安顺薄膜沉积设备项目招商引资方案.docx

《安顺薄膜沉积设备项目招商引资方案.docx》由会员分享，可在线阅读，更多相关《安顺薄膜沉积设备项目招商引资方案.docx（113页珍藏版）》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。

1、泓域咨询/安顺薄膜沉积设备项目招商引资方案安顺薄膜沉积设备项目招商引资方案xx（集团）有限公司报告说明伴随客户导入，国产设备技术水平/工艺覆盖度有望快速提升。尽管部分国产设备目前稳定性、良率方面等相较国际大厂仍有差距，但只要下游厂商愿意导入国产设备，长远来看，部分国产设备技术能力、稳定性、良率将随与下游客户的积累持续加速提升，将实现从“能用”到“好用”的转变，如：中微公司在部分MOCVD设备市场已实现对海外巨头的超越。根据谨慎财务估算，项目总投资16710.21万元，其中：建设投资13850.02万元，占项目总投资的82.88%；建设期利息197.51万元，占项目总投资的1.18%；流动资金2

2、662.68万元，占项目总投资的15.93%。项目正常运营每年营业收入29900.00万元，综合总成本费用24677.49万元，净利润3812.52万元，财务内部收益率17.74%，财务净现值2534.49万元，全部投资回收期5.91年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。经分析，本期项目符合国家产业相关政策，项目建设及投产的各项指标均表现较好，财务评价的各项指标均高于行业平均水平，项目的社会效益、环境效益较好，因此，项目投资建设各项评价均可行。建议项目建设过程中控制好成本，制定好项目的详细规划及资金使用计划，加强项目建设期的建设管理及项目运营期的生产管理，特别是

3、加强产品生产的现金流管理，确保企业现金流充足，同时保证各产业链及各工序之间的衔接，控制产品的次品率，赢得市场和打造企业良好发展的局面。本期项目是基于公开的产业信息、市场分析、技术方案等信息，并依托行业分析模型而进行的模板化设计，其数据参数符合行业基本情况。本报告仅作为投资参考或作为学习参考模板用途。目录第一章 项目概述9一、 项目名称及投资人9二、 编制原则9三、 编制依据10四、 编制范围及内容11五、 项目建设背景11六、 结论分析12主要经济指标一览表14第二章 建设单位基本情况16一、 公司基本信息16二、 公司简介16三、 公司竞争优势17四、 公司主要财务数据19公司合并资产负债表

4、主要数据19公司合并利润表主要数据19五、 核心人员介绍19六、 经营宗旨21七、 公司发展规划21第三章 市场分析27一、 半导体设备行业的壁垒27二、 半导体前道设备各环节格局梳理28三、 本土设备厂商的竞争优势和未来前景28第四章 项目建设背景、必要性30一、 半导体设备行业30二、 半导体设备国产替代空间广阔30三、 薄膜沉积设备32四、 加大招商引资力度33五、 全力构建集聚平台33六、 项目实施的必要性34第五章 项目选址分析35一、 项目选址原则35二、 建设区基本情况35三、 全力培育企业主体38四、 项目选址综合评价39第六章 产品方案分析40一、 建设规模及主要建设内容40

5、二、 产品规划方案及生产纲领40产品规划方案一览表40第七章 运营模式42一、 公司经营宗旨42二、 公司的目标、主要职责42三、 各部门职责及权限43四、 财务会计制度46第八章 发展规划分析50一、 公司发展规划50二、 保障措施54第九章 进度计划方案57一、 项目进度安排57项目实施进度计划一览表57二、 项目实施保障措施58第十章 劳动安全生产59一、 编制依据59二、 防范措施60三、 预期效果评价66第十一章 人力资源配置67一、 人力资源配置67劳动定员一览表67二、 员工技能培训67第十二章 节能方案说明70一、 项目节能概述70二、 能源消费种类和数量分析71能耗分析一览表

6、72三、 项目节能措施72四、 节能综合评价73第十三章 投资估算及资金筹措75一、 投资估算的依据和说明75二、 建设投资估算76建设投资估算表78三、 建设期利息78建设期利息估算表78四、 流动资金79流动资金估算表80五、 总投资81总投资及构成一览表81六、 资金筹措与投资计划82项目投资计划与资金筹措一览表82第十四章 经济效益分析84一、 经济评价财务测算84营业收入、税金及附加和增值税估算表84综合总成本费用估算表85固定资产折旧费估算表86无形资产和其他资产摊销估算表87利润及利润分配表88二、 项目盈利能力分析89项目投资现金流量表91三、 偿债能力分析92借款还本付息计划

