有机材料学.ppt
《有机材料学.ppt》由会员分享,可在线阅读,更多相关《有机材料学.ppt(257页珍藏版)》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。
1、有机材料有机材料张张 武武参考资料参考资料1.有机固体有机固体,朱道本,王佛松主编,上海科学技术出版社,朱道本,王佛松主编,上海科学技术出版社3.材料科学基础材料科学基础 石德河主编,机械工业出版社石德河主编,机械工业出版社4.固体化学导论固体化学导论苏勉曾,北京大学出版社苏勉曾,北京大学出版社8.期刊杂志上发表的论文期刊杂志上发表的论文6.功能高分子材料功能高分子材料焦剑,姚军燕主编,化学工业出版社焦剑,姚军燕主编,化学工业出版社5.结晶化学导论结晶化学导论钱逸泰,中国科学技术大学出版社钱逸泰,中国科学技术大学出版社7.功能高分子与新技术功能高分子与新技术何天白,胡汉杰主编,化学工业出版社何
2、天白,胡汉杰主编,化学工业出版社2.功能材料化学进展功能材料化学进展,朱道本,化学工业出版社,朱道本,化学工业出版社 朱道本朱道本有机化学、物理化学家有机化学、物理化学家原籍浙江杭州。原籍浙江杭州。1942年年8月出生于上海市。月出生于上海市。中国科学院化学研究所研究员,中国科学院化学研究所研究员,1997年年10月当选为中国科学院院士。月当选为中国科学院院士。中国科学院有机固体开放实验室主任。中国科学院有机固体开放实验室主任。70年代开始有机年代开始有机固体领域的研究,在有机晶体的电导,铁磁性,分子薄固体领域的研究,在有机晶体的电导,铁磁性,分子薄膜与器件及铁磁体以膜与器件及铁磁体以C60为
3、基质的电荷转移复合物、为基质的电荷转移复合物、C60、C70及其衍生物的结构性能等研究都引起了国际及其衍生物的结构性能等研究都引起了国际同行的关注。研究成果曾获国家自然科学二等奖同行的关注。研究成果曾获国家自然科学二等奖1项,项,中国科学院自然科学二等奖中国科学院自然科学二等奖2项。项。Organic Solids LaboratoryChinese Academy of Sciences材料:名词,指物质或构成器件之物。化学:名词,指研究物质的性质、组成及性质变化的科学。Chapter 1 Introductionv一、材料发展概述:一、材料发展概述:1.1.石器时代石器时代2.2.青铜器时
4、代青铜器时代3.3.铁器时代铁器时代4.4.钢铁工业和有色金属时代钢铁工业和有色金属时代5.5.新材料时代新材料时代http:/ 1900 1945 1970 1975 1980 1985 1990 1999 化合物数目/万55 110 236.7 414.8 593 785 1057.6 2000v二、材料科学的主要研究内容及分类二、材料科学的主要研究内容及分类 材料的成分、组成与结构,物理、化学性质与材料的成分、组成与结构,物理、化学性质与使用功能,合成和加工,生产过程与技术以及这些使用功能,合成和加工,生产过程与技术以及这些要素之间的相互关系和规律性。要素之间的相互关系和规律性。分类:分
5、类:用途用途结构材料结构材料功能材料功能材料成分成分金属材料金属材料黑色金属黑色金属有色金属有色金属无机非金属材料:水泥、玻璃、陶瓷无机非金属材料:水泥、玻璃、陶瓷高分子材料高分子材料复合材料复合材料按材料的性能分类任何材料在使用过程中都能提供可资利用的某种或某些功能。根据这些性能可以将材料分为2大类:结构材料(Structuralmaterial):以力学性能,如受力形变、脆性断裂和强度等作为应用性能,如制造工具、机器、车辆用的钢铁材料,建筑房屋、桥梁和铁路用的混凝土材料。这些材料都具有抵抗外力作用而保持自己的形状、结构不变的优良力学性能。功能材料(Functionalmaterial):此
6、概念1965年由美国贝尔研究所的J.A.Morton博士提出,现已被各国材料界重视和接受。其定义是:具有优良的电学、磁学、光学、热学、声学、力学、化学和生物学功能及相互转化的性能,被用于非结构目的的高技术材料。一一、金属材料金属材料 1.传统金属材料传统金属材料 黑色金属黑色金属 钢铁及合金钢铁及合金 轻金属轻金属(d5g/cm3)铜铜.镍镍.银银 等等 有色金属有色金属 耐高温金属(熔点耐高温金属(熔点1857)铬铬.钼钼.钨钨 等等 低熔金属(熔点低熔金属(熔点0.1),它是由于氧原子不足而产生空位缺陷,正是这它是由于氧原子不足而产生空位缺陷,正是这种缺陷,使固体具有超导性能。种缺陷,使固
