芜湖半导体前道设备项目投资计划书.docx
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1、泓域咨询/芜湖半导体前道设备项目投资计划书目录第一章 项目背景分析7一、 薄膜沉积设备7二、 半导体设备国产替代空间广阔7三、 检测设备9四、 提升科技创新能力10五、 项目实施的必要性12第二章 市场预测14一、 半导体设备行业14二、 涂胶显影设备14三、 半导体设备行业的壁垒15第三章 项目绪论17一、 项目名称及项目单位17二、 项目建设地点17三、 可行性研究范围17四、 编制依据和技术原则18五、 建设背景、规模19六、 项目建设进度19七、 环境影响19八、 建设投资估算20九、 项目主要技术经济指标20主要经济指标一览表21十、 主要结论及建议22第四章 建筑工程方案分析23一
2、、 项目工程设计总体要求23二、 建设方案24三、 建筑工程建设指标25建筑工程投资一览表25第五章 产品方案与建设规划27一、 建设规模及主要建设内容27二、 产品规划方案及生产纲领27产品规划方案一览表27第六章 选址方案分析29一、 项目选址原则29二、 建设区基本情况29三、 充分利用好国际国内市场和资源32四、 提升产业链供应链现代化水平34五、 项目选址综合评价36第七章 运营管理37一、 公司经营宗旨37二、 公司的目标、主要职责37三、 各部门职责及权限38四、 财务会计制度41第八章 法人治理45一、 股东权利及义务45二、 董事48三、 高级管理人员52四、 监事54第九章
3、 项目规划进度57一、 项目进度安排57项目实施进度计划一览表57二、 项目实施保障措施58第十章 项目节能说明59一、 项目节能概述59二、 能源消费种类和数量分析60能耗分析一览表61三、 项目节能措施61四、 节能综合评价62第十一章 原辅材料分析64一、 项目建设期原辅材料供应情况64二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理64第十二章 工艺技术方案分析65一、 企业技术研发分析65二、 项目技术工艺分析68三、 质量管理69四、 设备选型方案70主要设备购置一览表71第十三章 人力资源配置分析72一、 人力资源配置72劳动定员一览表72二、 员工技能培训72第十四章 项目投资分析75一
4、、 投资估算的依据和说明75二、 建设投资估算76建设投资估算表80三、 建设期利息80建设期利息估算表80固定资产投资估算表81四、 流动资金82流动资金估算表83五、 项目总投资84总投资及构成一览表84六、 资金筹措与投资计划85项目投资计划与资金筹措一览表85第十五章 经济收益分析87一、 基本假设及基础参数选取87二、 经济评价财务测算87营业收入、税金及附加和增值税估算表87综合总成本费用估算表89利润及利润分配表91三、 项目盈利能力分析91项目投资现金流量表93四、 财务生存能力分析94五、 偿债能力分析94借款还本付息计划表96六、 经济评价结论96第十六章 项目招标及投标分
5、析97一、 项目招标依据97二、 项目招标范围97三、 招标要求97四、 招标组织方式98五、 招标信息发布98第十七章 项目总结分析99第十八章 附表附录100主要经济指标一览表100建设投资估算表101建设期利息估算表102固定资产投资估算表103流动资金估算表103总投资及构成一览表104项目投资计划与资金筹措一览表105营业收入、税金及附加和增值税估算表106综合总成本费用估算表107固定资产折旧费估算表108无形资产和其他资产摊销估算表108利润及利润分配表109项目投资现金流量表110借款还本付息计划表111建筑工程投资一览表112项目实施进度计划一览表113主要设备购置一览表11
