第9章半导体二极管和三极管.优秀PPT.ppt
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1、电电 工工 学学东华理工高校东华理工高校机械与电子工程学院基础教学部机械与电子工程学院基础教学部海南风光 下篇下篇 电子技术模拟电子技术模拟电子技术 晶体管基础晶体管基础 放大电路放大电路 运算运算放大器电路放大器电路 直流电源直流电源数字电子技术数字电子技术 组合逻辑电路组合逻辑电路 时序逻辑电路时序逻辑电路下篇下篇从从20世纪初起先,人们相继发觉了真空和半导体电世纪初起先,人们相继发觉了真空和半导体电子器件,以检波、放大及开关等功能为核心的电子子器件,以检波、放大及开关等功能为核心的电子技术得到快速发展。技术得到快速发展。从从1948美国贝尔试验室独创半导体晶体管以来,半导体美国贝尔试验室
2、独创半导体晶体管以来,半导体电子器件逐步取代电子管而成为应用电子技术的主角,电子器件逐步取代电子管而成为应用电子技术的主角,经验了分立器件、集成电路、大规模和超大规模的集成经验了分立器件、集成电路、大规模和超大规模的集成电路。其应用领域遍及广播、通讯、测量、限制电路。其应用领域遍及广播、通讯、测量、限制;今日,计算机已经以高技术的载体进入到各个领域,为今日,计算机已经以高技术的载体进入到各个领域,为人类文明的发展树立了一座宏伟的里程碑。人类文明的发展树立了一座宏伟的里程碑。划时代的独创划时代的独创半导体电子学半导体电子学50年年 :/db66 今日今日,听广播、看电视已成为人们日听广播、看电视
3、已成为人们日常生活中最一般的事。个人计算机正在常生活中最一般的事。个人计算机正在进入寻常百姓家。人们在享用现代科技进入寻常百姓家。人们在享用现代科技成果时,未必都能想到,就在身边的收成果时,未必都能想到,就在身边的收音机、电视机、计算机里,曾经发生过音机、电视机、计算机里,曾经发生过几次天翻地覆的大革命。几次天翻地覆的大革命。第一次大革命发生在第一次大革命发生在1906年。那一年,美国年。那一年,美国人德福雷斯特独创了真空三极管。由这种真空三人德福雷斯特独创了真空三极管。由这种真空三极管和其他一些元件(电阻、电容、电感等)组极管和其他一些元件(电阻、电容、电感等)组成放大电路,可以把收音机接收
4、的信号放大十倍、成放大电路,可以把收音机接收的信号放大十倍、百倍乃至千倍。这样,收音机就能收到更远的电百倍乃至千倍。这样,收音机就能收到更远的电台,而且音量更大、音质更好。真空是靠在真空台,而且音量更大、音质更好。真空是靠在真空中运动的电子来实现放大的,所以人们也把它称中运动的电子来实现放大的,所以人们也把它称为电子管。为电子管。真空管体积大、耗电多,发热量也大,寿命又真空管体积大、耗电多,发热量也大,寿命又不够长,缺点不少。到了不够长,缺点不少。到了20世纪世纪40年头,人们把年头,人们把收音机和其他电子设备做得小巧些,寿命更长、收音机和其他电子设备做得小巧些,寿命更长、牢靠性更高些,用真空
5、管很难办到。于是,电子牢靠性更高些,用真空管很难办到。于是,电子学领域里的其次次革命爆发了。学领域里的其次次革命爆发了。晶体管革命晶体管革命 在在20世纪世纪30年头,美国的贝尔试验室里有年头,美国的贝尔试验室里有3位值位值得留意的人物:得留意的人物:探讨部主任默文探讨部主任默文凯利、探讨人员布拉顿和肖凯利、探讨人员布拉顿和肖克利。克利。凯利是一位富有创见的科技管理者,凯利是一位富有创见的科技管理者,早在早在30年头中期,他已经意识到用于电话交换机的机电年头中期,他已经意识到用于电话交换机的机电继电器动作速度太慢,如不淘汰势必影响电话技术继电器动作速度太慢,如不淘汰势必影响电话技术的进步。的进
