半导体异质结构教案资料.ppt
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1、半导体异质结构第五章第五章 半导体异质结构半导体异质结构 5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(1)不考虑界面态时的能带图l 突变反型(pn)异质结能带图(形成异质结后)u交界面两边形成空间电荷区(x1-x2),产生内建电场。u两种半导体材料的介电常数不同,因此内建电场在交界面处(x0)不连续。u空间电荷区中的能带特点:1)能带发生弯曲,尖峰和势阱,2)能带在交界面处不连续,有一个突变。P型N型5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(1)不考虑界面态时的能带图l 突变反型(pn)异质结能带图(形成异质结后)P型N型u 内建电势差VD u 导带阶 u 价带阶 以上式子对所有
2、突变异质结普适5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(1)不考虑界面态时的能带图l 突变p-nGe-GaAs异质结能带图n-GaAs交界面两侧半导体中的内建电势差VD1,VD2由掺杂浓度、空间电荷区(势垒区)宽度和相对介电常数共同决定。5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(1)不考虑界面态时的能带图l 突变反型(np)异质结能带图形成异质结前形成异质结后P型N型P型N型5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(1)不考虑界面态时的能带图形成异质结前形成异质结后l 突变同型(nn)异质结能带图在同型异质结中,一般必有一边成为积累层,一边为耗尽层。5.1 5.1 异质
3、结及其能带图异质结及其能带图(1)不考虑界面态时的能带图形成异质结后l 突变同型(pp)异质结能带图对于反型异质结,当1=2,Eg1=Eg2,1=2时,成为普通的PN结。5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(2)考虑界面态时的能带图u制造突变异质结时,通常在一种半导体材料上生长另一种半导体单晶材料,或采用真空蒸发技术。u两种半导体材料之间的晶格失配:2(a2-a1)/(a1+a2),a1,a2为两种半导体的晶格常数。u异质结中的晶格失配导致两种半导体材料的交界面处产生了悬挂键,引入了界面态。接触前接触后5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(2)考虑界面态时的能带图u若两
4、种半导体材料在交界面处的键密度分别为Ns1,Ns2,形成异质结后,晶格常数小的材料表面出现部分未饱和键,突变异质结交界面处的悬挂键密度:u对于两种相同晶体结构材料形成的异质结,交界面处悬挂键密度Ns取决于晶格常数和作为交界面的晶面。5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(2)考虑界面态时的能带图u对于n型半导体,悬挂键起受主作用,受主型界面态施放空穴后带上负电荷,因此表面能带向上弯曲。u对于p型半导体,悬挂键起施主作用,施主型界面态施放电子后带上正电荷,因此表面能带向下弯曲。N型P型表面能级密度大的半导体能带图-+-5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(2)考虑界面态时的
5、能带图 当悬挂键(或界面态)的密度很高时,界面态电荷产生的电场往往大于由两种半导体材料接触而产生的电势差,在这样情况下,异质结的能带图往往由界面态所引起的能带的弯曲来决定。5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(2)考虑界面态时的能带图pnpnnpnpnnpp悬挂键起施主作用时悬挂键起受主作用时(界面态密度很大时)5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(2)考虑界面态时的能带图u当两种半导体的晶格常数极为接近时,晶格间匹配较好,一般可以不考虑界面态的影响。u但在实际中,即使两种半导体材料的晶格常数在室温时相同,但如果它们的热膨胀系数不同,在高温下,也将发生晶格失配,从而产生
6、悬挂键,在交界面处引入界面态。u化合物半导体形成的异质结中,由于化合物半导体中成分元素互扩散,也会引入界面态。5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(3)突变反型异质结的接触电势差及势垒区宽度P型N型u不考虑界面态,以突变pn异质结为例。u设p型和n型半导体中杂质均匀分布,浓度分别为NA1和ND2.势垒区正负空间电荷区宽度:d1=x0-x1,d2=x2-x0求解交界面x0两边的泊松方程,得到势垒区两侧内建电势差为:1,2分别为p型和n型半导体的介电常数。XD5.1 5.1 异质结及其能带图异质结及其能带图(3)突变反型异质结的接触电势差及势垒区宽度P型N型u 势垒区内的正负电荷总量相
7、等,XD势垒区宽度:,5.2 5.2 突变异质突变异质pnpn结的电流电压特性结的电流电压特性u异质结由两种不同材料形成,交界面处能带不连续,存在界面态,因此异质结的电流电压关系比同质结复杂得多。u异质pn结按势垒尖峰高低的不同,有两种情况,分别采用不同的模型来处理电流电压特性。u低势垒尖峰:势垒尖峰顶低于p区导带底,采用扩散模型。u高势垒尖峰:势垒尖峰较p区导带底高得多,采用发射模型。PNPN5.2 5.2 突变异质突变异质pnpn结的电流电压特性结的电流电压特性(1)低势垒尖峰情况扩散模型PNPN 外加正向偏压V(V1,V2分别为加在p区和n区的电压)零偏压正偏压通过异质pn结的总电流密度
8、:5.2 5.2 突变异质突变异质pnpn结的电流电压特性结的电流电压特性(1)低势垒尖峰情况扩散模型 外加正向偏压V由窄带隙p型半导体和宽带隙n型半导体形成的异质pn结,Ec0,Ev0,且比室温下k0T大得多。PN通过结的电流主要由电子电流组成,空穴电流占比很小。由于导带阶Ec 的存在,n区电子面临的势垒高度由qVD下降至qVD-Ec,而空穴面临的势垒高度升高了Ev,导致电子电流大大超过空穴电流。5.2 5.2 突变异质突变异质pnpn结的电流电压特性结的电流电压特性(2)高势垒尖峰情况热电子发射模型 外加正向偏压VPN 由n区扩散向结处的电子,只有能量高于势垒尖峰的才能通过发射机制进入p区
9、。正向电流主要由从n区注入p区的电子流形成。发射模型也得到正向电流随电压按指数关系增加。EFnEFp5.3 5.3 异质异质pnpn结的注入特性结的注入特性(1)异质pn结的高注入特性异质pn结(低势垒尖峰)电子电流与空穴电流的注入比为:(饱和杂质电离时)电子、空穴扩散系数D 和扩散长度L 在同一数量级,而可远大于1。即使ND2 Eg时,除产生一个电子-空穴对外,多余的能量hv-Eg将以热的形式耗散掉。非本征跃迁:如果hvEg,则只有当禁带内存在合适的化学杂质或物理缺陷引起的能态时,光子才会被吸收。如(c).6.1 6.1 半导体中光吸收半导体中光吸收 吸收系数 假设半导体被一光源照射,沿光传
10、播方向上,在距离表面x处的光通量(单位时间垂直通过单位面积的光子数)为:吸收系数是光子能量h 的函数,称为吸收曲线。吸收系数在截止波长c处急剧下降,截止波长附近的吸收曲线称为吸收边。直接跃迁6.1 6.1 半导体中光吸收半导体中光吸收 本征吸收本征吸收 hk hk=光子动量 但一般半导体吸收的光子,其动量远小于能带中的电子的动量,光子动量可忽略不计,k k,电子吸收光子产生跃迁时波矢保持不变,如价带中状态A的电子只能跃迁到导带中的状态B,这种跃迁称为直接跃迁,属于本征跃迁。光照下,电子吸收光子的跃迁过程,除满足能量守恒外,还必须满足动量守恒。直接跃迁任何一个k值的不同能量的光子都有可能被吸收,
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