半导体物理第八章精.ppt

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1、半导体物理第八章第1页，本讲稿共116页1半导体的表面结构半导体的表面结构l表面的概念表面的概念q晶体的周期性结构在表面中断，破坏了三维结构的对称性，晶体的周期性结构在表面中断，破坏了三维结构的对称性，会构成表面的特殊结构和性质会构成表面的特殊结构和性质;q理想表面理想表面就是指表面居中原子排列的对称性与体内原子就是指表面居中原子排列的对称性与体内原子完全相同，且表面上不附着任何原子成分子的半无限晶完全相同，且表面上不附着任何原子成分子的半无限晶体表面。因晶格在表面处突然终止，在表面外层的每个体表面。因晶格在表面处突然终止，在表面外层的每个原子将有一个未配对的电子，即有一个未饱和的键，这原子将

2、有一个未配对的电子，即有一个未饱和的键，这个键称作悬挂键，与之对应的电子能态就是个键称作悬挂键，与之对应的电子能态就是表面态；表面态；2第2页，本讲稿共116页1半导体的表面结构半导体的表面结构l表面的概念q表面有大量的原子键被断开而需要大量的能量，形成表面能；表面有大量的原子键被断开而需要大量的能量，形成表面能；q为降低表面能，表面和近表面的原子层间距发生变化而出现为降低表面能，表面和近表面的原子层间距发生变化而出现表面弛豫表面弛豫现象；现象；q表面的原子会重新组合，形成新键，从而改变表面原子的结构对称性，表面的原子会重新组合，形成新键，从而改变表面原子的结构对称性，出现所谓的出现所谓的表面

3、再构表面再构现象，降低悬挂键密度；现象，降低悬挂键密度；3第3页，本讲稿共116页q洁净理想表面实际上是不存在，表面上会形成一层单原子层洁净理想表面实际上是不存在，表面上会形成一层单原子层(一般主要由一般主要由氧原子组成氧原子组成)，在表面上覆盖了一层二氧化硅层，使硅表面的悬挂键大部，在表面上覆盖了一层二氧化硅层，使硅表面的悬挂键大部分被二氧化硅层的氧原子所饱和，表面态密度就大大降低；分被二氧化硅层的氧原子所饱和，表面态密度就大大降低；q由于不可避免的客观原因，表面会吸附其它原子和分子，由于不可避免的客观原因，表面会吸附其它原子和分子，q并对表面性质产生显著影响。并对表面性质产生显著影响。4第

4、4页，本讲稿共116页q由于悬挂键的存在，表面可与体内交换电子和空穴。例如，由于悬挂键的存在，表面可与体内交换电子和空穴。例如，n型硅悬挂键可型硅悬挂键可以从体内获得电子，使表面带负电。这负的表面电荷可排斥表面层以从体内获得电子，使表面带负电。这负的表面电荷可排斥表面层中电子使之成为耗尽层甚至变为中电子使之成为耗尽层甚至变为p型反型层。型反型层。q表面能级由两组，表面能级由两组，组为施主能级组为施主能级(带电子为中性，失去电子带正电荷带电子为中性，失去电子带正电荷)，靠近价带，另一组为受主能级（不带电子为中性，得到电子带负电），靠近价带，另一组为受主能级（不带电子为中性，得到电子带负电），靠近

5、导带。靠近导带。q表表面面处处还还存存在在由由于于晶晶体体缺缺陷陷或或吸吸附附原原子子等等原原因因引引起起的的表表面面态态，这这种种表表面面态态的的特点是，其数值与表面经过的处理方法有关。特点是，其数值与表面经过的处理方法有关。5第5页，本讲稿共116页l理想表面的电子态理想表面的电子态q讨论理想表面就是指表面居中原子排列的对称性与体内原子完全相同，讨论理想表面就是指表面居中原子排列的对称性与体内原子完全相同，且表面上不附着任何原子成分子的半无限晶体表面情形且表面上不附着任何原子成分子的半无限晶体表面情形,固体物理理想固体物理理想的清洁表面的清洁表面6第6页，本讲稿共116页7第7页，本讲稿共

6、116页波函数有限8第8页，本讲稿共116页波函数及其一阶导数在x=0处满足连续条件9第9页，本讲稿共116页波函数及其一阶导数在x=0处满足连续条件当k为实数时,能满足有限条件,两个方程解三个未知数,解总是存在的,这些解对应能带的允带.-说明在一维无限周期场中电子状态在半无限周期场中仍能实现.考察10第10页，本讲稿共116页当k为复数时,令同样考察都为实数11第11页，本讲稿共116页对于一维无限周期,x趋向正无穷大和负无穷大时候,不能满足波函数有限的边界条件,因此k不能取复数.对半无限周期,考虑x趋向负无穷大时,波函数为零,所以A1=0取负值，满足边界条件，故有解12第12页，本讲稿共1