6、步。1936年,凯利明确地向肖克利表示,年,凯利明确地向肖克利表示,为为了适应通信业务的增长,电话的机械交换必将被电了适应通信业务的增长,电话的机械交换必将被电子交换取代。真空管又存在很多致命的弱点,寻求子交换取代。真空管又存在很多致命的弱点,寻求建立在新材料、新原理基础上的新型电子器件便成建立在新材料、新原理基础上的新型电子器件便成了当务之急。了当务之急。1956年年12月月10日,肖克利、巴丁、布拉顿经过日,肖克利、巴丁、布拉顿经过20年年的努力最终攻克了这一难题,研制出晶体管。为此的努力最终攻克了这一难题,研制出晶体管。为此他们从瑞典国王手中接过了诺贝尔物理奖的证书。他们从瑞典国王手中接
7、过了诺贝尔物理奖的证书。他们为人类奉献的,不仅是一项宏大的技术独创,他们为人类奉献的,不仅是一项宏大的技术独创,而且是半导体物理学的划时代的新发觉。而且是半导体物理学的划时代的新发觉。晶体管的独创是电子学领域的一场革命。晶体管的独创是电子学领域的一场革命。与电子管相比,晶体管体积仅为与电子管相比,晶体管体积仅为1/100,耗电量也仅为耗电量也仅为1/100,而寿命却要长,而寿命却要长100倍。倍。晶体管以咄咄逼晶体管以咄咄逼“人人”之势占据了原被电子管占据之势占据了原被电子管占据的舞台,到的舞台,到50年头末,接受晶体管的收音机、电视年头末,接受晶体管的收音机、电视机已比比皆是了。机已比比皆是
8、了。到到50年头末,人们越来越猛烈地感到,一个个相互年头末,人们越来越猛烈地感到,一个个相互独立的元件、器件的小型化之路,将走到终点。这独立的元件、器件的小型化之路,将走到终点。这是因为:是因为:一个困难的电路,里面有大量的元器件,这些一个困难的电路,里面有大量的元器件,这些“零零件件”之间要用导线连接起来。大量的导线也限制了之间要用导线连接起来。大量的导线也限制了电路体积的缩小。电路体积的缩小。在科学技术发展的关键时刻,在科学技术发展的关键时刻,往往须要富有想象力的科学家创建全新的观念。往往须要富有想象力的科学家创建全新的观念。1958年,就出现了两位这样的人物:年,就出现了两位这样的人物:
9、基尔比和诺伊斯。基尔比和诺伊斯。1958年年9月月12日,基尔比的第一个集成电路试验日,基尔比的第一个集成电路试验获得成功。在这一年里,获得成功。在这一年里,美国仙童公司的美国仙童公司的RN诺伊斯也诺伊斯也研制出第一块集成电路片。研制出第一块集成电路片。到今日,集成电路已走过到今日,集成电路已走过40多年的历程。多年的历程。在这在这40多年中,集成电路发生了巨大的变更。多年中,集成电路发生了巨大的变更。先说说在一个芯片上能集成多少个器件。先说说在一个芯片上能集成多少个器件。1958年,集成电路诞生时,那个芯片上只有年,集成电路诞生时,那个芯片上只有5个元个元器件;器件;1971年独创的微处理器
10、,年独创的微处理器,上面集成了上面集成了2,300个器件;个器件;1989年英特尔公司年英特尔公司80486芯片,芯片,集成了集成了120万个晶体管;万个晶体管;今日,一个高性能的微处理器上可集成今日,一个高性能的微处理器上可集成2.5亿个以上亿个以上的器件。的器件。再看集成电路里半导体器件的尺寸:再看集成电路里半导体器件的尺寸:1959年大约是年大约是100微米,微米,到到1961年下降到年下降到25微米。微米。1984年研制的年研制的1兆位半导体存储器,线宽大约兆位半导体存储器,线宽大约1微米;微米;1990年的年的64兆位半导体存储器,线宽降至兆位半导体存储器,线宽降至0.3微米。微米。
