行业标准《高纯镍》 编制说明.doc
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1、 行业标准高纯镍 编制说明 (讨论稿)高纯镍标准起草小组二0二0年七月目 录一、任务来源1二、立项依据1三、 项目编制组单位简况13.1 编制组成员单位13.2 主编单位简介13.3 标准编制过程23.3.1项目申报23.3.2计划下达23.3.3市场调研23.3.4用户对高纯镍质量指标的需求33.3.5编制标准草案6四、标准编制原则6五、确定标准主要技术内容(如技术指标、参数等)的依据65.1生产过程65.1.1产品来源65.1.2工艺流程65.1.3主要反应75.2修订依据、修订内容及确定方法 75.2.1修订依据75.2.2修订内容及确定方法75.3 确定标准主要技术内容85.3.1 范
2、围85.3.2 规范性引用文件85.3.3 术语和定义85.3.4 要求85.3.5 试验方法105.3.6 检验规则105.3.7 包装、运输、贮存及质量证明书115.3.8 订货单(或合同)内容12六、与现行相关法律、法规、规章及相关标准,特别是强制性标准的协调性12七、标准中涉及的专利或知识产权说明12八、重大分歧意见的处理经过和依据12九、标准作为强制性或推荐性行业标准的建议12十、贯彻标准的要求和措施建议12十一、 废止现行有关标准的建议12高纯镍行业标准报批稿编制说明一、任务来源根据国家标准化管理委员会于2016年下达的2017年第四批国家标准制修订计划(见国标委综合2017128
3、号),国家标准GB/T 26016-2010高纯镍的修订工作由金川集团股份有限公司主持修订,项目完成时间为 2020年12月。二、立项依据高纯镍产品属于国家02专项006课题“45-28nm配线用超高纯Co、Ni材料制备与产业化”的专项配套材料,目前高纯镍板材的销售市场国内外均有,主要应用于溅射靶材、屏蔽材料、高性能合金领域,是促进微电子行业及军工领域发展的关键材料。但是随着靶材、高温合金等高端产业的快速发展,近年高纯钴应用领域逐步拓宽,市场对产品具体杂质元素的含量要求提出了具体的上限标准,GB/T 26016-2010高纯镍国家标准已不适应现有高纯镍应用领域的要求,与国内外客户提出的高纯镍采
4、购标准要求存在较大差距,主要一方面不利于促进国内高纯钴产品满足国际客户质量水平的提升,另一方面无法真实体现我国高纯镍质量水平,故对现有高纯钴国家标准的修订工作迫在眉睫。三、 项目编制组单位简况3.1 编制组成员单位金川集团股份有限公司、兰州金川科技园有限公司、北京有研亿金新材料有限公司、甘肃精普检测有限公司共4家单位。3.2 主编单位简介金川集团股份有限公司是特大型采、选、冶、化、深加工联合企业,主要生产镍、铜、钴、铂族贵金属及有色金属压延加工产品、化工产品、有色金属化学品、有色金属新材料等。拥有世界第三大硫化铜镍矿床,是中国最大、世界领先的镍钴生产基地和铂族金属提炼中心,在全球同行业中具有较
5、强影响力。经过六十年的建设与发展,公司在全球30多个国家和地区开展有色金属矿产资源开发合作,已具备镍20万吨、铜100万吨、钴1万吨、铂族金属6000公斤、金30吨、银600吨、硒200吨和化工产品560万吨的生产能力。镍产量居世界第三位,钴产量居世界第四位,铜产量居国内第四位,铂族金属产量居国内第一位。拥有世界第五座、亚洲第一座镍闪速熔炼炉,世界首座铜合成熔炼炉,世界首座富氧顶吹镍熔炼炉,世界上连续回采面积最大的机械化下向充填采矿法等国际领先的装备和工艺技术。2019年入围“世界500强”,位居榜单369位;位列“中国企业500强”第96位,“中国制造业企业500强”第32位,“中国跨国公司
6、100大”第51位。与国内同行业相比,金川集团股份有限公司进入高纯铜、镍、钴产业较早,通过湿法冶金和真空熔炼技术的结合,成功研制出拥有自主知识产权的4N(99.99%)6N(99.9999%)高纯镍产品,并经有色协会专家认定金川高纯镍钴铜制备技术均达到国际领先水平。拥有一种制备高纯镍的制造方法等9件授权专利和通过鉴定的技术成果5项,制订高纯铜 GB26017-2010、高纯镍 GB26018-2010、高纯镍 GB26016-2010三项国家标准3.3 标准编制过程3.3.1计划下达根据国家标准化管理委员会于2016年12月28日下达的2017年第四批国家标准制修订计划(见国标委综合20171
