2020 年半导体薄膜沉积设备行业现状分析.docx

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1、2020 年半导体薄膜沉积设备行业现状分析一、半导体薄膜沉积设备行业概述薄膜沉积是一连串涉及原子的吸附，吸附原子在表面扩散及在适当的位置下聚结，以渐渐形成薄膜并成长的过程，是半导体器件制造过程中的一个重要环节。根据工作原理不同， 薄膜沉积工艺可分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD） 三大类。三种薄膜沉积方法对比资料来源：公开资料整理二、全球半导体设备行业现状晶圆制造是半导体设备价值量最高的环节，而晶圆制造设备从类别上可分为光刻设备、 刻蚀设备、薄膜沉积设备、离子掺杂等十多类。按销售金额来看，在 2019 年全球晶圆制造设备市场结构中，光刻、刻蚀、薄膜沉积设备占

2、比最高，分别为 25%、24%和 21%。2019 年全球晶圆制造设备市场结构资料来源：公开资料整理近年来，全球半导体设备市场规模呈波动上升态势，2020 年全球市场规模达 711.9 亿美元，同比增长 19.15%。预计到 2022 年将突破千亿美元。2011-2022 年全球半导体设备市场规模及增长趋势资料来源：SEMI，华经产业研究院整理三、半导体薄膜沉积设备行业现状在半导体行业下游需求增长以及技术变革的推动下，全球薄膜沉积设备市场规模保持稳 定增长。数据显示，2017 至 2020 年，全球半导体薄膜沉积设备市场规模从 125 亿美元增长至 172 亿美元，预计到 2025 年将达 3

3、40 亿美元左右。2017-2025 年全球半导体薄膜沉积设备市场规模及增速资料来源：公开资料整理根据中国国际招标网数据显示，在 2020 年我国薄膜沉积设备存有量中，进口设备约占98%，而国产设备仅占 2%。目前薄膜沉积设备仍以海外进口设备为主，国产替代空间广阔。2020 年中国薄膜沉积设备存有量情况资料来源：中国国际招标网，华经产业研究院整理 四、半导体薄膜沉积设备行业竞争格局全球半导体薄膜沉积设备市场高度集中，目前呈国外供应商寡头垄断格局。国内沈阳拓 荆、北方华创领先。分类型来看，2019 年半导体薄膜沉积设备中 CVD 设备应用最广，占比超一半，为 57%；其次是 PVD，占比为 25%；ALD 及其他镀膜设备占比 18%。2019 年全球半导体薄膜沉积设备市占率资料来源：公开资料整理薄膜沉积设备具有较高的技术门槛，行业龙头企业通过多年的技术积累和规模效应，已经建立了较高的行业壁垒。国际薄膜沉积设备市场中，主要有应用材料、泛林半导体、TEL 等厂商。在国内市场中，主要企业有北方华创和沈阳拓荆，其中北方华创覆盖了 CVD、ALD、PVD 三大产品线，而沈阳拓荆主攻 CVD 和 ALD，北方华创与沈阳拓荆技术节点都达到了14/28nm。国内薄膜沉积设备领先厂商产品情况