7、表93第十五章 招投标方案95一、 项目招标依据95二、 项目招标范围95三、 招标要求95四、 招标组织方式97五、 招标信息发布99第十六章 总结说明100第十七章 附表附件102营业收入、税金及附加和增值税估算表102综合总成本费用估算表102固定资产折旧费估算表103无形资产和其他资产摊销估算表104利润及利润分配表104项目投资现金流量表105借款还本付息计划表107建设投资估算表107建设投资估算表108建设期利息估算表108固定资产投资估算表109流动资金估算表110总投资及构成一览表111项目投资计划与资金筹措一览表112第一章 项目概述一、 项目名称及投资人（一）项目名称安顺

8、薄膜沉积设备项目（二）项目投资人xx（集团）有限公司（三）建设地点本期项目选址位于xxx（以最终选址方案为准）。二、 编制原则本项目从节约资源、保护环境的角度出发，遵循创新、先进、可靠、实用、效益的指导方针。保证本项目技术先进、质量优良、保证进度、节省投资、提高效益，充分利用成熟、先进经验，实现降低成本、提高经济效益的目标。1、力求全面、客观地反映实际情况，采用先进适用的技术，以经济效益为中心，节约资源，提高资源利用率，做好节能减排，在采用先进适用技术的同时，做好投资费用的控制。2、根据市场和所在地区的实际情况，合理制定产品方案及工艺路线，设计上充分体现设备的技术先进，操作安全稳妥，投资经济适

9、度的原则。3、认真贯彻国家产业政策和企业节能设计规范，努力做到合理利用能源和节约能源。采用先进工艺和高效设备，加强计量管理，提高装置自动化控制水平。4、根据拟建区域的地理位置、地形、地势、气象、交通运输等条件及安全，保护环境、节约用地原则进行布置；同时遵循国家安全、消防等有关规范。5、在环境保护、安全生产及消防等方面，本着“三同时”原则，设计上充分考虑装置在上述各方面投资，使得环境保护、安全生产及消防贯穿工程的全过程。做到以新代劳，统一治理，安全生产，文明管理。三、 编制依据1、中国制造2025；2、“十三五”国家战略性新兴产业发展规划；3、工业绿色发展规划(2016-2020年)；4、促进中

10、小企业发展规划（20162020年）；5、中华人民共和国国民经济和社会发展第十四个五年规划和2035年远景目标纲要；6、关于实现产业经济高质量发展的相关政策；7、项目建设单位提供的相关技术参数；8、相关产业调研、市场分析等公开信息。四、 编制范围及内容依据国家产业发展政策和有关部门的行业发展规划以及项目承办单位的实际情况，按照项目的建设要求，对项目的实施在技术、经济、社会和环境保护等领域的科学性、合理性和可行性进行研究论证。研究、分析和预测国内外市场供需情况与建设规模，并提出主要技术经济指标，对项目能否实施做出一个比较科学的评价，其主要内容包括如下几个方面:1、确定建设条件与项目选址。2、确定

11、企业组织机构及劳动定员。3、项目实施进度建议。4、分析技术、经济、投资估算和资金筹措情况。5、预测项目的经济效益和社会效益及国民经济评价。五、 项目建设背景晶圆制造设备是半导体设备行业需求最大的领域，光刻、刻蚀和沉积设备为主要组成部分。根据SEMI数据来看，目前半导体设备主要为晶圆制造设备，市场占有率超过85%。其中，刻蚀机、薄膜沉积、光刻机设备为半导体设备的核心设备，这三类半导体设备的市占率分别为22%、22%和20%。六、 结论分析（一）项目选址本期项目选址位于xxx（以最终选址方案为准），占地面积约40.00亩。（二）建设规模与产品方案项目正常运营后，可形成年产xxx套薄膜沉积设备的生产