7、28号),国家标准GB/T 26016-2010高纯镍的修订工作由金川集团股份有限公司主持修订,项目完成时间为 2020年12月。3.3.2任务落实2018年6月有色标准会组织进行了任务落实,确定由金川集团股份有限公司对高纯镍国家标准进行修订的任务。3.3.3市场调研目前高纯镍板材,国内高纯镍出口份额占85-90%,主要应用于溅射靶材、高温合金、信号屏蔽等领域,是促进微电子行业发展的关键材料。随着溅射设备和工艺的改进,在溅射靶材需求方面也逐渐增加,靶材的市场规模日益扩大。2018年全球半导体市场规模达到5000亿美元。中国大陆半导体市场规模为3213亿美元,年均增长率为21%,显著高于全球8%
8、的增长速度。已经超过日本和美国,跃升为全球最大的半导体集成电路市场。2017年中国半导体市场规模达到3000亿美元,增长率预计为13.0.%。随着4G智能手机、智能家居、汽车电子和无线网络等方面的应用,必将推动未来中国半导体集成电路市场的发展,也将带来中国市场对高纯镍及其溅射靶材的巨量需求。2018年全球半导体溅射靶材市场达180亿美元,2017-2022年的复合增速为13%,到2022年,世界溅射靶材的市场规模将超过230亿美元。2019年中国市场约占全球的60%以上,是全球最大的消费市场。 随着半导体集成电路芯片制程的不断减小,高纯镍的市场需求将逐年增长。据统计,2018年全球5N以上高纯
9、镍需求量约40吨, 2022年以后,全球高纯镍需求量将达到100吨以上。目前,金川集团股份有限公司高纯镍占全球半导体市场份额的35%,已成为全球主要靶材用超高纯镍供应商,是金川集团所有产品中技术含量最高、全球市场占有率最大的产品之一。 高纯镍国际市场主要分布在美国、日本等国家和地区,其中,部分企业同时拥有从高纯材料到终端产品完整的产业链,尤其是半导体用溅射靶材领域,是一个由美国和日本的少数公司(日矿金属、霍尼韦尔)等跨国公司垄断的行业。但是随着近年国内的靶材厂商如宁波江丰电子股份有限公司、北京有研亿金新材料有限公司等企业的崛起,我国未来的高纯金属市场需求量将会持续增长。3.3.4 用户对高纯镍
10、质量指标的需求(1) 国际客户对高纯镍质量指标的需求表1 国际客户对5N高纯镍指标的需求元素含量(ppm)元素含量(ppm)Ag0.300Mn0.100Al0.300Mo0.500As0.300Na0.100Au0.200Nb0.050B0.005Cu0.500Ba0.050P0.010Bi0.100Pb1.000Ca0.100S2Cd0.050Sb0.500Cr0.100Si0.500Cl10Sn0.500Co0.300Th0.001Fe0.300Ti0.500Ga0.050U0.001Ge0.050W0.050K0.100V0.001Li0.050Zn0.500Mg0.100Zr0.500
11、总杂质10 表2 国际客户对6N高纯镍指标的需求元素含量(ppm)元素含量(ppm)Ag0.100Mn0.100Al0.100Mo0.200As0.100Na0.002Au0.050Nb0.050B0.050Cu0.200Ba0.050P0.010Bi0.020Pb0.050Ca0.010S1Cd0.050Sb0.020Cr0.007Si0.050Cl5Sn0.050Co0.200Th0.0005Fe0.300Ti0.050Ga0.050U0.0005Ge0.050W0.050K0.010V0.001Li0.001Zn0.100Mg0.050Zr0.050总杂质1国际客户所需高纯镍主要应用于微
12、电子工业溅射靶材及离子镀膜、蒸发镀膜、制造高纯试剂、标样和高级合金等领域,对各品级高纯镍产品纯度及单元素杂质指标要求较国内高纯镍客户高,其对高纯镍产品各单元素要求严格进行SPC管控,所以客户在标准范围内更关注杂质元素的波动情况。表1、表2为综合美国、日本、韩国等国际客户对高纯镍的技术指标要求,以满足所有客户对高纯镍单元素杂质含量的要求为准,梳理出国际客户对各品级高纯镍中单元素杂质指标的具体数值。(2) 国内客户对高纯镍质量指标的需求 表3 国内客户对5N高纯镍指标的需求元素含量(ppm)元素含量(ppm)Ag1.000Mn0.300Al1.000Mo0.500As1.000Na0.200Au0
13、.500Nb0.050B0.050Cu1.000Ba0.050P0.010Bi0.100Pb0.500Ca0.200S2Cd0.050Sb0.500Cr0.300Si0.500Cl20Sn0.500Co2.000Th0.001Fe1.000Ti1.000Ga0.050U0.001Ge0.050W0.050K0.200V0.001Li0.050Zn1.000Mg0.500Zr0.500总杂质10 表4 国内客户对6N高纯镍指标的需求元素含量(ppm)元素含量(ppm)Ag0.300Mn0.010Al0.300Mo0.300As0.100Na0.050Au0.200Nb0.010B0.010Cu0
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