表面科学与技术作业.docx
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1、表面科学与技术课程作业班级:* 学号:* 姓名: 联系电话:作业题目:微弧氧化在钛及钛合金表面处理的应用摘要: 钛及钛合金具有低密度、良好的耐腐蚀能力、高比强度以及令人满意的生物相容性,使其在航空航天、化工、生物医学等领域得到了广泛的应用。然而钛及钛合金表面硬度低,在滑动摩擦条件下摩擦力学性能差,特别是摩擦和磨损抗力相当低,严重地限制了其应用范围。本文围绕着钛合金的微弧氧化技术展开,详细的说明了钛合金微弧氧化技术的基本原理,以及钛合金表面微弧氧化的基本工艺过程。通过分析微弧氧化工艺中对钛合金表面质量的影响因素,找出了钛合金表面陶瓷层与电参数和电解液等的定性或半定量关系,并且得出了比较好的电参数
2、的数据和电解液中的电解质。最后,通过对比各种表面处理技术,得出了钛合金微弧氧化的优缺点,并对未来钛合金微弧氧化的发展做出了大胆预测。关键词:钛合金 微弧氧化 表面处理 陶瓷化1、前言钛及钛合金具有低密度、良好的耐腐蚀能力、高比强度以及令人满意的生物相容性,使其在航空航天、化工、生物医学等领域得到了广泛的应用,并为社会带来了巨大的经济效益1。然而钛及钛合金表面硬度低,在滑动摩擦条件下摩擦力学性能差,特别是摩擦和磨损抗力相当低,严重地限制了其应用范围2。随着钛及钛合金在各领域的广泛应用发展,为了有效地利用钛及钛合金的优异性能,对其进行表面处理,改善其表面缺点成了各国科学家的研究方向。2、微弧氧化原
3、理微弧氧化技术(microarc oxidation,MAO)又称微等离子体氧化(plasma microarc oxidation,PMAO)、阳极火花沉积(anodic spaddeposition,ASD)等3。微弧氧化技术是近几十年才发展起来的新兴表面处理技术,它是在普通阳极氧化的基础上发展起来的,但与阳极氧化存在一些差别4。微弧氧化是一种利用A1、Mg、Ti等有色金属或其合金在特定的电解液中作阳极,在较高的电压作用下,使被处理材料表面产生大量的微小火花放电,在热化学、电化学和等离子体化学的共同作用下生长氧化陶瓷膜的新技术5。微弧氧化一Miero-are Oxidation简称MAO5
4、。其将钛、铝、镁等有色金属及其合金产品做阳极,在电解液、电源及拄制系统作用下,通电后在基体基本金属表面立即生成一层疏松的氧化物绝缘薄膜。随着电压的升高,电解液与基体金属界面处0.5mm范围内电势急剧增加,导致界面附近场强达106V/m量级,有色金属合金表面氧化物薄膜层及附近的气体薄层被击穿,在产品表面有许多游动的发光点,此为微弧放电现象。放电使产品温度升高至100。C-150。C,火花瞬间可达到2000。C的高温,这使常温下一系列不可能的反应成为可能,在产品表面发生了一系列复杂的物理化学反应,最终在表面形成连续的均匀的致密陶瓷层。其过程是可以看做是空间电荷在氧化物基体中形成、在氧化物孔中发生气
5、体放电、膜层材料的局部熔化、热扩散、带负电的胶体微粒迁移进入放电通道、等离子体化学与热化学反应。把气体放电看作电子“雪崩”,正是由于发生了电子“雪崩”和强烈的热扩散这两过程,生成物才具有陶瓷的特征6。3、微弧氧化对钛合金进行表面处理微弧氧化对钛及钛合金的表面进行处理的方法有很多种,不同方法之间存在一定的差异,比如:电解液、电压、电流密度等,但其本质过程是相同的。下图为微弧氧化设备的基本原理图:对其反应过程的详细分析知,微弧氧化在宏观上可分为四个阶段7:在电压达到临界击穿电压之前几分钟内属于普通阳极氧化阶段,表面生成一层很薄的绝缘氧化膜;当电压达到临界击穿电压时,氧化膜被击穿,试样表面出现无数细