12、能力。（三）项目实施进度本期项目建设期限规划12个月。（四）投资估算本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算，项目总投资16710.21万元，其中：建设投资13850.02万元，占项目总投资的82.88%；建设期利息197.51万元，占项目总投资的1.18%；流动资金2662.68万元，占项目总投资的15.93%。（五）资金筹措项目总投资16710.21万元，根据资金筹措方案，xx（集团）有限公司计划自筹资金（资本金）8648.56万元。根据谨慎财务测算，本期工程项目申请银行借款总额8061.65万元。（六）经济评价1、项目达产年预期营业收入（SP）：29900.00

13、万元。2、年综合总成本费用（TC）：24677.49万元。3、项目达产年净利润（NP）：3812.52万元。4、财务内部收益率（FIRR）：17.74%。5、全部投资回收期（Pt）：5.91年（含建设期12个月）。6、达产年盈亏平衡点（BEP）：12918.43万元（产值）。（七）社会效益项目建设符合国家产业政策，具有前瞻性；项目产品技术及工艺成熟，达到大批量生产的条件，且项目产品性能优越，是推广型产品；项目产品采用了目前国内最先进的工艺技术方案；项目设施对环境的影响经评价分析是可行的；根据项目财务评价分析，经济效益好，在财务方面是充分可行的。本项目实施后，可满足国内市场需求，增加国家及地方财

14、政收入，带动产业升级发展，为社会提供更多的就业机会。另外，由于本项目环保治理手段完善，不会对周边环境产生不利影响。因此，本项目建设具有良好的社会效益。（八）主要经济技术指标主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积26667.00约40.00亩1.1总建筑面积45399.981.2基底面积16533.541.3投资强度万元/亩339.002总投资万元16710.212.1建设投资万元13850.022.1.1工程费用万元12363.712.1.2其他费用万元1232.382.1.3预备费万元253.932.2建设期利息万元197.512.3流动资金万元2662.683资金筹措万元1671

15、0.213.1自筹资金万元8648.563.2银行贷款万元8061.654营业收入万元29900.00正常运营年份5总成本费用万元24677.496利润总额万元5083.367净利润万元3812.528所得税万元1270.849增值税万元1159.5510税金及附加万元139.1511纳税总额万元2569.5412工业增加值万元8944.7613盈亏平衡点万元12918.43产值14回收期年5.9115内部收益率17.74%所得税后16财务净现值万元2534.49所得税后第二章 建设单位基本情况一、 公司基本信息1、公司名称：xx（集团）有限公司2、法定代表人：武xx3、注册资本：1130万元

16、4、统一社会信用代码：xxxxxxxxxxxxx5、登记机关：xxx市场监督管理局6、成立日期：2014-5-17、营业期限：2014-5-1至无固定期限8、注册地址：xx市xx区xx9、经营范围：从事薄膜沉积设备相关业务（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）二、 公司简介公司秉承“诚实、信用、谨慎、有效”的信托理念，将“诚信为本、合规经营”作为企业的核心理念，不断提升公司资产管理能力和风险控制能力。公司始终坚持“人本、诚信、创新、共赢”的经营理念，以“市场为导向、顾客为中心”的

17、企业服务宗旨，竭诚为国内外客户提供优质产品和一流服务，欢迎各界人士光临指导和洽谈业务。三、 公司竞争优势（一）工艺技术优势公司一直注重技术进步和工艺创新，通过引入国际先进的设备，不断加大自主技术研发和工艺改进力度，形成较强的工艺技术优势。公司根据客户受托产品的品种和特点，制定相应的工艺技术参数，以满足客户需求，已经积累了丰富的工艺技术。经过多年的技术改造和工艺研发，公司已经建立了丰富完整的产品生产线，配备了行业先进的设备，形成了门类齐全、品种丰富的工艺，可为客户提供一体化综合服务。（二）节能环保和清洁生产优势公司围绕清洁生产、绿色环保的生产理念，依托科技创新，注重从产品结构和工艺技术的优化来减

18、少三废排放，实现污染的源头和过程控制，通过引进智能化设备和采用自动化管理系统保障清洁生产，提高三废末端治理水平，保障环境绩效。经过持续加大环保投入，公司已在节能减排和清洁生产方面形成了较为明显的竞争优势。（三）智能生产优势近年来，公司着重打造 “智慧工厂”，通过建立生产信息化管理系统和自动输送系统，将企业的决策管理层、生产执行层和设备运作层进行有机整合，搭建完整的现代化生产平台，智能系统的建设有利于公司的订单管理和工艺流程的优化，在确保满足客户的各类功能性需求的同时缩短了产品交付期，提高了公司的竞争力，增强了对客户的服务能力。（四）区位优势公司地处产业集聚区，在集中供气、供电、供热、供水以及废