11、到到2004年,线宽就仅有年,线宽就仅有0.1微米了。微米了。0.1微米约为一般原子尺度的微米约为一般原子尺度的100倍,倍,集成电路与分子电路已经很接近。集成电路与分子电路已经很接近。此外,芯片的进步还表现在运算速度上。此外,芯片的进步还表现在运算速度上。时钟频率确定着芯片完成一次运算的速度。时钟频率确定着芯片完成一次运算的速度。目前,高性能微处理器运算速度高达每秒近目前,高性能微处理器运算速度高达每秒近10亿次亿次第第 9 章章半导体二极管和三极管半导体二极管和三极管9-1.半导体的导电特性半导体的导电特性9-2.半导体二极管半导体二极管9-3.稳压管稳压管9-4.半导体三极管半导体三极管
12、第第9章章半导体二极管和三极管半导体二极管和三极管导体、半导体和绝缘体导体、半导体和绝缘体导体:自然界中很简洁导电的物质称为导体,金属导体:自然界中很简洁导电的物质称为导体,金属一般都是导体。一般都是导体。绝缘体:绝缘体:有的物质几乎不导电,称为有的物质几乎不导电,称为绝缘体绝缘体,如橡皮,如橡皮、陶瓷、塑料和石英。、陶瓷、塑料和石英。半导体:半导体:另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘体另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘体之间,称为之间,称为半导体半导体,如锗、硅、砷化镓和,如锗、硅、砷化镓和一些硫化物、氧化物等。一些硫化物、氧化物等。9-1.半导体的导电特性半导体的导电特性半导体半导体-
13、导电实力介于导体和半导体之间的材料。导电实力介于导体和半导体之间的材料。常见的半导体材料有硅、锗、硒及很多金属的氧化物常见的半导体材料有硅、锗、硒及很多金属的氧化物和硫化物等。半导体材料多以晶体的形式存在。和硫化物等。半导体材料多以晶体的形式存在。半导体材料的特性:半导体材料的特性:1.纯净半导体的导电实力很差;纯净半导体的导电实力很差;2.温度上升温度上升导电实力增加;导电实力增加;3.光照增加光照增加导电实力增加;导电实力增加;4.掺入少量杂质掺入少量杂质导电实力增加。导电实力增加。完全纯净、具有晶体结构的半导体完全纯净、具有晶体结构的半导体一、本征半导体最常用的半导体为硅(Si)和锗(G
14、e)。它们的共同特征是四价元素四价元素,每个原子最外层电子数为 4。+SiGe完全纯净的、具有晶体结构的半导体,称为本征半导体。完全纯净的、具有晶体结构的半导体,称为本征半导体。完全纯净的、具有晶体结构的半导体,称为本征半导体。完全纯净的、具有晶体结构的半导体,称为本征半导体。晶体中原子的排列方式晶体中原子的排列方式晶体中原子的排列方式晶体中原子的排列方式硅单晶中的共价健结构硅单晶中的共价健结构硅单晶中的共价健结构硅单晶中的共价健结构共价健共价健共价键中的两个电子,称为共价键中的两个电子,称为共价键中的两个电子,称为共价键中的两个电子,称为价电子价电子价电子价电子。Si Si Si Si价电子
15、价电子相邻原子由外层电子形成共价键共价键 Si Si Si Si价电子价电子 价电子在获得确定能量价电子在获得确定能量价电子在获得确定能量价电子在获得确定能量(温度上升或受光照)后,即(温度上升或受光照)后,即(温度上升或受光照)后,即(温度上升或受光照)后,即可摆脱原子核的束缚,成为自可摆脱原子核的束缚,成为自可摆脱原子核的束缚,成为自可摆脱原子核的束缚,成为自由电子(带负电),同时共价由电子(带负电),同时共价由电子(带负电),同时共价由电子(带负电),同时共价键中留下一个空位,称为空穴键中留下一个空位,称为空穴键中留下一个空位,称为空穴键中留下一个空位,称为空穴(带正电)。(带正电)。(
