晶体管特性的实验线路测量晶体管特性的实验线路(共射电路共射电路)iCVBBmA AVuCEuBERbiBVCCV+RC+ui下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程NNPEVBBRbVCCRcCICBO扩散运动形成放射极电流扩散运动形成放射极
11、电流IE复合运动形成基极电流复合运动形成基极电流IB漂移运动形成集电极电流漂移运动形成集电极电流IC因放射区多子浓度高因放射区多子浓度高使大量电子从放射区使大量电子从放射区扩散到基区。扩散到基区。因基区薄且多子浓度低因基区薄且多子浓度低,使极少数扩散到基区的使极少数扩散到基区的电子与空穴复合。电子与空穴复合。少数载流少数载流子的运动子的运动基区空穴的基区空穴的扩散可忽视扩散可忽视4 4.晶体管内部载流子的运动规律晶体管内部载流子的运动规律晶体管内部载流子的运动规律晶体管内部载流子的运动规律1.3.2 晶体管的放大原理晶体管的放大原理因集电区面积大因集电区面积大,在外电场在外电场作用下大部分扩散
12、到基区作用下大部分扩散到基区的电子漂移到集电区。的电子漂移到集电区。BIEIBIBNIEPICNIENIC下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程NNPEVBBRbVCCRcCICBO4 4.晶体管内部载流子的运动规律晶体管内部载流子的运动规律晶体管内部载流子的运动规律晶体管内部载流子的运动规律1.3.2 晶体管的放大原理晶体管的放大原理BIEIBIBNIEPICNIENIC1.IC受受IE限制,限制,2.IC受受IE限制,限制,3.IB可限制可限制IC,4.IB可限制可限制IC,5.内部结构:内部结构:在放射区掺杂浓度高和集电在放射区掺杂浓度高和集电区结面积大的
13、前提下,基区尺区结面积大的前提下,基区尺寸和掺杂浓度,确定电流寸和掺杂浓度,确定电流IB可以限制电流可以限制电流IC。4.外部条件:外部条件:放射结正偏集电结反偏保证可放射结正偏集电结反偏保证可能放大。能放大。下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程 即管子各电极电压与电流的关系曲线。即管子各电极电压与电流的关系曲线。为什么要探讨特性曲线:为什么要探讨特性曲线:为什么要探讨特性曲线:为什么要探讨特性曲线:直观地分析管子的工作状态直观地分析管子的工作状态直观地分析管子的工作状态直观地分析管子的工作状态 合理地选择偏置电路的参数,设计性能良好的电路合理地选择偏置电路的
14、参数,设计性能良好的电路合理地选择偏置电路的参数,设计性能良好的电路合理地选择偏置电路的参数,设计性能良好的电路 重点探讨应用最广泛的共放射极接法的特性曲线重点探讨应用最广泛的共放射极接法的特性曲线1.3.3 晶体管的共射特性曲线晶体管的共射特性曲线共射极共射极共集电极共集电极共基极共基极下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程uCE=0VuCE=0.5VuCE 1V1.3.3 晶体管的共射特性曲线晶体管的共射特性曲线1.1.输入特性输入特性输入特性输入特性为什么为什么UCE增大曲线右移?增大曲线右移?为什么像为什么像PN结的伏安特性?结的伏安特性?为什么为什么U
15、CE增大到确定值增大到确定值曲线右移就不明显了?曲线右移就不明显了?iB/AuBE/V204060800.4 0.8O 线性区线性区线性区线性区,NPN,NPN型硅管型硅管型硅管型硅管U UBEBE 0.60.7V,PNP 0.60.7V,PNP型锗管型锗管型锗管型锗管U UBE BE -0.2 -0.3V-0.2 -0.3V 存在死区,其中存在死区,其中存在死区,其中存在死区,其中NPNNPN硅管硅管硅管硅管U Uonon约为约为约为约为0.5V;PNP0.5V;PNP锗管锗管锗管锗管U Uonon约为约为约为约为-0.1V-0.1V 为什么为什么 研究?研究?输入特性是非线性的。输入特性是
16、非线性的。当当uCE1V时时,uCE对输入特性几乎无影响对输入特性几乎无影响,输入曲线几乎重合。输入曲线几乎重合。下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程对应于一个对应于一个iB就有一条就有一条iC随随uCE变更的曲线。变更的曲线。2.2.输出特性输出特性输出特性输出特性1.3.3 晶体管的共射特性曲线晶体管的共射特性曲线iB=020 A40 A60 A80 A100 A36iC(mA )1234uCE(V)912O40 A下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程是常数吗?什么是理想晶体管?什么情况下是常数吗?什么是理想晶体管?什么情