19、水集中处理方面积累了丰富的经验，能源配套优势明显。产业集群效应和配套资源优势使公司在市场拓展、技术创新以及环保治理等方面具有独特的竞争优势。（五）经营管理优势公司拥有一支敬业务实的经营管理团队，主要高级管理人员长期专注于印染行业，对行业具有深刻的洞察和理解，对行业的发展动态有着较为准确的把握，对产品趋势具有良好的市场前瞻能力。公司通过自主培养和外部引进等方式，建立了一支团结进取的核心管理团队，形成了稳定高效的核心管理架构。公司管理团队对公司的品牌建设、营销网络管理、人才管理等均有深入的理解，能够及时根据客户需求和市场变化对公司战略和业务进行调整，为公司稳健、快速发展提供了有力保障。四、 公司主

20、要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额7664.676131.745748.50负债总额2533.272026.621899.95股东权益合计5131.404105.123848.55公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入14602.7511682.2010952.06营业利润3622.942898.352717.20利润总额3146.982517.582360.24净利润2360.241840.991699.37归属于母公司所有者的净利润2360.241840.991699.37五、 核心人员介绍1、武

21、xx，中国国籍，1978年出生，本科学历，中国注册会计师。2015年9月至今任xxx有限公司董事、2015年9月至今任xxx有限公司董事。2019年1月至今任公司独立董事。2、史xx，1957年出生，大专学历。1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2018年3月至今任公司董事。3、彭xx，中国国籍，1976年出生，本科学历。2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2004年4月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理

22、。2018年3月起至今任公司董事长、总经理。4、宋xx，中国国籍，无永久境外居留权，1971年出生，本科学历，中级会计师职称。2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司财务经理。2017年3月至今任公司董事、副总经理、财务总监。5、钟xx，中国国籍，无永久境外居留权，1970年出生，硕士研究生学历。2012年4月至今任xxx有限公司监事。2018年8月至今任公司独立董事。6、邹xx，中国国籍，无永久境外居留权，1958年出生，本科学历，高级经济师职称。1994年6月至2002年6月任xxx有限公司董事长；2002年6月至2011

23、年4月任xxx有限责任公司董事长；2016年11月至今任xxx有限公司董事、经理；2019年3月至今任公司董事。7、杜xx，1974年出生，研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公司；2006年8月至2011年3月，任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历任公司监事、销售部副部长、部长；2019年8月至今任公司监事会主席。8、蒋xx，中国国籍，无永久境外居留权，1959年出生，大专学历，高级工程师职称。2003年2月至2004年7月在xxx股份有限公司兼任技术顾问；2004年8月至2011年3月任xxx有限责任公司总工程师。2018年3月至今任公司董事、副

24、总经理、总工程师。六、 经营宗旨以市场需求为导向；以科研创新求发展；以质量服务树品牌；致力于产业技术进步和行业发展，创建国际知名企业。七、 公司发展规划（一）公司未来发展战略公司秉承“不断超越、追求完美、诚信为本、创新为魂”的经营理念，贯彻“安全、现代、可靠、稳定”的核心价值观，为客户提供高性能、高品质、高技术含量的产品和服务，致力于发展成为行业内领先的供应商。未来公司将通过持续的研发投入和市场营销网络的建设进一步巩固公司在相关领域的领先地位，扩大市场份额；另一方面公司将紧密契合市场需求和技术发展方向进一步拓展公司产品类别，加大研发推广力度，进一步提升公司综合实力以及市场地位。（二）扩产计划经

25、过多年的发展，公司在相关领域领域积累了丰富的生产经验和技术优势，随着公司业务规模逐年增长，产能瓶颈日益显现。因此，产能提升计划是实现公司整体发展战略的重要环节。公司将以全球行业持续发展及逐渐向中国转移为依托，提高公司生产能力和生产效率，满足不断增长的客户需求，巩固并扩大公司在行业中的竞争优势，提高市场占有率和公司影响力。在产品拓展方面，公司计划在扩宽现有产品应用领域的同时，不断丰富产品类型，持续提升产品质量和附加值，保持公司产品在行业中的竞争地位。（三）技术研发计划公司未来将继续加大技术开发和自主创新力度，在现有技术研发资源的基础上完善技术中心功能，规范技术研究和产品开发流程，引进先进的设计、