7、16页上两式存在A2和A的非零接解条件是系数行列式等于0,因此可以求出电子能量E必须取实数,一般为复数。13第13页，本讲稿共116页以上说明，存在k取复数的电子状态存在，它们存在于x=0附近这些被局域在表面附近的能级就是表面能级。14第14页，本讲稿共116页2表面电场效应表面电场效应l一般概念一般概念q讨讨论论在在热热平平衡衡情情况况的的表表面面电电场场效效应应，以以及及外外加加电电场场作作用用下下半半导导体体表表面面层层内内现象。现象。q表表面面电电场场产产生生的的原原因因：功功函函数数不不同同的的金金属属和和半半导导体体接接触触，或或半半导导体体表表面面外吸附某种带电离子等。外吸附某种

8、带电离子等。q表面电场效应的研究方法表面电场效应的研究方法：MIS结构结构15第15页，本讲稿共116页VG=0时时,理想理想MIS结构的能带图结构的能带图Ev1Ec1EiEvEcEFsEFm理想的理想的MIS结构：结构：1）金属与半导体间功函数差为零；）金属与半导体间功函数差为零；2）在绝缘层内没有任何电荷且绝缘层完全不导电；）在绝缘层内没有任何电荷且绝缘层完全不导电；3）绝缘体与半导体界面处不存在任何界面态。）绝缘体与半导体界面处不存在任何界面态。16第16页，本讲稿共116页l空间电荷层及表面势的概念空间电荷层及表面势的概念qMIS结构相当于一个电容，在金属与半导体之间加电压后，在金属与

9、半导结构相当于一个电容，在金属与半导体之间加电压后，在金属与半导体相对的两个面上就要被充电。两者所带电荷符号相反，但电荷分布情况体相对的两个面上就要被充电。两者所带电荷符号相反，但电荷分布情况不同。不同。q金属中自由电子密度很高，电荷基本上分布在一个原子层的厚度范围之内；在金属中自由电子密度很高，电荷基本上分布在一个原子层的厚度范围之内；在半导体中自由载流子密度要低得多，电荷分布在一定厚度的表面层内，这个带半导体中自由载流子密度要低得多，电荷分布在一定厚度的表面层内，这个带电的表面层称做电的表面层称做空间电荷区空间电荷区。17第17页，本讲稿共116页l空间电荷层及表面势的概念空间电荷层及表面

10、势的概念q空间电荷区内从表面到内部电场逐渐减弱，到另空间电荷区内从表面到内部电场逐渐减弱，到另端减小到零。空间电荷区内端减小到零。空间电荷区内的电势随距离逐渐变化。半导体表面相对体内存在电势差，能带发生弯曲。常的电势随距离逐渐变化。半导体表面相对体内存在电势差，能带发生弯曲。常称空间电荷层两端的电势差为称空间电荷层两端的电势差为表面势表面势（VS表示）。表示）。q规定规定表面电势比内部高时取正值，反之取负值表面电势比内部高时取正值，反之取负值。表面势及空间电荷区内电荷。表面势及空间电荷区内电荷的分布情况随金属与半导体间所加的电压的分布情况随金属与半导体间所加的电压VG而变化，基本上可归纳为而变

11、化，基本上可归纳为多子堆积、耗尽和反型三种情况多子堆积、耗尽和反型三种情况：18第18页，本讲稿共116页（1 1）多多 子子 积积 累累l l特征特征：l1）能带向上弯曲并接近EF；EFmEFsEcEvEiQsQmxVGG多子数表面反型；3 3）反型层和半导体内部之间还夹着一层耗尽层。22第22页，本讲稿共116页l对于对于n型半导体型半导体，当金属与半导体间加正电压时，表，当金属与半导体间加正电压时，表面层内形成多数载流子电子的堆积；当金属与半导面层内形成多数载流子电子的堆积；当金属与半导体间加不太高的负电压时，半导体表面内形成耗尽体间加不太高的负电压时，半导体表面内形成耗尽层；当负电压进

