芯片生产全过程从沙子到封装资料讲解.ppt
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1、芯片生产全过程从沙子到封装摩尔定律(摩尔定律(18个月翻一番)验证个月翻一番)验证晶圆图片晶圆图片晶圆图片晶圆图片AMD ROADMAP 2007我国我国2007芯片产业芯片产业从沙子到芯片从沙子到芯片-1沙子沙子:硅是地壳内第二丰富的元素,而脱脱氧后的沙子氧后的沙子(尤其是石尤其是石英英)最多包含最多包含25的硅的硅元素元素,以二氧化硅二氧化硅(SiO2)的形式存在,这也是半导体制造产业的基础。从沙子到芯片从沙子到芯片-2硅熔炼硅熔炼:12英寸/300毫米晶圆级,下同。通过多步净化得到可用于半导体制造质量的硅,学名电子级硅电子级硅(EGS),平均每一百万平均每一百万个硅原子中最多只有个硅原子
2、中最多只有一个杂质原子一个杂质原子。此图展示了是如何通过硅净化熔炼得到大晶体的,最后得到的就是硅锭(Ingot)。从沙子到芯片从沙子到芯片-3单晶硅锭单晶硅锭:整体基本呈圆柱形,重约重约100千千克克,硅纯度硅纯度99.9999。从沙子到芯片从沙子到芯片-3硅锭切割硅锭切割:横向切割成圆形的单个硅片,也就是我们常说的晶圆(Wafer)。顺便说,这下知道为什么晶圆都是圆形的了吧?。从沙子到芯片从沙子到芯片-3晶圆晶圆:切割出的晶圆经过抛光后变得几乎完美无瑕,表面甚至可以当镜子。事实上,事实上,Intel自己并不生产这自己并不生产这种晶圆,而是从第三种晶圆,而是从第三方半导体企业那里直方半导体企业
3、那里直接购买成品,然后利接购买成品,然后利用自己的生产线进一用自己的生产线进一步加工步加工,比如现在主流的45nm HKMG(高K金属栅极)。值得一提的是,Intel公司创立之初使用的晶圆尺寸只有2英寸/50毫米。从沙子到芯片从沙子到芯片-3光刻胶光刻胶(Photo Resist):图中蓝色部分就是在晶圆旋转过程中浇上去的光刻胶液体,类似制作传统胶片的那种。晶圆旋转可以让光刻胶铺的非常薄、非常平。从沙子到芯片从沙子到芯片-3光刻光刻:光刻胶层随后光刻胶层随后透过掩模透过掩模(Mask)被曝被曝光在紫外线光在紫外线(UV)之下之下,变得可溶,期间发生的化学反应类似按下机械相机快门那一刻胶片的变化
4、。掩模上印着预先设计好的电路图案,紫外线透过它照在光刻胶层上,就会形成微处理器的每一层电路图案。一般来说,在晶圆上得到的电路图案是掩模上图案的四分之一。从沙子到芯片从沙子到芯片-3光刻光刻:由此进入50-200纳米尺寸的晶体管级别。一块晶圆上可以切割出数百个处理器,不过从这里开始把视野缩小到其中一个上,展示如何制作晶体管等部件。晶体管相当于开关,控制着电流的方向。现在的晶体管已经如此之小,一个针头上就能放下大约3000万个。从沙子到芯片从沙子到芯片-3溶解光刻胶溶解光刻胶:光刻过程中曝光在紫外线下的光刻胶被溶解掉,清除后留下的图案和掩模上的一致。从沙子到芯片从沙子到芯片-3蚀刻蚀刻:使用化学物
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