6、4能耗分析一览表114第一章 项目背景分析一、 薄膜沉积设备薄膜沉积设备主要分CVD、PVD、ALD三大类,其中CVD市场占比最高。薄膜沉积是指在硅片衬底上沉积一层待处理的薄膜材料,如二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金属以及铜等金属。薄膜沉积设备主要包括CVD设备、PVD设备/电镀设备和ALD设备,三者各有所长,CVD主要应用于各种氮化物、碳化物、氧化物、硼化物、硅化物涂层的制备,PVD主要应用于金属涂层的制备,ALD属于新兴领域,一般用于45nm以下制程芯片的制备,具备更好的膜厚均匀性,同时在高深宽比的器件制备方面更有优势。目前,全球薄膜沉积设备中CVD占比最高,2020年占比64%,溅射PVD
7、设备占比21%。CVD设备中,PECVD占比53%,ALD设备占比20%。薄膜沉积设备市场美系厂商具备强话语权。薄膜沉积设备在半导体设备中占比稳定在20%左右,2021年全球半导体薄膜沉积设备市场规模达190亿美元,预计2022年将达到212亿美元。细分领域来讲,AMAT独占鳌头,约占全球PVD市场份额的80%以上;CVD领域,AMAT、LAM、TEL三家约占全球市场份额的70%以上。二、 半导体设备国产替代空间广阔半导体设备市场持续增长的底层逻辑是科技产业发展对半导体需求量的提升,直接驱动因素是下游晶圆制造厂商的扩产。2021年半导体市场规模实现同比增长26%,达5530亿美元。全球半导体产
8、业资本支出保持强劲增长,根据ICInsights数据,2021年,全球半导体行业资本支出达到1539亿美元,预计2022年将达到1904亿美元。摩尔定律推动产业发展,设备行业壁垒将持续提升。根据摩尔定律演进,每隔18-24个月芯片性能将提升一倍。先进制程IC产能具有强劲的增长势头,根据ICInsights预测,2024年先进制程(10nm)的IC产能预计增长并在全球产能占比提升至30%。每更新一代工艺制程,则需更新一代更为先进的制程设备,更加精密的制程带来半导体设备难度直线上升,行业壁垒不断提高。随着制程推进和工艺升级,单位产能下设备需求将进一步增加。制程和工艺升级推动芯片复杂度提升,更复杂的
9、结构需要更多的制造工序完成,各类设备的用量显著增加。以刻蚀环节为例,14nm制程所需使用的刻蚀步骤达到64次,7nm所需刻蚀步骤达140次,较14nm提升118%。设备用量方面,以中芯国际180nm8寸产线和90nm12寸产线所用到的薄膜沉积设备为例,每万片月产能所需的CVD设备、PVD设备分别增加3倍和4倍左右。先进工艺单位产能投资几何级数提升。随着技术节点的不断缩小,集成电路制造的设备投入呈大幅上升的趋势,5万片月产能的5nm技术节大陆半导体设备的成长空间较大,国产化率有望加速。中国大陆半导体设备企业经过多年的技术研发和工艺积累,在部分领域实现了技术突破和创新,成功通过部分集成电路制造企业
10、的验证,成为制造企业的设备供应商。去胶设备已基本实现国产化,CMP设备、清洗设备、热处理设备、刻蚀设备等的国产化率为20%左右;涂胶显影设备、离子注入设备、光刻设备也实现了突破。国产半导体设备进入生产线后,在不同产线持续测试和应用,可以及时掌握晶圆厂的技术需求,有针对性的对设备进行研发、升级,推动其技术的不断完善、进步和创新。目前国内晶圆厂积极扩产,极大拉动国内半导体设备需求;终端半导体产品的不断迭代推动晶圆厂开发新的工艺,随着国内晶圆制造产业的迅速发展,国产半导体设备种类将不断增加,性能也将不断提升,国产设备厂商将迎来增长机遇,进入加速成长阶段。三、 检测设备检测设备是应用于工艺过程中的测量
11、类设备和缺陷(含颗粒)检查类设备的统称。随着芯片结构的不断细微化和工艺的不断复杂化,工艺检测设备在先进前段生产线中发挥着越来越重要的作用。目前工艺检测设备投资占前端设备总投资的11%。按全球各类量测设备产品市场份额来看,膜厚测量设备占比约12%;CD-SEM占比约12%;套刻误差测量占比约9%;宏观缺陷检测占比约6%;有图形晶圆检测占比约34%;无图形晶圆检测占比约5%;电子束检测占比约12%。KLA独霸检测设备市场,国内企业积极推动国产量测设备发展。全球半导体检测和量测设备市场保持高速增长态势,2021年全球市场规模达100亿美元,预计2022年将达到112亿美元。前道检测设备领域中,KLA