26、测试等软硬件设备，提高公司技术成果转化能力和产品开发效率，提升公司新产品开发能力和技术竞争实力，为公司的持续稳定发展提供源源不断的技术动力。公司将本着中长期规划和近期目标相结合、前瞻性技术研究和产品应用开发相结合的原则，以研发中心为平台，以市场为导向，进行技术开发和产品创新，健全和完善技术创新机制，从人、财、物和管理机制等方面确保公司的持续创新能力，努力实现公司新技术、新产品、新工艺的持续开发。（四）技术研发计划公司将以新建研发中心为契机，在对现有产品的技术和工艺进行持续改进、提高公司的研发设计能力、满足客户对产品差异化需求的同时，顺应行业技术发展，不断研发新工艺、新技术，不断提升产品自动化程

27、度，在充分满足下游领域对产品质量要求不断提高的同时，强化公司自主创新能力，巩固公司技术的行业先进地位，强化公司的综合竞争实力。积极实施知识产权保护自主创新、自主知识产权和自主品牌是公司今后持续发展的关键。自主知识产权是自主创新的保障，公司未来三年将重点关注专利的保护，依靠自主创新技术和自主知识产权，提高盈利水平。公司计划在未来三年内大量引进或培养技术研发、技术管理等专业人才，以培养技术骨干为重点建设内容，建立一支高、中、初级专业技术人才合理搭配的人才队伍，满足公司快速发展对人才的需要。公司将采用各种形式吸引优秀的科技人员。包括：提高技术人才的待遇；通过与高校、科研机构联合，实行对口培训等形式，

28、强化技术人员知识更新；积极拓宽人才引进渠道，实行就地取才、内部挖掘和面向社会广揽人才相结合。确保公司产品的高技术含量，充分满足客户的需求，使公司在激烈的市场竞争中立于不败之地。公司将加强与高等院校、研发机构的合作与交流，整合产、学、研资源优势，通过自主研发与合作开发并举的方式，持续提升公司技术研发水平，提升公司对重大项目的攻克能力，提高自身研发技术水平，进一步强化公司在行业内的影响力。（五）市场开发规划公司根据自身技术特点与销售经验，制定了如下市场开发规划：首先，公司将以现有客户为基础，在努力提升产品质量的同时，以客户需求为导向，在各个方面深入了解客户需求，以求充分满足客户的差异化需求，从而不

29、断增加现有客户订单；其次，公司将在稳定与现有客户合作关系的同时，凭借公司成熟的业务能力及优质的产品质量逐步向新的客户群体拓展，挖掘新的销售市场；最后，公司将不断完善营销网络建设，提升公司售后服务能力，从而提升公司整体服务水平，实现整体业务的协同及平衡发展。（六）人才发展规划人才是公司发展的核心资源，为了实现公司总体战略目标，公司将健全人力资源管理体系，制定科学的人力资源开发计划，进一步建立完善的培训、薪酬、绩效和激励机制，最大限度的发挥人才潜力，为公司的可持续发展提供人才保障。公司将立足于未来发展需要，进一步加快人才引进。通过专业化的人力资源服务和评估机制，满足公司的发展需要。一方面，公司将根

30、据不同部门职能，有针对性的招聘专业化人才：管理方面，公司将建立规范化的内部控制体系，根据需要招聘行业内专业的管理人才，提升公司整体管理水平；技术方面，公司将引进行业内优秀人才，提升公司的技术创新能力，增加公司核心技术储备，并加速成果转化，确保公司技术水平的领先地位。另一方面，公司将建立人才梯队，以培养管理和技术骨干为重点，有计划地吸纳各类专业人才进入公司，形成高、中、初级人才的塔式人才结构，为公司的长远发展储备力量。培训是企业人力资源整合的重要途径，未来公司将强化现有培训体系的建设，建立和完善培训制度，针对不同岗位的员工制定科学的培训计划，并根据公司的发展要求及员工的发展意愿，制定员工的职业生