7、体具有超导性能。2.4.1.1 Point defect缺陷的分类v1.1 缺陷的分类(根据缺陷的尺寸)v(1)点缺陷,零维缺陷v(2)线缺陷,一维缺陷v(3)面缺陷,二维缺陷v(4)体缺陷,三维缺陷v(5)电子缺陷Point defects(点缺陷点缺陷)零维缺陷杂质点缺陷本征点缺陷取代缺陷间隙缺陷空位缺陷错位缺陷vacanciesinterstitialsimpurities肖特基缺陷和弗伦克尔缺陷肖特基缺陷和弗伦克尔缺陷v由等量的正离子和负离子空位所构成的缺陷称之为由等量的正离子和负离子空位所构成的缺陷称之为肖特基肖特基(Schottky)缺陷缺陷v晶体中同时产生的一对间隙原子晶体中同时
8、产生的一对间隙原子/离子和空位称之为离子和空位称之为弗伦克尔弗伦克尔(Frenkel)缺陷缺陷AgBr中的中的Frenkel缺陷缺陷 KCl中的中的Schottky缺陷缺陷Br-Ag+Cl-K+杂质缺陷杂质缺陷v杂质缺陷为非本征缺陷,是由杂质原子/离子进入晶格带来的缺陷。v杂质原子/离子能否进入某种物质的晶体中或者取代某个原子/离子,取决与能量效应是否有利,能量效应包括:离子之间的静电作用能、键合能以及相应的体积效应等因素。v离子型晶体:正负离子电负性差别较大,杂质离子离子型晶体:正负离子电负性差别较大,杂质离子应进入与其电负性相近的离子的位置上。应进入与其电负性相近的离子的位置上。v当化合物
9、组成元素电负性相差不大,或杂质元素的当化合物组成元素电负性相差不大,或杂质元素的电负性介于它们的电负性之间时,则原子的大小等电负性介于它们的电负性之间时,则原子的大小等几何因素决定取代过程能否进行的主要因素。例:几何因素决定取代过程能否进行的主要因素。例:各种金属间化合物或者共价化合物中,原子半径相各种金属间化合物或者共价化合物中,原子半径相近的近的(15%)元素可以相互取代。元素可以相互取代。Si在在InSb中占据中占据Sb位;在位;在GaAs中,中,Si即可占据即可占据Ga位,又可占据位,又可占据As位;位;Ge在在InSb中占据中占据In位,在位,在GaSb中则占据中则占据Sb位;位;S
10、n在在GaSb中占据中占据Ga位,在位,在InSb中占据中占据In位。位。v杂质原子杂质原子/离子能否进入晶体的间隙位置,主离子能否进入晶体的间隙位置,主要决定于体积效应。只有那些半径较小的原要决定于体积效应。只有那些半径较小的原子或离子才有可能成为间隙杂质缺陷。如:子或离子才有可能成为间隙杂质缺陷。如:H、C原子,原子,Li+、Cu+离子等。离子等。v当杂质离子的价态和它所取代的基质晶体中的离子的价态不同时,会给晶体带入额外的电荷,这些额外的电荷必须同时由具有相反电荷的其它缺陷来加以补偿,使整个晶体保持电中性,掺杂才能继续进行。v例一:BaTiO3中掺入La3+,形成 ,则同时必须有等量的T
11、i4+被还原成Ti3+,形成 v生成物的组成可以写为:一维缺陷一维缺陷(线缺陷线缺陷):指晶体中沿某一条线附近的指晶体中沿某一条线附近的原子的排列偏离了理想的晶体点阵结构原子的排列偏离了理想的晶体点阵结构一维缺陷位错处的杂质原子位错处的杂质原子位错位错dislocationsedge dislocationsscrew dislocations刃位错和螺位错刃位错和螺位错具有刃位错的点阵图具有螺位错的点阵图Q是滑移面a-正常面网,b-刃型位错,c-螺型位错二维缺陷二维缺陷(面缺陷面缺陷)二维缺陷二维缺陷堆垛层错(stackingfaults)晶粒间界(晶粒间界(grain boundaries
12、)孪晶界面孪晶界面晶粒间界:多晶体中不同取向的晶粒晶粒间界:多晶体中不同取向的晶粒之间的界面之间的界面晶粒间界孪晶是指两个晶体(或一个晶体的两部分)沿一个公共晶孪晶是指两个晶体(或一个晶体的两部分)沿一个公共晶面构成镜面对称的位向关系,这两个晶体就称为面构成镜面对称的位向关系,这两个晶体就称为孪晶孪晶,此公共晶面就称孪晶面。此公共晶面就称孪晶面。堆垛层错堆垛层错堆垛层错三维缺陷三维缺陷(体缺陷体缺陷)三维缺陷空洞(holes)包藏杂质沉淀(precipitates)电子缺陷电子缺陷(electronic defects)电子缺陷价带空穴h导带电子e缺陷的表示符号缺陷的表示符号v1 Kroger