12、一步增大时，表面层内形成有少数层；当负电压进一步增大时，表面层内形成有少数载流子空穴堆积的反型层。载流子空穴堆积的反型层。23第23页，本讲稿共116页P型半导体的表面电荷QS和表面势VS关系24第24页，本讲稿共116页2、理想理想理想理想MISMISMISMIS结构结构结构结构的电容效应的电容效应25第25页，本讲稿共116页VG=Vs+Vo (2)第26页，本讲稿共116页（1a1a）表面电场分布）表面电场分布E Es s3 3、表面空间电荷层的、表面空间电荷层的 电场、电势和电容电场、电势和电容27第27页，本讲稿共116页28第28页，本讲稿共116页29第29页，本讲稿共116页3

13、0第30页，本讲稿共116页（1b）表面电荷分布）表面电荷分布Qs s31第31页，本讲稿共116页32第32页，本讲稿共116页（1）多子积累时：Vs0讨论：/Qs/Vs33第33页，本讲稿共116页多子积累时：34第34页，本讲稿共116页(2)平带：平带：Vs=035第35页，本讲稿共116页（3 3）耗尽：）耗尽：V Vs s0036第36页，本讲稿共116页（3 3）耗尽：）耗尽：V Vs s0037第37页，本讲稿共116页xd38第38页，本讲稿共116页(4)反型反型回顾39第39页，本讲稿共116页qVBqVs(4)反型反型当表面处少子浓度等于体内多子浓度当表面处少子浓度等于

14、体内多子浓度,为强反型为强反型根据Boltzmann统计：40第40页，本讲稿共116页(4)反型反型根据Boltzmann统计：41第41页，本讲稿共116页开启电压VT：使半导体表面达到强反型时加在金属电极上的栅电使半导体表面达到强反型时加在金属电极上的栅电压就是压就是开启电压开启电压.42第42页，本讲稿共116页临界强反型时：临界强反型时：43第43页，本讲稿共116页强反型后：Vs 2VB，且qVsk0T根号内第二项是主要的根号内第二项是主要的44第44页，本讲稿共116页45第45页，本讲稿共116页出现强反型，表面耗尽层宽度就达到一个极大值出现强反型，表面耗尽层宽度就达到一个极大

15、值xdm，不再随外，不再随外加电压的增加而增加。这是因为反型层中积累电子屏蔽了外加电压的增加而增加。这是因为反型层中积累电子屏蔽了外电场的作用。电场的作用。耗尽层宽度极大值由耗尽层近似处理方法和强反型层条件耗尽层宽度极大值由耗尽层近似处理方法和强反型层条件得到。半导体单位面积上的电荷量由两部分组成，一部得到。半导体单位面积上的电荷量由两部分组成，一部分是电离受主的负电荷分是电离受主的负电荷NA，另一部分是反型层中的积累，另一部分是反型层中的积累电子。电子。46第46页，本讲稿共116页l深耗尽状态深耗尽状态q以以p型型半半导导体体为为例例，在在金金属属与与半半导导体体间间加加一一脉脉冲冲阶阶跃

16、跃或或高高频频正正弦弦波波形形成成的的正正电电压压时时，由由于于空空间间电电荷荷层层内内的的少少数数载载流流子子的的产产生生速速率率赶赶不不上上电电压压的的变变化化，反反型型层层来来不不及及建建立立，只只有有靠靠耗耗尽尽层层延延伸伸向向半半导导体体内内所所产产生生大大量量受受主主负负电电荷荷以以满满足足电电中中性性条条件件。因因此此，这这种种情情况况时时耗耗尽尽层层的的宽宽度度很很大大，可可远远大大于于强强反反型型时时的的最最大大耗耗尽尽层层宽宽度度，且且其其宽宽度度随随电电压压VG幅幅度度的的增增大大而而增增大大，这种状态称为这种状态称为深耗尽状态深耗尽状态。47第47页，本讲稿共116页l

17、讨论深耗尽状态向平衡反型状态的过渡过程讨论深耗尽状态向平衡反型状态的过渡过程:l阶跃陡变的正电压阶跃陡变的正电压深耗尽状态深耗尽状态l深耗尽状态深耗尽状态:产生率大于复合率产生率大于复合率l产生的电子产生的电子表面表面-反型层反型层l产生的空穴产生的空穴体内体内-与深耗层边缘的电离受主中和与深耗层边缘的电离受主中和l-深耗层减薄深耗层减薄l一定时间后一定时间后深耗层宽度减少到强反型时所对应的最大宽度深耗层宽度减少到强反型时所对应的最大宽度xdm48第48页，本讲稿共116页l讨论深耗尽状态向平衡反型状态的过渡过程:从深耗尽状态从深耗尽状态(宽度宽度 )过到平衡反型状态过到平衡反型状态(宽度宽度