17、况下?为什么为什么uCE较小时较小时iC随随uCE变更很大?为什么进入放大状变更很大?为什么进入放大状态曲线几乎是横轴的平行线?态曲线几乎是横轴的平行线?2.2.输出特性输出特性输出特性输出特性1.3.3 晶体管的共射特性曲线晶体管的共射特性曲线iB=020 A40 A60 A80 A100 A36iC(mA )1234uCE(V)912O40 A下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程iB=020 A40 A60 A80 A100 A36iC(mA )1234uCE(V)912O放大区放大区输出特性曲线通常分三个工作区:输出特性曲线通常分三个工作区:输出特性曲线
18、通常分三个工作区:输出特性曲线通常分三个工作区:(1)(1)放大区放大区放大区放大区2.2.输出特性输出特性输出特性输出特性1.3.3 晶体管的共射特性曲线晶体管的共射特性曲线a.a.放射结处于正偏、集电结处放射结处于正偏、集电结处放射结处于正偏、集电结处放射结处于正偏、集电结处 b.b.于于于于反反反反偏偏偏偏,管管管管子子子子工工工工作作作作于于于于放放放放大大大大状状状状态。态。态。态。b.iC=iB,称为线性区。称为线性区。称为线性区。称为线性区。c.具有恒流特性具有恒流特性具有恒流特性具有恒流特性,iC与与uCE无关。无关。iC几几乎乎仅仅仅仅确确定定于于电电流流iB,可可将将输输出
19、出回回路路等等效效为为电电流流iB 限制的电流源限制的电流源iC。下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程i iB B=0=02020 A A4040 A A6060 A A8080 A A100100 A A3 36 6i iC C(mmA )A )1 12 23 34 4u uCECE(V)(V)9 91212O(2 2)截止区)截止区)截止区)截止区i iB B=0=0 以下区域为以下区域为以下区域为以下区域为截止区,有截止区,有截止区,有截止区,有 i iC C 0 0 。在在在在截截截截止止止止区区区区时时时时,放放放放射射射射结结结结小小小小于于于于开
20、开开开启启启启电电电电压压压压且且且且集集集集电电电电结结结结处处处处于于于于反反反反向向向向偏偏偏偏置置置置,晶体管工作于截止状态。晶体管工作于截止状态。晶体管工作于截止状态。晶体管工作于截止状态。截止区截止区截止区截止区牢靠截止:牢靠截止:牢靠截止:牢靠截止:放射结反偏,集电结反偏。放射结反偏,集电结反偏。放射结反偏,集电结反偏。放射结反偏,集电结反偏。输出特性曲线通常分三个工作区:输出特性曲线通常分三个工作区:输出特性曲线通常分三个工作区:输出特性曲线通常分三个工作区:2.2.输出特性输出特性输出特性输出特性1.3.3 晶体管的共射特性曲线晶体管的共射特性曲线下一页下一页总目录总目录 章
21、目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程i iB B=0=02020 A A4040 A A6060 A A8080 A A100100 A A3 36 6i iC C(mmA )A )1 12 23 34 4u uCECE(V)(V)9 91212O饱饱饱饱和和和和区区区区(3)(3)饱和区饱和区饱和区饱和区 a.a.放射结和集电结均处于正偏。放射结和集电结均处于正偏。放射结和集电结均处于正偏。放射结和集电结均处于正偏。b.b.i iB B i iC C d.d.在深度饱和时,在深度饱和时,在深度饱和时,在深度饱和时,NPNNPN硅管硅管硅管硅管U UCES CES 0.3V 0.3V,P
22、NPPNP锗管锗管锗管锗管U UCES CES -0.1V-0.1V。输出特性曲线通常分三个工作区:输出特性曲线通常分三个工作区:输出特性曲线通常分三个工作区:输出特性曲线通常分三个工作区:2.2.输出特性输出特性输出特性输出特性1.3.3 晶体管的共射特性曲线晶体管的共射特性曲线c.uCE增大增大,iC 增大。增大。下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程1.1.输入特性曲线输入特性曲线输入特性曲线输入特性曲线基本关系基本关系 随随着着uCB的的增增加加,外外加加电电压压增增加加了了集集电电结结内内电电场场,集集电电结结收收集集载载流流子子实实力力增增加加,使使
23、得得在在同同样样的的uBE下下,iE略略有增加,特性曲线左移。有增加,特性曲线左移。1.3.4 晶体管的共基特性曲线晶体管的共基特性曲线uBEuCB下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程2.2.输出特性曲线输出特性曲线输出特性曲线输出特性曲线 iE=0时时,内内部部载载流流子子运动示意图如下图所示。运动示意图如下图所示。1.3.4 晶体管的共基特性曲线晶体管的共基特性曲线uBEuCB下一页下一页总目录总目录 章目录章目录返回返回上一页上一页黑工程黑工程uCB=-uDiC=-iD坐标变换后坐标变换后1.3.4 晶体管的共基特性曲线晶体管的共基特性曲线2.2.输出特
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 半导体 二极管 三极管 分解 优秀 PPT
限制150内