12、具有绝对优势,占52%的市场份额;另外,AMAT、Hitachi分别占12%、11%的市场份额。四、 提升科技创新能力提升企业主体竞争力。大力弘扬企业家精神,更好发挥企业家作用,建立健全企业家参与涉企创新规划、标准和政策制定机制。支持企业牵头联合高等院校、科研院所组建创新联合体,承担国家和省重大科技项目。发挥大企业引领支撑作用,大力培育科技型中小微企业和“专精特新”企业,支持创新型中小微企业成长为技术创新重要发源地,支持初创型、成长型科创企业健康发展,推动产业链上中下游、大中小企业融通创新。发挥企业家在技术创新中的重要作用,鼓励企业加大研发投入,支持研发公共服务平台建设,实施一批科技计划项目,
13、培育一批研发经费支出和支出强度省“双100强”“市双50强”企业。支持企业构建全球价值链网络,推动企业“走出去”,培育更多具有国际市场影响力的跨国企业。加快推动企业数字化变革,构建跨行业、跨领域服务的工业互联网平台和企业级平台,形成平台经济集聚发展效应,到2025年,营业收入超百亿元平台企业达10家以上。注重从供给端入手,引导企业加大技术改造和设备更新力度,加快企业上云,建设智能车间、智能工厂,应用大数据、工业互联网等新技术,研发生产适销对路的优质产品,创造适应高品质需求的有效供给。壮大创新型企业群体。实施高新技术企业、上市企业“双倍增”和规模以上工业企业“递增”计划。支持规模以下高新技术企业
14、“升规”,规模以上企业“升高”,加快发展壮大规模以上高新技术企业。鼓励企业参与研究制定政府重大技术创新规划、计划、政策和标准,支持牵头实施产业集群协同创新项目。力推新产业、新技术、新业态、新模式加资本市场“四新加一资”模式,引导推动符合条件的科技型企业在沪港深交易所上市,培育形成一批具有竞争优势的高新技术企业、瞪羚企业。实现高新技术企业、国家科技型中小企业数量“双倍增”,规模以上工业企业研发机构覆盖率50%以上,上市企业达到40家以上。加快建设高水平创新平台。推行政府引导、企业主导、“政产学研用金”深度合作模式,围绕重点产业布局重点研发创新平台,支持骨干企业争创国家技术创新中心、产业创新中心、
15、制造业创新中心、(重点)实验室等重大平台,支持骨干企业建设工程技术研究中心、新型研发机构、院士工作站、博士后科研工作站等研发机构。支持新能源及智能汽车、智能农业装备、第三代半导体工程研究中心、多品类食品大数据等争创分行业国家级、省级产业创新中心。鼓励哈特机器人产业技术研究院、中科大芜湖智慧城市研究院、西电芜湖研究院、中科院上海光机所激光产业技术研究院等重点研发创新平台提质升级。进一步深化与中国科技大学、浙江大学、哈尔滨工业大学、西安电子科技大学、东南大学、中科院上海光机所等高校院所合作,打造集高端人才培养、产教融合发展、区域协同创新等功能于一体的高等研究院。支持在芜高校设置新工科专业,打造产业
16、(行业)特色学院。吸引G60科创走廊先进制造企业和科研机构来芜投资兴业,实施科技成果产业化。围绕走廊经济发展,主动融入杭州城西科创走廊,吸引浙江高校人才来芜创新创业。促进高新技术产业发展,提升高新园区创新能力,培育若干创新型产业集群,打造“众创空间+孵化器+加速器”的科技创业孵化链条。到2025年,国家级、省级创新平台实现翻番,新增企业研发平台1000个以上,力争建成3-5个国内外有重要影响力的高端研发创新平台。五、 项目实施的必要性(一)现有产能已无法满足公司业务发展需求作为行业的领先企业,公司已建立良好的品牌形象和较高的市场知名度,产品销售形势良好,产销率超过 100%。预计未来几年公司的
17、销售规模仍将保持快速增长。随着业务发展,公司现有厂房、设备资源已不能满足不断增长的市场需求。公司通过优化生产流程、强化管理等手段,不断挖掘产能潜力,但仍难以从根本上缓解产能不足问题。通过本次项目的建设,公司将有效克服产能不足对公司发展的制约,为公司把握市场机遇奠定基础。(二)公司产品结构升级的需要随着制造业智能化、自动化产业升级,公司产品的性能也需要不断优化升级。公司只有以技术创新和市场开发为驱动,不断研发新产品,提升产品精密化程度,将产品质量水平提升到同类产品的领先水准,提高生产的灵活性和适应性,契合关键零部件国产化的需求,才能在与国外企业的竞争中获得优势,保持公司在领域的国内领先地位。第二