18、 )的热驰豫时间的热驰豫时间 :热驰豫时间一般为热驰豫时间一般为1-100s,是一个快过程是一个快过程49第49页，本讲稿共116页q深耗尽状态是在实际中经常遇到的一种较重要的状态。深耗尽状态是在实际中经常遇到的一种较重要的状态。q在在非非平平衡衡电电容容电电压压法法测测量量杂杂质质浓浓度度分分布布，电电容容时时间间法法测测量量衬衬底底中中少数载流子寿命时半导体表面处于这种状态。少数载流子寿命时半导体表面处于这种状态。q电荷耦合器件电荷耦合器件(CCD)和热载流子的雪崩注入也工作在表面耗尽状态。和热载流子的雪崩注入也工作在表面耗尽状态。50第50页，本讲稿共116页 MIS MIS结构的结构的

19、C-VC-V特性特性前面已知前面已知:51第51页，本讲稿共116页 MIS MIS结构的结构的C-VC-V特性特性多子堆积多子堆积平带平带耗尽耗尽强反型强反型52第52页，本讲稿共116页 MIS MIS结构的结构的C-VC-V特性特性为了分析电容的变化特性为了分析电容的变化特性我们分情况考察我们分情况考察53第53页，本讲稿共116页（1 1）、多子积累时：）、多子积累时：（1）当/Vs/较大时，有C Co半导体从内部到表面可视为导通状态；C/Co（2）当/Vs/较小时，有C/Co1。MIS MIS结构的结构的C-VC-V特性特性54第54页，本讲稿共116页(2)(2)平带状态平带状态l

20、特征：特征：归一化电容与衬底掺杂浓度归一化电容与衬底掺杂浓度N NA A和绝缘层厚度和绝缘层厚度d do o有关。有关。nd do o 绝缘层厚度绝缘层厚度55第55页，本讲稿共116页（3 3）耗尽状态）耗尽状态56第56页，本讲稿共116页57第57页，本讲稿共116页（4 4）强反型后：）强反型后：A A、低频时、低频时58第58页，本讲稿共116页B B、高频时、高频时59第59页，本讲稿共116页结 论l（1）半导体材料及绝缘层材料一定）半导体材料及绝缘层材料一定l时，时，C-V特性将随特性将随do及及NA而而l变化；变化；l（2）C-V特性与频率有关特性与频率有关MIS结构等效电路

21、 MIS结构的C-V曲线60第60页，本讲稿共116页3 3、金属与半导体功函数差、金属与半导体功函数差W Wmsms 对对MISMIS结构结构C-VC-V特性的影响特性的影响l例：当Wm00W Wm m-W-Ws s=q=q（V Vmsms+V+Vi i）qVqVmsms：WmWs的情况。64第64页，本讲稿共116页如何恢复平带状况？VG=-Vms加上负栅压加上负栅压65第65页，本讲稿共116页使能带恢复平直的栅电压使能带恢复平直的栅电压C CFBFBV VFB1FB1平带电压平带电压V VFB1FB166第66页，本讲稿共116页4、绝缘层电荷对MIS 结构C-V特性的影响第67页，本

22、讲稿共116页（1A）假设在）假设在SiO2中距离中距离金属金属-SiOSiO2 2界面界面x处有一层处有一层正正电荷电荷金属SiO2半导体do假定假定W Wm m=W=Ws讨论：68第68页，本讲稿共116页恢复平带的方法：恢复平带的方法：半导体绝缘层金属doVG0使能带恢复平直的栅电压69第69页，本讲稿共116页使能带恢复平直的栅电压半导体绝缘层金属do70第70页，本讲稿共116页（2）一般情况：）一般情况：正电荷在正电荷在SiO2中有一定的体分布中有一定的体分布71第71页，本讲稿共116页72第72页，本讲稿共116页真实的真实的Si-SiO2系统性质系统性质 lSi-SiO2系统