16、带正电)。(带正电)。本征半导体的导电机理本征半导体的导电机理本征半导体的导电机理本征半导体的导电机理这一现象称为本征激发。这一现象称为本征激发。空穴空穴温度愈高,晶体中产生的温度愈高,晶体中产生的温度愈高,晶体中产生的温度愈高,晶体中产生的自由电子便愈多。自由电子便愈多。自由电子便愈多。自由电子便愈多。自由电子自由电子在外电场的作用下,空穴吸引相邻原子的价电子来在外电场的作用下,空穴吸引相邻原子的价电子来在外电场的作用下,空穴吸引相邻原子的价电子来在外电场的作用下,空穴吸引相邻原子的价电子来填补,而在该原子中出现一个空穴,其结果相当于填补,而在该原子中出现一个空穴,其结果相当于填补,而在该原
17、子中出现一个空穴,其结果相当于填补,而在该原子中出现一个空穴,其结果相当于空穴的运动(相当于正电荷的移动)。空穴的运动(相当于正电荷的移动)。空穴的运动(相当于正电荷的移动)。空穴的运动(相当于正电荷的移动)。当半导体两端加上外电压时,在半导体中将出现当半导体两端加上外电压时,在半导体中将出现当半导体两端加上外电压时,在半导体中将出现当半导体两端加上外电压时,在半导体中将出现两部分电流两部分电流两部分电流两部分电流 (1)(1)自由电子作定向运动自由电子作定向运动自由电子作定向运动自由电子作定向运动 电子电流电子电流电子电流电子电流 (2)(2)价电子递补空穴价电子递补空穴价电子递补空穴价电子
18、递补空穴 空穴电流空穴电流空穴电流空穴电流留意:留意:留意:留意:(1)(1)本征半导体中载流子数目极少本征半导体中载流子数目极少本征半导体中载流子数目极少本征半导体中载流子数目极少,其导电性能很差;其导电性能很差;其导电性能很差;其导电性能很差;(2)(2)温度愈高,温度愈高,温度愈高,温度愈高,载流子的数目愈多载流子的数目愈多载流子的数目愈多载流子的数目愈多,半导体的导电性能半导体的导电性能半导体的导电性能半导体的导电性能也就愈好。所以,温度对半导体器件性能影响很大。也就愈好。所以,温度对半导体器件性能影响很大。也就愈好。所以,温度对半导体器件性能影响很大。也就愈好。所以,温度对半导体器件
19、性能影响很大。自由电子和空穴都称为载流子。自由电子和空穴都称为载流子。自由电子和空穴都称为载流子。自由电子和空穴都称为载流子。自由电子和空穴成对地产生的同时,又不断复合。在自由电子和空穴成对地产生的同时,又不断复合。在自由电子和空穴成对地产生的同时,又不断复合。在自由电子和空穴成对地产生的同时,又不断复合。在确定温度下,载流子的产生和复合达到动态平衡,半确定温度下,载流子的产生和复合达到动态平衡,半确定温度下,载流子的产生和复合达到动态平衡,半确定温度下,载流子的产生和复合达到动态平衡,半导体中载流子便维持确定的数目。导体中载流子便维持确定的数目。导体中载流子便维持确定的数目。导体中载流子便维
20、持确定的数目。本征半导体的导电机理本征半导体的导电机理本征半导体的导电机理本征半导体的导电机理 掺杂后自由电子数目掺杂后自由电子数目掺杂后自由电子数目掺杂后自由电子数目大量增加,自由电子导电大量增加,自由电子导电大量增加,自由电子导电大量增加,自由电子导电成为这种半导体的主要导成为这种半导体的主要导成为这种半导体的主要导成为这种半导体的主要导电方式,称为电子半导体电方式,称为电子半导体电方式,称为电子半导体电方式,称为电子半导体或或或或N N型半导体。型半导体。型半导体。型半导体。掺入五价元素掺入五价元素掺入五价元素掺入五价元素 Si Si Si Sip+多余多余电子电子磷原子磷原子在常温下即
