学校实验室场所安全卫生管理要点.ppt

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1、学校实验室场所安全卫生管理要点 Still waters run deep.流静水深流静水深,人静心深人静心深 Where there is life,there is hope。有生命必有希望。有生命必有希望國立臺灣大學校總區職業災害通報及聯絡圖(草案)95.3.修訂版 通報 處理 尋求協助駐警隊3366-9110保健中心3366-9595環安衛中心3366-2002總值日官室3366-9119實驗場所負責人系所主任生輔組3366-2048學務長3366-1248家屬院長校長3366-2000衛生署疾病管制局 26532653-14461446原子能委員會82318231-72507250北

2、市勞檢處25962596-99989998北市環保局27202720-63016301北區毒災應變諮詢中心08000800-057057-119119陸軍化學兵實驗所0303-365365-54855485消防局119119台大醫院急診室23562356-22642264榮總毒化物諮詢中心28712871-71217121三軍總醫院87928792-33113311 分機分機 8860688606發現職業災害總務長3366-2233總務處3366-2232對於室內工作場所，學校應依規定設置足夠人員使用之通道，應有適用其用途之寬度，其主要人行道不得小於一公尺。自路面起算二公尺高度之範圍內，不得有

3、障礙物，但因工作之必要，經採防護措施者，不在此限。貯存高壓氣體時，貯存周圍二公尺內不得放置有煙火及著火性、引火性物品。可燃性氣體、有毒性氣體及氧氣之鋼瓶，應分開貯存。容器應保持在攝氏四十度以下。對工作人員及學員生於高差超過一五公尺以上之場所工作時，學校應設置使人員安全上下之設備。半導體製造業各製程潛在危害暴露 化學性危害物理性危害人因工程危害刺激性/有害氣體金屬 酸鹼有機溶劑游離輻射RFUV高溫 噪音擴散工程擴散工程 化學槽高溫爐管微影工程微影工程曝光光阻/顯影薄膜工程薄膜工程 離子植入氣相沉積蝕刻工程半導體製造業作業環境造成危害來源主要分成三大類：A.酸液：醋酸、鹽酸、硝酸、磷酸、硫酸、氫氟酸等六種。B.溶劑：丙酮、2-甲氧基乙醇、乙酸正丁酯、過氧化氫、甲醇、異丙醇、甲苯、三氯乙烯、三氯乙烷、二甲苯、乙二醇單甲醚醋酸酯（ethyleneglycolmonomethyletheracetate）、HMDS（hexamethyldisilazane）等十二種。C.反應氣體：氯化氫、砷化氫、三氟化硼、乙硼烷、二氯矽烷、磷化氫、三氯化硼、矽烷、六氟化硫、氧氯化磷、三氟化氮等十一種。