18、章 市场预测一、 半导体设备行业集成电路系采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及它们之间的连接导线全部制作在一小块半导体晶片如硅片或介质基片上,然后焊接封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的电子器件。半导体设备在芯片制造中发挥着重要作用。半导体设备是半导体制造的基石,是半导体行业的基础和核心。半导体工艺流程主要包括硅片制造、IC设计、芯片制造和芯片封测,从产业链来看,半导体设备在硅片制造以及芯片制造的前道/后道工艺中均发挥着重要作用。二、 涂胶显影设备涂胶显影设备是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。涂胶显影设备是与光刻机配合进行作业的关键处理设备,主要负责
19、涂胶、烘烤及显影。涂胶/显影机作为光刻机的输入(曝光前光刻胶涂覆)和输出(曝光后图形的显影)设备,主要通过机械手使晶圆在各系统之间传输和处理,从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程,其直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成,从而影响后续蚀刻和离子注入等工艺中图形转移的结果。在早期的集成电路和较低端的半导体制造工艺中,此类设备往往单独使用,随着集成电路制造工艺自动化程度及客户对产能要求的不断提升,多与光刻设备联机作业,KrF、ArF以及ArFi工艺设备逐渐占领市场。三、 半导体设备行业的壁垒技术壁垒:1)半导体设备是由成千上万的零部件组成的复杂系统,将成千上万的零部件有机组合在一起实
20、现精细至nm级别的操作是第一个难点。2)保障设备在nm级别的操作基础上的超高良率是半导体设备制造过程中的第二个难点。制造一块芯片通常需要上百台设备紧密配合,历经400-500道工序,若单工序良率仅能做到99%,则历经500道工序最终良率不足1%;提升至小数点后两位的水平才能使良率达到95%以上。3)保障设备在实现以上两个要求的基础上长时间稳定的运行是半导体设备制造过程中的第三个难点。与上述同理,一条芯片产线上百台设备,每一台设备稳定运行时间的微小降低将在整个体系内被巨额放大。若发生设备宕机造成该批假设1000片晶圆的报废,在28nm及以下的制程级别对应的损失超过300万美元,近2000万人民币
21、。客户验证壁垒:正是由于设备本身和产线构成的复杂性,单设备的良率、稳定性会在整个体系内产生累积效应的影响,同时可能带来巨额的潜在损失,因此晶圆制造厂商对于上游设备的验证、验收有严苛的标准和流程。同时,对于晶圆制造厂而言,配合上游设备验证需要付出大量的人力(合作研发、调试)、物力(拿出其他设备配合验证的机会成本损失、验证过程中的物料损失),以及采用新设备供应商面临的巨大潜在风险(批量晶圆报废的风险、向客户延迟交货的风险),很少有晶圆厂愿意承担以上的损失和风险去验证新供应商的设备。第三章 项目绪论一、 项目名称及项目单位项目名称:芜湖半导体前道设备项目项目单位:xxx有限责任公司二、 项目建设地点
22、本期项目选址位于xxx(待定),占地面积约40.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设。三、 可行性研究范围1、项目提出的背景及建设必要性;2、市场需求预测;3、建设规模及产品方案;4、建设地点与建设条性;5、工程技术方案;6、公用工程及辅助设施方案;7、环境保护、安全防护及节能;8、企业组织机构及劳动定员;9、建设实施与工程进度安排;10、投资估算及资金筹措;11、经济评价。四、 编制依据和技术原则(一)编制依据1、国民经济和社会发展第十三个五年计划纲要;2、投资项目可行性研究指南;3、相关财务制度、会计制度;4、投资项
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