23、q硅表面SiO2形成方法：热氧化或化学汽相沉积法q表面SiO2结构：薄膜呈无定形玻璃状，近程有序的网络状结构，基本单元是一个由硅氧原子组成的四面体 q外来杂质主要类型：一是P、B等替位式杂质，它们替代Si位于四面体的中心；另一种是间隙式杂质，它们存在于网络间隙之中，如钠、钾等大离子，易于摄取四面体中的一个桥键氧原子，形成一个金属氧化物键而削弱或破坏网络状结构，导致杂质原子易于迁移或扩散。73第73页，本讲稿共116页q硅器件真实的表面硅器件真实的表面上，二氧化硅薄膜。上，二氧化硅薄膜。存在多种形式的电存在多种形式的电荷或能量状态荷或能量状态74第74页，本讲稿共116页l二氧化硅中的可动离子二

24、氧化硅中的可动离子q杂质在二氧化硅中扩散时的扩散系数具有以下形式：杂质在二氧化硅中扩散时的扩散系数具有以下形式：实验显示实验显示Na原子的扩原子的扩散系数最大散系数最大q钠离子的漂移可引起二氧化硅层中电荷分布的变化，从而影响钠离子的漂移可引起二氧化硅层中电荷分布的变化，从而影响C-V特性关系。特性关系。将引起将引起MOS结构的结构的C-V特性曲线沿电压轴发生漂移，漂移量的大小和特性曲线沿电压轴发生漂移，漂移量的大小和钠离子的数量及其在二氧化硅层中的分布情况有关。钠离子的数量及其在二氧化硅层中的分布情况有关。75第75页，本讲稿共116页 温度偏压实验1状态状态q温度偏压实验温度偏压实验 76第

25、76页，本讲稿共116页q温度偏压实验温度偏压实验 温度偏压实验2状态状态77第77页，本讲稿共116页q温度偏压实验温度偏压实验 温度偏压实验3状态状态78第78页，本讲稿共116页q温度偏压实验温度偏压实验 温度偏压实验温度偏压实验温度偏压实验QNaCoVFB钠离子数为：钠离子数为：NNaQNa/q79第79页，本讲稿共116页l二氧化硅层中的固定表面电荷作用二氧化硅层中的固定表面电荷作用q固定表面电荷特点：固定表面电荷特点：l这种电荷的面密度是固定的。电荷量不随能带弯曲而变化，既是说这这种电荷的面密度是固定的。电荷量不随能带弯曲而变化，既是说这种电荷不能进行充放电。种电荷不能进行充放电。

26、lQfg电荷位于硅电荷位于硅二氧化硅界面的二氧化硅界面的20nm范围以内。范围以内。lQfg值受氧化层厚度或硅中杂质类型及浓度的影晌不明显值受氧化层厚度或硅中杂质类型及浓度的影晌不明显l.Qfg与氧化和退火条件、以及硅晶体的取向有很显著的关系。与氧化和退火条件、以及硅晶体的取向有很显著的关系。l一般在硅和二氧化硅界面固定表面电荷为正电荷，过剩硅离子是产生一般在硅和二氧化硅界面固定表面电荷为正电荷，过剩硅离子是产生原因。原因。80第80页，本讲稿共116页l二氧化硅层中的固定表面电荷作用二氧化硅层中的固定表面电荷作用q固定表面电荷的存在也引起固定表面电荷的存在也引起MOS结构结构C-V特性曲线发

27、生变特性曲线发生变化。固定带正电表面电荷引起半导体表面层中能带向下弯曲。化。固定带正电表面电荷引起半导体表面层中能带向下弯曲。要恢复平带情况，需要在金属与半导体间加一负电压，即平带要恢复平带情况，需要在金属与半导体间加一负电压，即平带点沿电压轴向负方向移动一个距离。点沿电压轴向负方向移动一个距离。81第81页，本讲稿共116页q固固定定表表面面电电荷荷分分布布靠靠近近硅硅二二氧氧化化硅硅界界面面，近近似似地地认认为为这这电电荷荷就就分分布布在在界面处，故平带电压界面处，故平带电压再考虑金属和半导体功函数差的影响，则得总平带电压：再考虑金属和半导体功函数差的影响，则得总平带电压：则电位面积固定电

28、荷数量：则电位面积固定电荷数量：82第82页，本讲稿共116页l硅二氧化硅界面处的快界面态快界面态 q快表面态是指存在于硅二氧化硅界面处且能量值位于硅禁带中的些分立或连续的电子能态。由于这些界面态相对于吸附于二氧化硅外表面的分子、原子等所引起的外表面态来说,可以迅速地和半导体导带或价带交换电荷，所以称为快界面态。q界面态一般也分为施主和受主两种。不论能级在禁带中的位置如何，若能级被电子占据时呈电中性，释放电子后呈正电性，则都称为施主型界面态；若能级空着时为电中性状态而接受电子后带负电，则称为受主型界面态 q电子占据施主和受主界面态的分布函数如下，其中ESD和ESA分别为施主或受主界面态的能值，