31、涯规划。公司将采用内部交流课程、外聘专家授课及先进企业考察等多种培训方式提高员工技能。人才培训的强化将大幅提升员工的整体素质，使员工队伍进一步适应公司的快速发展步伐。公司将制定具有市场竞争力的薪酬结构，制定和实施有利于人才成长和潜力挖掘的激励政策。根据员工的服务年限及贡献，逐步提高员工待遇，激发员工的创造性和主动性，为员工提供广阔的发展空间，全力打造团结协作、拼搏进取、敬业爱岗、开拓创新的员工队伍，从而有效提高公司凝聚力和市场竞争力。第三章 市场分析一、 半导体设备行业的壁垒技术壁垒：1）半导体设备是由成千上万的零部件组成的复杂系统，将成千上万的零部件有机组合在一起实现精细至nm级别的操作是第

32、一个难点。2）保障设备在nm级别的操作基础上的超高良率是半导体设备制造过程中的第二个难点。制造一块芯片通常需要上百台设备紧密配合，历经400-500道工序，若单工序良率仅能做到99%，则历经500道工序最终良率不足1%；提升至小数点后两位的水平才能使良率达到95%以上。3）保障设备在实现以上两个要求的基础上长时间稳定的运行是半导体设备制造过程中的第三个难点。与上述同理，一条芯片产线上百台设备，每一台设备稳定运行时间的微小降低将在整个体系内被巨额放大。若发生设备宕机造成该批假设1000片晶圆的报废，在28nm及以下的制程级别对应的损失超过300万美元，近2000万人民币。客户验证壁垒：正是由于设

33、备本身和产线构成的复杂性，单设备的良率、稳定性会在整个体系内产生累积效应的影响，同时可能带来巨额的潜在损失，因此晶圆制造厂商对于上游设备的验证、验收有严苛的标准和流程。同时，对于晶圆制造厂而言，配合上游设备验证需要付出大量的人力（合作研发、调试）、物力（拿出其他设备配合验证的机会成本损失、验证过程中的物料损失），以及采用新设备供应商面临的巨大潜在风险（批量晶圆报废的风险、向客户延迟交货的风险），很少有晶圆厂愿意承担以上的损失和风险去验证新供应商的设备。二、 半导体前道设备各环节格局梳理晶圆制造设备是半导体设备行业需求最大的领域，光刻、刻蚀和沉积设备为主要组成部分。根据SEMI数据来看，目前半导

34、体设备主要为晶圆制造设备，市场占有率超过85%。其中，刻蚀机、薄膜沉积、光刻机设备为半导体设备的核心设备，这三类半导体设备的市占率分别为22%、22%和20%。国内为全球半导体设备最大市场，先进技术由美欧日等国主导。从地区分布来看，中国大陆半导体设备市场占比呈持续提升之势，2021年市场规模达到296亿美元，占全球市场的比重为29%，是半导体设备的最大市场。先进半导体设备技术仍由美欧日等国主导，其中美国的刻蚀设备、离子注入机、薄膜沉积设备、测试设备、程序控制、CMP等设备的制造技术位于世界前列；荷兰凭借ASML的高端光刻机在全球处于领先地位；日本则在刻蚀设备、清洗设备、测试设备等方面具有竞争优

35、势。三、 本土设备厂商的竞争优势和未来前景成本和价格并非本土标签以外的唯一竞争力，快速响应的定制化服务为重要优势。基于本土优势，一方面可以提供低成本、定制化、及时的服务（海外设备厂商往往委托国内团队做售后服务，同时服务定制化程度弱），另一方面能够针对客户技术需求进行联合攻关、定制化开发，适配性的提升会带动稳定性和良率的提升。伴随客户导入，国产设备技术水平/工艺覆盖度有望快速提升。尽管部分国产设备目前稳定性、良率方面等相较国际大厂仍有差距，但只要下游厂商愿意导入国产设备，长远来看，部分国产设备技术能力、稳定性、良率将随与下游客户的积累持续加速提升，将实现从“能用”到“好用”的转变，如：中微公司在

