芯片制造工艺与芯片测试教学文稿.ppt
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1、芯片制造工艺与芯片测试半导体圆柱单晶硅的生长过程制备制备Wafer11/22/20222二、二、Wafer加工过程加工过程11/22/20223光刻光刻 Photolithography11/22/202241.Waferprepare,deepNwelllithoandimpl.DeepNwell二、二、Wafer加工过程加工过程11/22/20225DeepNwell二、二、Wafer加工过程加工过程2.Padoxide,nitridedeposit,diffusionlitho,trenchetch11/22/20226DeepNwell3.Trenchoxide,litho,etcha
2、ndCMP;Nitrideremoveandsacoxide二、二、Wafer加工过程加工过程11/22/20227DeepNwell4.Pwelllitho,impl.,VTNimpl.二、二、Wafer加工过程加工过程11/22/20228DeepNwell5.Nwelllitho,impl.;VTPphoto,impl.二、二、Wafer加工过程加工过程11/22/20229DeepNwell二、二、Wafer加工过程加工过程6.Sacoxideremove,gate1oxideandlitho,gate2oxide11/22/202210DeepNwell7.Polydeposit,l
3、itho,andetch;NLDDphotoandimpl.;PLDDphotoandimpl.;Spacerdep.andetch二、二、Wafer加工过程加工过程11/22/202211DeepNwell8.N+S/Dphotoandimpl.;P+S/Dphotoandimpl.二、二、Wafer加工过程加工过程11/22/202212DeepNwell二、二、Wafer加工过程加工过程9.RPOdeposit,photoandetch;Salicideformation11/22/202213DeepNwell二、二、Wafer加工过程加工过程10.ILDdep.andCMP11/22
4、/202214DeepNwell二、二、Wafer加工过程加工过程11.Contphotoandetch;Wdep.andCMP11/22/202215DeepNwell二、二、Wafer加工过程加工过程12.Met1dep.,photoandetch11/22/202216DeepNwell二、二、Wafer加工过程加工过程13.Via1,Met2,Via2,Met3,Via3,Met4,CTM4,Via4,TME11/22/202217DeepNwell二、二、Wafer加工过程加工过程14.Passivationdep.,photo,andetch;Alloy11/22/20221811
5、/22/202219 封装流程封装流程三、三、IC 封装过程封装过程11/22/202220BACK GRINDING 晶圆背面研磨晶圆背面研磨WAFER WAFER TRUCK TABLEGRINDING WHEEL 三、三、IC 封装过程封装过程11/22/202221WAFER WAFER SAW晶圆切割WAFER MOUNTBLUE TAPE DIE SAW LADE 划片划片三、三、IC 封装过程封装过程11/22/202222Die Bond(Die Attach)上上 片片BOND HEAD EPOXY SUBSTRATE EPOXY CURE(DIE BOND CURE)三、三
6、、IC 封装过程封装过程11/22/202223 Wire Bond GOLD WIRE CAPILLARY DIE PAD FINGER(INNER LEAD)三、三、IC 封装过程封装过程11/22/202224Compound Mold chase Molding Gate insert Runner Top cull block Cavity Top chase Air vent Compound Pot Plunger Substrate Bottom cull block Bottom chase 三、三、IC 封装过程封装过程11/22/202225Marking INK MAR
7、K LASER MARK SPREADTRUM Sample 20 JUN SPREADTRUM Sample 20 JUN SPREADTRUM Sample 20 JUN SPREADTRUM Sample 20 JUN 三、三、IC 封装过程封装过程11/22/202226Ball Attach FLUX FLUX PRINTING BALL ATTACH TOOL BALL ATTACH VACUUM SOLDER BALL REFLOW 三、三、IC 封装过程封装过程11/22/202227PUNCH Singulation ROUTER SPREADTRUM Sample 20 J
8、UN SPREADTRUM Sample 20 JUN SPREADTRUM Sample 20 JUN SPREADTRUM Sample 20 JUN SAW SINGULATION 三、三、IC 封装过程封装过程11/22/202228封装种类封装种类DIP 双列直插SIP 单列直插PQFP 塑料方型扁平式封装BGA 球栅阵列封装球栅阵列封装 PGA 针栅阵列封装CSP 芯片尺寸封装MCM 多芯片封装11/22/20222911/22/202230四、四、IC 的测试的测试TEST OBJECTIVES 测试目的分类测试目的分类Design Verification 设计验证测试设计验证
9、测试Production Tests 大生产测试大生产测试Characterization Tests 特性分析测试特性分析测试Failure Analysis Tests 失效分析测试失效分析测试TESTING STAGES 测试阶段分类测试阶段分类Wafer Sort Testing 晶园测试晶园测试(中测中测)Package Device Testing 成品测试成品测试Incoming Inspection Testing 入厂筛选测试入厂筛选测试TEST ITEMS 测试内容分类测试内容分类Per-Pin Testing 管脚测试管脚测试Parametric Testing 参数测试
10、参数测试Functional Testing 功能测试功能测试11/22/202231WaferProcessWaferTestBox&ShipFinal TestBurn InPackageAssembly Economic Gate Tester Fault Coverage vs.costWafer Test vs.Final TestWafer Test vs.Final Test Quality Gate Tester Fault Coverage vs.Escape costPackage costProcess Yield11/22/202232测试程序开发流程测试程序开发流程D
11、evice and Test SpecificationsDefine pinmap,test philosophy,conditionsSelect ATE and required configDevelop DIB and interfaceCreate test waveforms,test patterns,clock/timing solutions,test procedures,simulate off-lineOn-Tester debugRepeatability,correlation,and test time optimizationTest program rele
12、ase to Production?11/22/202233芯片工艺过程小节芯片工艺过程小节从硅片到芯片要经过一系列的氧化、光刻、扩散、离子注入、生长多从硅片到芯片要经过一系列的氧化、光刻、扩散、离子注入、生长多晶硅、淀积氧化层、淀积金属层等等晶硅、淀积氧化层、淀积金属层等等50100到工序到工序硅片经过一次次物理、化学过程,受到一张张掩模的约束,在硅表明硅片经过一次次物理、化学过程,受到一张张掩模的约束,在硅表明形成了一个个电子器件及连线,由此构成逻辑单元乃至整个系统形成了一个个电子器件及连线,由此构成逻辑单元乃至整个系统简称硅表面加工工艺简称硅表面加工工艺芯片制造过程首先要得到的是硅表面加
13、工工艺需要的掩模芯片制造过程首先要得到的是硅表面加工工艺需要的掩模掩模制造过程是集成电路设计生产中成本最高的环节掩模制造过程是集成电路设计生产中成本最高的环节11/22/202234芯片工艺过程小节芯片工艺过程小节加工工艺加工工艺WafferMaskset0.18um 1P6M$1600$180K0.16um 1P6M$1700$260K0.152um 1P6M$1800$270K90nm 1P7M$6000$870K65nm 1P7M$7500$1500K11/22/202235思考思考全面的功能验证、Timing分析趋近100的测试覆盖如何保证数以千万的晶体管能如期协调工作?如何确保交给用
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