29、g为基态简并度 83第83页，本讲稿共116页84第84页，本讲稿共116页l二氧化硅中的陷阱电荷二氧化硅中的陷阱电荷q硅硅二二氧氧化化硅硅界界面面附附近近，还还常常常常存存在在一一些些载载流流子子陷陷阱阱当当射射线线、射射线线、电电子子射射线线等等能能产产生生电电离离的的辐辐射射线线通通过过氧氧化化层层时时，可可在在二二氧氧化化硅硅中中产产生生电电子子空穴对。空穴对。q如如果果氧氧化化物物中中没没有有电电场场，电电子子和和空空穴穴将将复复合合掉掉，不不会会产产生生净净电电荷荷。如如果果氧氧化化层层中中存存在在电电场场时时，因因电电子子在在二二氧氧化化硅硅中中可可以以移移动动，将将被被拉拉向向

30、栅栅极极，空空穴穴在在二二氧氧化化硅硅中中很很难难移移动动可可能能陷陷入入陷陷阱阱中中。这这些些陷陷阱阱捕捕获获了了空空穴就表现为正的空间电荷。穴就表现为正的空间电荷。85第85页，本讲稿共116页表表 面面 电电 导导l垂直于表面方向的电场 表面电导86第86页，本讲稿共116页表面载流子的有效迁移率表面载流子的有效迁移率距离表面距离表面x处电子电导率为处电子电导率为电子有效迁移率电子有效迁移率表面层内电子形成的单位面积电荷表面层内电子形成的单位面积电荷87第87页，本讲稿共116页表面电场对表面电场对pn结特性的影响结特性的影响1n区掺杂比衬底掺杂重得多区掺杂比衬底掺杂重得多;2假定半导体

31、表面没有任何表面态假定半导体表面没有任何表面态;3金属栅与半导体间亦无功函数差金属栅与半导体间亦无功函数差.衬底接地衬底接地88第88页，本讲稿共116页不加表面电场时，不加表面电场时，能带在能带在x方向没有方向没有变化，只在变化，只在y方向方向有变化，这是由有变化，这是由n区和区和p区之间的自区之间的自建电压引起的。建电压引起的。在栅上加电压在栅上加电压VG后，如果后，如果p-n结上结上不加电压，这不加电压，这时栅控二极管将时栅控二极管将仍处于平衡情况，仍处于平衡情况，因而半导体中费因而半导体中费米能级处处相等。米能级处处相等。89第89页，本讲稿共116页在栅电压的表面电场作用下，栅下面的

32、P区表面层将发生耗尽和反型。以VT表示使栅下面p区表面处开始发生强反型所需的栅电压，习惯上称这个电压为开启电压。由围中可看到，当p区表面反型时，场感应结。当栅电压VG大于VT时，p区表面处因反型面产生电子积累，表面处的导带底应下降到靠近费米能级。这表示从p区内部到表面发生了能带向下弯曲，能带图成为图中所示那样。根据平衡情况空间电荷区理论，在表面开始强反型后，耗尽区宽度达到最大值，并且不再随VG的增大而增大，这时表面势认可近似地表示为认；2VB。90第90页，本讲稿共116页非平衡情况非平衡情况考虑在考虑在pn结上加反结上加反向偏压的情况：令向偏压的情况：令VT(VR)表表示当示当p-n结上有偏

33、压结上有偏压VR时，时，使使p区表面反型所必须的区表面反型所必须的栅电压。这个电压比零栅电压。这个电压比零偏结的开启电压偏结的开启电压VT要大。要大。这是因为外加反向偏压这是因为外加反向偏压降低了电子的准费米能降低了电子的准费米能级，因此即使表面处能级，因此即使表面处能带弯曲得如图右表面平带弯曲得如图右表面平衡情形那样低，导带仍衡情形那样低，导带仍不能足够接近电子的准不能足够接近电子的准费米能级而引起反型。费米能级而引起反型。当栅电压当栅电压VG小于小于VT(VR)，即其大小还不足以使，即其大小还不足以使p区表面反型时，表面只区表面反型时，表面只发生耗尽。发生耗尽。91第91页，本讲稿共116

