半导体薄膜沉积设备行业现状分析.docx
《半导体薄膜沉积设备行业现状分析.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《半导体薄膜沉积设备行业现状分析.docx(2页珍藏版)》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。
1、半导体薄膜沉积设备行业现状分析一、半导体薄膜沉积设备行业概述薄膜沉积是一连串涉及原子的吸附,吸附原子在表面扩散及在适当的位置下聚结,以渐渐形成薄膜并成长的过程,是半导体器件制造过程中的一个重要环节。根据工作原理不同,薄膜沉积工艺可分为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)三大类。二、全球半导体设备行业现状晶圆制造是半导体设备价值量最高的环节,而晶圆制造设备从类别上可分为光刻设备、刻蚀设备、薄膜沉积设备、离子掺杂等十多类。按销售金额来看,在2019年全球晶圆制造设备市场结构中,光刻、刻蚀、薄膜沉积设备占比最高,分别为25%、24%和21%。近年来,全球半导体设备市场
2、规模呈波动上升态势,2020年全球市场规模达711.9亿美元,同比增长19.15%。预计到2022年将突破千亿美元。三、半导体薄膜沉积设备行业现状在半导体行业下游需求增长以及技术变革的推动下,全球薄膜沉积设备市场规模保持稳定增长。数据显示,2017至2020年,全球半导体薄膜沉积设备市场规模从125亿美元增长至172亿美元,预计到2025年将达340亿美元左右。根据中国国际招标网数据显示,在2020年我国薄膜沉积设备存有量中,进口设备约占98%,而国产设备仅占2%。目前薄膜沉积设备仍以海外进口设备为主,国产替代空间广阔。四、半导体薄膜沉积设备行业竞争格局全球半导体薄膜沉积设备市场高度集中,目前呈国外供应商寡头垄断格局。国内沈阳拓荆、北方华创领先。分类型来看,2019年半导体薄膜沉积设备中CVD设备应用最广,占比超一半,为57%;其次是PVD,占比为25%;ALD及其他镀膜设备占比18%。薄膜沉积设备具有较高的技术门槛,行业龙头企业通过多年的技术积累和规模效应,已经建立了较高的行业壁垒。国际薄膜沉积设备市场中,主要有应用材料、泛林半导体、TEL等厂商。在国内市场中,主要企业有北方华创和沈阳拓荆,其中北方华创覆盖了CVD、ALD、PVD三大产品线,而沈阳拓荆主攻CVD和ALD,北方华创与沈阳拓荆技术节点都达到了14/28nm。
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 半导体 薄膜 沉积 设备 行业 现状 分析
限制150内