一般FPC流程介绍演示教学.ppt
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1、一般FPC流程介绍定义定义:把成卷的铜箔、覆盖膜、电磁波保护膜裁切所需长度的片状。设备:设备:裁切机作业条件:作业条件:依BOM表裁切所需尺寸裁切机裁切铜箔裁切覆盖膜二、流程介绍-裁切:2定义定义:使用钻针在铜箔表面机械钻通孔,所钻孔有:导通孔、工具孔、零件孔。设备:设备:钻孔机作业条件:作业条件:需用到物料:钻针、垫板、盖板 参数:叠板数、转速、进刀速、退刀速二、流程介绍-钻孔:3定义定义:又叫PTH,即孔金属化的过程,在已钻孔的孔壁上利用化学作用上一层很薄的导电铜,使基材两面的铜箔导通,以便镀铜作业。设备:设备:自动沉铜线作业条件:作业条件:所用药水:整孔剂、除油剂、微蚀剂、预浸剂、活化剂
2、、加速剂、化铜剂 沉铜厚度:0.30.8um 参数:药水浓度、温度,线速二、流程介绍-沉铜:4二、流程介绍-镀铜:定义定义:利用电镀原理,在已导通的孔壁及铜箔表面镀上一层铜,使两面铜箔导通,以达到性耐要求设备:设备:龙门镀铜线/环形镀铜线/VCP镀铜线作业条件:作业条件:镀铜槽药水:H2SO4 HCL CuSO4 镀铜厚度:10-20um 参数:药水的浓度、温度、线速龙门镀铜线环形镀铜线VCP镀铜线-多用于生产盲孔板5二、流程介绍-镀铜:镀铜分类:镀铜分类:全板电镀-孔铜面铜一起镀 选择电镀-只镀孔铜,不镀面铜。多用于细线路的产品。全板电镀选择电镀6二、流程介绍-压干膜:定义定义:在铜面上压一
3、层蓝色的干膜(具有光聚合作用),以便后面曝光形成线路。干膜的厚度有20-50um。设备:设备:普通压膜机/真空压膜机作业条件:作业条件:在黄光的条件下进行 需保持恒温恒湿:222 RH 555%参数:温度、压力、速度普通压膜机真空压膜机-用于高段差产品压膜7二、流程介绍-曝光:定义定义:把底片上的线路图形,利用光的作用转印到干膜表面,被光照到的干膜发生聚合作用,不会被后面的显影液反映,未被光照到的地方发生反映。为线路形成的重要流程。设备:设备:散射曝光机/平行曝光机/镭射曝光机作业条件:作业条件:需在黄光及恒温恒湿的条件下进行 参数:曝光能量 曝光时间 所需物料:底片散射曝光机平行曝光机镭射曝
4、光机底片8二、流程介绍-DES:定义定义:DES分为显影(develop)、蚀刻(etching)、剥膜(striping)。是此三个流程的英文单词缩写。设备:设备:DES自动线体DES线体9二、流程介绍-DES之显影:定义定义:把曝光后的产品,通过Na2CO3药水的化学作用,把未被光照到部分(未发生光聚合作用)的干膜反应掉,留下被曝光部分(发生光聚合作用)作业条件:作业条件:所用药水:Na2CO3 参数:药水的浓度、温度、线速显影后产品10二、流程介绍-DES之蚀刻:定义定义:把显影后的产品,通过蚀刻药水的化学作用,把露出的铜面咬掉,留下干膜覆盖的铜面,形成线路。作业条件:作业条件:蚀刻药水
5、成分 HCL CuCL H2O2 参数:药水浓度、温度、线速 蚀刻反应方程式:Cu+CuCl2Cu2Cl2 Cu2Cl2+2HCl+H2O22CuCl2+2H2O蚀刻后产品11二、流程介绍-DES之剥膜:定义定义:使用剥膜药水,把蚀刻后的产品表面的干膜反应掉。是一种皂化反应,把干膜直接从产品表面剥下来。作业条件:作业条件:剥膜药水成分 NaOH 参数:药水浓度、温度、线速 剥膜后产品12二、流程介绍-AOI:定义定义:AOI即自动光学检测,用于检测蚀刻后线路的开短路,缺口等不良,把检出的不良品报废处理,防止不良品流入客户端。设备:设备:AOI机台作业条件:作业条件:需依设计制作的程式自动扫描检
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