34、页图表示栅电压图表示栅电压VG大于大于VT(VR)，在，在P区表面形成反型层时区表面形成反型层时的能带因形成的表面反型层的能带因形成的表面反型层是一个高电导区，并与是一个高电导区，并与n区连通，区连通，其电势应和其电势应和n区几乎相等，故反区几乎相等，故反型层表面处的导带底位型层表面处的导带底位置如图中那样和置如图中那样和n区导带底区导带底接近。又因为接近。又因为p区内部导带区内部导带底位置较底位置较n区导带底高区导带底高q(VR+VD)，且，且VD近似等于近似等于2VB，故开始发生强反型时，故开始发生强反型时的表面势可以近似表示为的表面势可以近似表示为 VS=VR+2VB92第92页，本讲稿

35、共116页和平衡情况一样，在表面反型后和平衡情况一样，在表面反型后由于反型层中积累电的屏蔽作用，由于反型层中积累电的屏蔽作用，耗尽区宽度达到最大值耗尽区宽度达到最大值xdm但是但是这个宽度现在是反偏压这个宽度现在是反偏压VR的函数，的函数，实际上，它是在实际上，它是在n型反型层和其下型反型层和其下的的P间形成的场感应结的反偏耗尽间形成的场感应结的反偏耗尽区宽度。区宽度。所以93第93页，本讲稿共116页在表面反型前，根据耗尽假设，表面层中电荷在表面反型前，根据耗尽假设，表面层中电荷主要是电离受土的负电荷，故单位面积的电荷是主要是电离受土的负电荷，故单位面积的电荷是强反型开始后强反型开始后94第

36、94页，本讲稿共116页在第6章关于pn结的讨论中，曾经得出，硅P-n结在室温下的反向电流中，扩散电流微不足道，而主要部分是由耗尽区复合产生中心的作用而产生的电天空穴对所引起的。因此，对于硅P-n结情形，反向电流的大小取决于结耗尽区复合中心的总数。根据这一想法，现在考虑表面电场对硅p-n结反向电流的影响。为了与场感应绍区别，称原来由掺杂形成的Pn结为冶金结。95第95页，本讲稿共116页l在在(c)的情形中，由于栅下面的表而反型而形成了场感应结，的情形中，由于栅下面的表而反型而形成了场感应结，这个结的耗尽区的复合这个结的耗尽区的复合产生中心也应对产生电流有贡献，产生中心也应对产生电流有贡献，因

37、而产生的电流比单纯冶金结情形要大。因而产生的电流比单纯冶金结情形要大。l在情形在情形(b)，表面层耗尽，耗尽层宽度随栅电压，表面层耗尽，耗尽层宽度随栅电压VG增加，由表面增加，由表面耗尽区贡献的产生电流分量也随之增加。耗尽区贡献的产生电流分量也随之增加。l一旦表面反型，一旦表面反型，xd达到其最大值，这个电流分旦将不再增加。达到其最大值，这个电流分旦将不再增加。96第96页，本讲稿共116页冶金结产生电流冶金结产生电流耗尽区产生电流耗尽区产生电流表面耗尽区产生电流表面耗尽区产生电流97第97页，本讲稿共116页载流子产生率载流子产生率冶金结产生电流冶金结产生电流耗尽区产生电流耗尽区产生电流表面

38、耗尽区产生电流表面耗尽区产生电流完全耗尽界面单位面积产生率完全耗尽界面单位面积产生率98第98页，本讲稿共116页正向偏压正向偏压-复合电流复合电流正向复合电流正向复合电流上式是仅考虑了冶金结耗尽区复合电流的情形。上式是仅考虑了冶金结耗尽区复合电流的情形。场感应结和界面同样也可以对复合电流有页献，场感应结和界面同样也可以对复合电流有页献，且类似关系也近似成立。因此，加上场感应结且类似关系也近似成立。因此，加上场感应结和表面电流分量，最大正向复合电流可近似由下式给出：和表面电流分量，最大正向复合电流可近似由下式给出：99第99页，本讲稿共116页当栅电压使衬底表面反型时将存在一当栅电压使衬底表面

39、反型时将存在一个和冶金结并联的场感应结。个和冶金结并联的场感应结。这个场感应结有它自己的击穿电压，而且在很多情况下，其击穿这个场感应结有它自己的击穿电压，而且在很多情况下，其击穿电压比冶金结的要低。电压比冶金结的要低。这时，当反向电压增加到超过场感应结的击穿电压这时，当反向电压增加到超过场感应结的击穿电压V(BR)FJ时，由于场时，由于场感应结开始击穿，电流随电压迅速增加。这个电流沿着反型层流向感应结开始击穿，电流随电压迅速增加。这个电流沿着反型层流向P型区，并随着反向电压进一步的增加而达到一个饱和值。继续增型区，并随着反向电压进一步的增加而达到一个饱和值。继续增加反向电压到超过冶金结的击穿电