6、小的白色火花,此为火花放电阶段;随着外加电压和膜厚的增加,表面出现移动的较大红色弧点,同时也存在大量细小白色火花,此时进入微弧阶段;停止加压一段时间后红色弧斑开始减弱直到完全消失,这是最后一个阶段。但有时跳动的弧点逐渐变得稀疏,开始出现少数更大的红色弧点,这些弧点不再移动,而是停在某一部位连续放电,并发出尖锐的爆鸣声,同时仍可观察到大量白色火花,此时进入弧光放电阶段。这种连续放电的弧点对膜破坏较大,在膜表面形成大坑,损坏陶瓷膜的整体性能,因此应通过改变实验条件尽量避免它出现,弧氧化过程中,火花弧均属微区弧光放电现象,放电区域处于等离子状态。微弧氧化对钛合金表面的具体工艺过程8,将准备好的Ti(
7、Ti一6Al-4V)片(30mm20mm)放入CHCl3中清洗,约10min,取出,放入HCl和HF混合溶液中酸蚀30s,然后在去离子水和丙酮中进行漂洗。将清洗过的钛合金片作为阳极,Mo作为对电极,放人Na3PO4。电解液中进行微弧氧化,在钛合金表面形成Ti02薄膜。Na3PO4电解液的浓度变化为00.2mol/L,工作电压为300V,电流密度稳定在2mA/mm。氧化时间为5min。制备条件及晶相组成见表1。4、影响表面质量的因素影响钛合金表面处理质量的因素有很多,但是其中电解液和电参数(电压和电流密度)是最重要的影响因素,我们在此只研究这两项对表面质量的影响。4.1电参数电压和电流密度是微弧
8、氧化最基本的电参数,直接影响了膜层的形成、结构形貌及性能。此外脉冲电源制备的氧化膜性能较其他电源都好,主要是频率、占空比等电参数对试样表面放电特征有明显影响且容易控制,可通过调整电参数优化膜层的性能9。4.1.1电压当电压超过某一值,发生放电击穿后微弧氧化才能进行,因此陶瓷层厚度和施加的电压有着密切关系。由于电击穿过程是一个包含化学和电化学过程以及光、电、热等作用的复杂行为理论研究十分困难。根据S.Ikonopisov等的电子雪崩模型10击穿电压主要取决于金属的性质、电解液的组成及溶液的导电性,而电流密度、电极形状以及升压方式等对击穿电压的影响较小,而陶瓷层厚度与击穿电压和最终成膜电压都有关。
9、根据龙北红、吴汉华等的实验11,我们得知氧化膜的厚度和成分与电压的变化关系。恒定电压制备的钛合金微弧氧化陶瓷膜主要包含金红石和锐钛矿的TiO2及少量不饱和氧化的Ti6Oll(或TiOl.83)。它们在氧化膜中各自的比例受处理时间和阴、阳极峰值电压的影响较大.当阴、阳极峰值电压分别控制在45V和32OV,处理时间为3Omin时,氧化膜中金红石TiO2的含量最高,达到8O%。4.1.2电流密度电流密度对陶瓷层的生长速率、陶瓷层厚度、形貌和成分都有重要的影响。根据金凡亚、童洪辉等人的实验结果12,我们可以得知对钛合金的表面进行微弧氧化时,不同的电流密度成膜的速度不同,随着电流密度的增大,带来了维持放
10、电的高电压,形成单脉冲微弧放电的能量增大,在放电区钛和氧化膜熔融量增大,对应着氧化膜的成膜速度快;同时等离子体放电更加强烈,使得放电通道在等离子体淬灭后具有更大的孔径,表面更粗糙,且膜和孔的内表面淀积了电解液溶质、基材、氧化膜的多种物质及纳米颗粒。4.2电解液通过选择合适的电解液体系,可以用微弧氧化法在钛合金基体表面制备出成分、结构和性能各异的陶瓷层。李光岩通过控制电解液的成分含量,定量的研究了含Ca-P等的涂层13。实验中电解液的磷盐采用磷酸二氢铵(NH4)H2P04或磷酸氢二铵(NH4)HP04;含钙化合物主要采用醋酸钙(CH3COO)2CaH20、磷酸钙Ca3(P04)2、碳酸钙CaCO
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