36、部分MOCVD设备市场已实现对海外巨头的超越。第四章 项目建设背景、必要性一、 半导体设备行业集成电路系采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及它们之间的连接导线全部制作在一小块半导体晶片如硅片或介质基片上，然后焊接封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的电子器件。半导体设备在芯片制造中发挥着重要作用。半导体设备是半导体制造的基石，是半导体行业的基础和核心。半导体工艺流程主要包括硅片制造、IC设计、芯片制造和芯片封测，从产业链来看，半导体设备在硅片制造以及芯片制造的前道/后道工艺中均发挥着重要作用。二、 半导体设备国产替代空间广阔半导体设备市场持续增长的底层逻辑是科技

37、产业发展对半导体需求量的提升，直接驱动因素是下游晶圆制造厂商的扩产。2021年半导体市场规模实现同比增长26%，达5530亿美元。全球半导体产业资本支出保持强劲增长，根据ICInsights数据，2021年，全球半导体行业资本支出达到1539亿美元，预计2022年将达到1904亿美元。摩尔定律推动产业发展，设备行业壁垒将持续提升。根据摩尔定律演进，每隔18-24个月芯片性能将提升一倍。先进制程IC产能具有强劲的增长势头，根据ICInsights预测，2024年先进制程（10nm）的IC产能预计增长并在全球产能占比提升至30%。每更新一代工艺制程，则需更新一代更为先进的制程设备，更加精密的制程带

38、来半导体设备难度直线上升，行业壁垒不断提高。随着制程推进和工艺升级，单位产能下设备需求将进一步增加。制程和工艺升级推动芯片复杂度提升，更复杂的结构需要更多的制造工序完成，各类设备的用量显著增加。以刻蚀环节为例，14nm制程所需使用的刻蚀步骤达到64次，7nm所需刻蚀步骤达140次，较14nm提升118%。设备用量方面，以中芯国际180nm8寸产线和90nm12寸产线所用到的薄膜沉积设备为例，每万片月产能所需的CVD设备、PVD设备分别增加3倍和4倍左右。先进工艺单位产能投资几何级数提升。随着技术节点的不断缩小，集成电路制造的设备投入呈大幅上升的趋势，5万片月产能的5nm技术节大陆半导体设备的成

39、长空间较大，国产化率有望加速。中国大陆半导体设备企业经过多年的技术研发和工艺积累，在部分领域实现了技术突破和创新，成功通过部分集成电路制造企业的验证，成为制造企业的设备供应商。去胶设备已基本实现国产化，CMP设备、清洗设备、热处理设备、刻蚀设备等的国产化率为20%左右；涂胶显影设备、离子注入设备、光刻设备也实现了突破。国产半导体设备进入生产线后，在不同产线持续测试和应用，可以及时掌握晶圆厂的技术需求，有针对性的对设备进行研发、升级，推动其技术的不断完善、进步和创新。目前国内晶圆厂积极扩产，极大拉动国内半导体设备需求；终端半导体产品的不断迭代推动晶圆厂开发新的工艺，随着国内晶圆制造产业的迅速发展

40、，国产半导体设备种类将不断增加，性能也将不断提升，国产设备厂商将迎来增长机遇，进入加速成长阶段。三、 薄膜沉积设备薄膜沉积设备主要分CVD、PVD、ALD三大类，其中CVD市场占比最高。薄膜沉积是指在硅片衬底上沉积一层待处理的薄膜材料，如二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金属以及铜等金属。薄膜沉积设备主要包括CVD设备、PVD设备/电镀设备和ALD设备，三者各有所长，CVD主要应用于各种氮化物、碳化物、氧化物、硼化物、硅化物涂层的制备，PVD主要应用于金属涂层的制备，ALD属于新兴领域，一般用于45nm以下制程芯片的制备，具备更好的膜厚均匀性，同时在高深宽比的器件制备方面更有优势。目前，全球薄膜沉积

41、设备中CVD占比最高，2020年占比64%，溅射PVD设备占比21%。CVD设备中，PECVD占比53%，ALD设备占比20%。薄膜沉积设备市场美系厂商具备强话语权。薄膜沉积设备在半导体设备中占比稳定在20%左右，2021年全球半导体薄膜沉积设备市场规模达190亿美元，预计2022年将达到212亿美元。细分领域来讲，AMAT独占鳌头，约占全球PVD市场份额的80%以上；CVD领域，AMAT、LAM、TEL三家约占全球市场份额的70%以上。四、 加大招商引资力度加快融入国家重大区域战略，积极参与新时代西部大开发和“一带一路”、长江经济带、粤港澳大湾区建设，加强与泛珠三角、成渝地区双城经济圈等协作