21、可在常温下即可变为自由电子变为自由电子失去一个失去一个电子变为电子变为正离子正离子在本征半导体中掺入微量的杂质(某种元素)在本征半导体中掺入微量的杂质(某种元素)在本征半导体中掺入微量的杂质(某种元素)在本征半导体中掺入微量的杂质(某种元素),形成杂形成杂形成杂形成杂质半导体。质半导体。质半导体。质半导体。在在在在N N 型半导体中型半导体中型半导体中型半导体中自由电子是自由电子是自由电子是自由电子是多数载流子,空穴是少数载流多数载流子,空穴是少数载流多数载流子,空穴是少数载流多数载流子,空穴是少数载流子。子。子。子。二.N型半导体和P型半导体 掺杂后空穴数目大量掺杂后空穴数目大量掺杂后空穴数
22、目大量掺杂后空穴数目大量增加,空穴导电成为这增加,空穴导电成为这增加,空穴导电成为这增加,空穴导电成为这种半导体的主要导电方种半导体的主要导电方种半导体的主要导电方种半导体的主要导电方式,称为空穴半导体或式,称为空穴半导体或式,称为空穴半导体或式,称为空穴半导体或 P P型半导体。型半导体。型半导体。型半导体。掺入三价元素掺入三价元素掺入三价元素掺入三价元素 Si Si Si Si 在在在在 P P 型半导体中型半导体中型半导体中型半导体中空穴是多空穴是多空穴是多空穴是多数载流子,自由电子是少数载数载流子,自由电子是少数载数载流子,自由电子是少数载数载流子,自由电子是少数载流子。流子。流子。流
23、子。B硼原子硼原子接受一个接受一个接受一个接受一个电子变为电子变为电子变为电子变为负离子负离子负离子负离子空穴空穴无论无论无论无论N N型或型或型或型或P P型半导体都是中性的,对外不显电性。型半导体都是中性的,对外不显电性。型半导体都是中性的,对外不显电性。型半导体都是中性的,对外不显电性。1.1.在杂质半导体中多子的数量与在杂质半导体中多子的数量与在杂质半导体中多子的数量与在杂质半导体中多子的数量与 (a.a.掺杂浓度、掺杂浓度、掺杂浓度、掺杂浓度、b.b.温度)有关。温度)有关。温度)有关。温度)有关。2.2.在杂质半导体中少子的数量与在杂质半导体中少子的数量与在杂质半导体中少子的数量与
24、在杂质半导体中少子的数量与 (a.a.掺杂浓度、掺杂浓度、掺杂浓度、掺杂浓度、b.b.温度)有关。温度)有关。温度)有关。温度)有关。3.3.当温度上升时,少子的数量当温度上升时,少子的数量当温度上升时,少子的数量当温度上升时,少子的数量 (a.a.削减、削减、削减、削减、b.b.不变、不变、不变、不变、c.c.增多)。增多)。增多)。增多)。a ab bc c 4.4.在外加电压的作用下,在外加电压的作用下,在外加电压的作用下,在外加电压的作用下,P P 型半导体中的电流型半导体中的电流型半导体中的电流型半导体中的电流主要是主要是主要是主要是 ,N N 型半导体中的电流主要是型半导体中的电流
25、主要是型半导体中的电流主要是型半导体中的电流主要是 。(a.a.电子电流、电子电流、电子电流、电子电流、b.b.空穴电流)空穴电流)空穴电流)空穴电流)b ba a思索思索思索思索三、PN结的形成PN空间电荷区空间电荷区P区区N区区多数载流子将扩散扩散形成耗尽层;耗尽层;耗尽了载流子的交界处留下不行移动的离子形成空间电荷区;(内电场)一块晶片的两边分别为P型半导体和N型半导体。内电场阻碍了多子内电场阻碍了多子的接着扩散。的接着扩散。空间电荷区空间电荷区P区区N区区载流子的运动有两种形式:扩散扩散 由于载流子浓度梯度浓度梯度引起的载流子从高浓度区向低浓度区的运动。漂移漂移 载流子受电场作用电场作
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