40、压加反向电压到超过冶金结的击穿电压V(BR)MJM时电流再次时电流再次迅速增加。这种电流电压特性表示称做沟通特性。迅速增加。这种电流电压特性表示称做沟通特性。100第100页，本讲稿共116页重掺杂区上部形成的场感应结如果场感应结形成在如果场感应结形成在p+区，因为场感应结是在高掺杂材料的上部区，因为场感应结是在高掺杂材料的上部形成，其击穿电压将会很低，在小的反向电压下就开始有沟道电流。形成，其击穿电压将会很低，在小的反向电压下就开始有沟道电流。在高杂质浓度情况时，击穿机构是齐纳击穿。在高杂质浓度情况时，击穿机构是齐纳击穿。101第101页，本讲稿共116页齐纳击穿有一个特征，即在零点附近两边

41、电流齐纳击穿有一个特征，即在零点附近两边电流电压特性是近似对称的，在正向也引起大的电压特性是近似对称的，在正向也引起大的过量电流。过量电流。102第102页，本讲稿共116页表面纯化实际中，诸如在半导体表面上吸附的各种带电粒子、半导体表面氧化层中的可动离子、固定电荷和陷阶等，皆可在半导体表面层中引起电场。这些因素将会对半导体的表面特性产生重大影响。在采用平面工艺的器件中，一般都使用二氧化硅膜保护，当这种器件工作引起温度升高时，若二氧化硅膜中存在可动的钠离子，则由于它的漂移将会引起器件特性不稳定。103第103页，本讲稿共116页目前使用比较广泛的表面钝化技术列举如下：目前使用比较广泛的表面钝化

42、技术列举如下：(1)在二氧化硅膜上再淀积一层对钠离子有阻挡作用的钝化膜，在二氧化硅膜上再淀积一层对钠离子有阻挡作用的钝化膜，例如磷硅玻璃、氧化铝和氮化硅膜等。例如磷硅玻璃、氧化铝和氮化硅膜等。(2)在热氧化时通人氯化氢或：氯乙烯等。实验发现在在热氧化时通人氯化氢或：氯乙烯等。实验发现在1100干干氧热氧化时通人适当的氯化氢气体，可使可动钠离子的数量减至氧热氧化时通人适当的氯化氢气体，可使可动钠离子的数量减至最低值。最低值。(3)在某些气体中迟火以降低固定电荷或界面态。在某些气体中迟火以降低固定电荷或界面态。104第104页，本讲稿共116页k取复数的电子状态存在，它们存在于x=0附近这些被局域

43、在表面附近的能级就是表面能级。本章总结一、一、表面电场效应表面电场效应105第105页，本讲稿共116页本章总结二、二、表面电场效应表面电场效应理想的MIS结构106第106页，本讲稿共116页 P型半导体构成的理想MIS结构在偏压下的表面势和电荷分布 a.多子积累 b.多子耗尽 c.反型107第107页，本讲稿共116页P型半导体的表面电荷QS和表面势VS关系108第108页，本讲稿共116页表面空间电荷层的电场、电势和电容l半导体表面处的电场强度为半导体表面处的电场强度为q表面的电荷面密度：根据高斯定理得到表面的电荷面密度：根据高斯定理得到式中的负号是因为规定电场强度指向半导体内部时为正式

44、中的负号是因为规定电场强度指向半导体内部时为正 l微分电容微分电容q 109第109页，本讲稿共116页p型半导体接触出现强反型层条件110第110页，本讲稿共116页三、三、MIS电容电压特性电容电压特性111第111页，本讲稿共116页112第112页，本讲稿共116页实际情况下的修正实际情况下的修正113第113页，本讲稿共116页设在金属与设在金属与n型半导体之间加一电压，且型半导体之间加一电压，且nsi接正电压，金属接接正电压，金属接低电位，使半导体表层内出现耗尽状态低电位，使半导体表层内出现耗尽状态(1)求耗尽尼内电势V(x)；(2)若表面势V0.4v，外加电压为5v，施主浓度Nd1016/cm3求耗尽层厚度。114第114页，本讲稿共116页当x=0，V（x）即表面势。115第115页，本讲稿共116页当外加电势时，表面势提高到当外加电势时，表面势提高到V+VS116第116页，本讲稿共116页