42、，主动融入国际国内产业链、供应链、价值链分工体系。探索与贵阳、贵安新区共建产业园区。拓展与青岛市的交流合作，构建更加多元化、深层次的协作体系。深化产业大招商，聚焦重点产业，发挥比较优势，精准有效对接，加大力度引进国内外优强企业，打造西部地区承接产业转移示范区。优化营商环境，实施市场准入负面清单制度，落实“非禁即入”要求，持续提升投资建设便利度，营造“亲商、重商、安商、扶商、护商”良好氛围。五、 全力构建集聚平台以产业园区为载体，引导高端项目、龙头企业和优质资源向园区集中，提高园区单位面积产出率，形成产业链上下游集群融合发展的新格局。突出地方特色，错位发展首位产业、首位产品，打造最优产业生态，形

43、成产业竞争力。西秀产业园区、安顺民用航空产业国家高技术产业基地、安顺高新区推动以装备制造、电子信息、新型建材、新医药大健康等为优势的产业集群发展;普定循环经济工业基地、镇宁产业园区推动以循环经济、现代化工、特色轻工为优势的产业集群发展;关岭产业园区、紫云产业园区推动以特色食品加工、环保材料为优势的产业集群发展。完善产业园区设施建设，优化功能分区，提升物流畅通水平。健全园区发展考评机制，分类指导园区差异化发展。探索园区市场化发展新路径，推动园区由政府主导向市场主导转型。六、 项目实施的必要性（一）提升公司核心竞争力项目的投资，引入资金的到位将改善公司的资产负债结构，补充流动资金将提高公司应对短期

44、流动性压力的能力，降低公司财务费用水平，提升公司盈利能力，促进公司的进一步发展。同时资金补充流动资金将为公司未来成为国际领先的产业服务商发展战略提供坚实支持，提高公司核心竞争力。第五章 项目选址分析一、 项目选址原则1、符合国家地区城市规划要求；2、满足项目对：原材料、能源、水和人力的供应；3、节约和效力原则；安全的原则；4、实事求是的原则；5、节约用地；6、注意环保（以人为本，减少对生态环境影响）。二、 建设区基本情况安顺，贵州省地级市。位于贵州省中西部，距贵州省省会贵阳90公里。总面积9267平方公里。地处长江水系乌江流域和珠江水系北盘江流域的分水岭地带，是世界上典型的喀斯特地貌集中地区。

45、根据第七次人口普查数据，截至2020年11月1日零时，安顺市常住人口为2470630人。安顺素有“中国瀑乡”、“屯堡文化之乡”、“蜡染之乡”、“西部之秀”的美誉，是中国优秀旅游城市，全国甲类旅游开放城市，全国唯一的“深化改革，促进多种经济成分共生繁荣，加快发展”改革试验区，民用航空产业国家高技术产业基地，贵州省级历史文化名城，是“贵州加快发展的经济特区”，2009年度中国十大特色休闲城市，世界喀斯特风光旅游优选地区，全国六大黄金旅游热线之一和贵州西部旅游中心。批准的第八个国家级新区贵安新区的主要组成部分。安顺被列为第一批国家新型城镇化综合试点地区。2017年6月，安顺市被命名国家卫生城市。20

46、17年10月，被住建部命名为国家园林城市。2020年10月，被评为全国双拥模范城（县）。“十四五”时期，奋力实现以下目标：在质量效益明显提升的基础上，保持经济平稳较快增长，力争人均地区生产总值达到全省平均水平。经济结构更加优化，增长潜力充分发挥，新型工业化水平明显提升，现代农业产业体系基本形成，现代服务业迈向中高端水平。打造黔中经济区重要增长极、国际一流山地旅游目的地和国内一流康养旅游目的地。展望二三五年，我市将与全国全省同步基本实现社会主义现代化，建成经济更加发达、环境更加优美、文化更加繁荣、社会更加和谐、人民更加幸福的富美安顺。经济实力、科技实力大幅跃升，人均地区生产总值达到全国平均水平;基本实现新型工业化、新型城镇化、农业现代化、旅游产业化，建成现代化经济体系;市民素质和社会文明程度达到新高度，文化软实力显著增强;广泛形成绿色生产生活方式，生态文明建设达