13、-Vink(克罗格-文克)表示符号点缺陷名称缺陷在晶体中所占的格位点缺陷所带有效电荷 中性中性 正电荷正电荷,负电荷,负电荷v空位缺陷用符号空位缺陷用符号V表示;表示;v杂质缺陷则用该杂质的元素符号表示杂质缺陷则用该杂质的元素符号表示;v电子缺陷用电子缺陷用e表示,空穴缺陷用表示,空穴缺陷用h表示表示;v用被取代原子的元素符号表示缺陷是处于该用被取代原子的元素符号表示缺陷是处于该原子所在的点阵格位上原子所在的点阵格位上;v用字母用字母i表示缺陷是处于晶格点阵中的间隙位表示缺陷是处于晶格点阵中的间隙位置;置;v有效电荷相当于缺陷及其四周的总电荷减去有效电荷相当于缺陷及其四周的总电荷减去理想晶体中
14、同一区域处的电荷之差理想晶体中同一区域处的电荷之差本征缺陷本征缺陷v具有本征缺陷的晶体是指那些不含外来杂质但其结构并不完善的晶体(1)晶体中各组分偏离化学整比性;(2)点阵格位上缺少某些原子/离子(空位缺陷);(3)在格位的间隙处存在原子/离子(间隙缺陷);(4)一类原子/离子占据了另一类原子/离子本该占据的格位(错位缺陷)。v例一:加热FeO(方铁矿),失去部分正离子,同时带走两个电子,形成 正空位缺陷:VFev例二:过量Zn原子可以溶解在ZnO中,进入晶格的间隙位,形成 ,同时它把两个电子松弛的束缚在其周围,形成 ,也可以写作(+2e),这两个电子很容易被激发到导带中。v例三:Fe3O4中
15、,全部的Fe2+和1/2的Fe3+统计的分布在由O2-离子密堆积所构成的八面体间隙中,其余1/2量的Fe3+则位于四面体间隙,这种亚晶格点阵位置上存在不同价态离子的情况也是一种本征点缺陷。由于在Fe2+-Fe3+-Fe2+-Fe3+-之间,电子可以迁移,所以Fe3O4是一种本征半导体。v例四:利用掺杂过程必须遵循电中性原则,制备具有指定载流子浓度的材料。vNiO:淡绿色绝缘体,掺入少量Li2O后,为黑色p型半导体,控制掺入量10%(原子比),则材料电导率为1(cm)-1,增大约1010倍。v反应如下:v为保持电中性,每引入一个Li+,则相应的有一个Ni2+被氧化为Ni3+,最后形成的化合物可以
16、表示为:v存在的缺陷为:和v 缺陷相当于Ni2+离子上束缚着一个正空穴(Ni2+h),在电场作用下,可以产生空穴电导。正空穴h沿着Ni2+-Ni3+-Ni2+-Ni3+-之间传递。v如果直接在弱氧化性气氛中加热NiO,也可以将部分Ni2+被氧化为Ni3+Band Theory一种近似理论一种近似理论.Bloch,L.N.Brillouin价电子的共有化价电子的共有化分子轨道理论扩展分子轨道理论扩展一一.电子共有化电子共有化晶体具有大量分子、原子或离子有规则晶体具有大量分子、原子或离子有规则排列的点阵结构。排列的点阵结构。电子受到周期性势场的作用。电子受到周期性势场的作用。a按量子力学须解定态薛
17、定格方程。按量子力学须解定态薛定格方程。解定态薛定格方程解定态薛定格方程(略),略),可以得出两点重要结论:可以得出两点重要结论:1.电子的能量是分立的能级电子的能量是分立的能级;2.电子的运动有隧道效应。电子的运动有隧道效应。原子的外层电子原子的外层电子(高能级高能级),势垒穿透概率势垒穿透概率较大,较大,电子可以在整个晶体中运动电子可以在整个晶体中运动,称为称为共有化电子。共有化电子。原子的内层电子与原子核结合较紧原子的内层电子与原子核结合较紧,一般一般不是不是 共有化电子。共有化电子。二二.能带能带(energy band)量子力学计算表明,晶体中若有量子力学计算表明,晶体中若有N个个原
18、子,由于各原子间的相互作用,对应于原子,由于各原子间的相互作用,对应于原来孤立原子的每一个能级原来孤立原子的每一个能级,在晶体中变在晶体中变成了成了N条靠得很近的能级条靠得很近的能级,称为称为能带能带。晶体中的电子能级晶体中的电子能级有什么特点?有什么特点?能带的宽度记作能带的宽度记作 E,数量级为数量级为 EeV。若若N1023,则能带中两能级的间距约则能带中两能级的间距约10-23eV。一般规律:一般规律:1.越是外层电子,能带越宽,越是外层电子,能带越宽,E越大。越大。2.点阵间距越小,能带越宽,点阵间距越小,能带越宽,E越大。越大。3.两个能带有可能重叠。两个能带有可能重叠。离子间距离
19、子间距a2P2S1SE0能带重叠示意图能带重叠示意图三三.能带中电子的排布能带中电子的排布 晶体中的一个电子只能处在某个能带中的晶体中的一个电子只能处在某个能带中的 某一能级上。某一能级上。排布原则:排布原则:1.服从泡里不相容原理(费米子)服从泡里不相容原理(费米子)2.服从能量最小原理服从能量最小原理设孤立原子的一个能级设孤立原子的一个能级 Enl ,它它最多能容最多能容纳纳 2(2 +1)个电子。个电子。这一能级分裂成由这一能级分裂成由 N条能级组成的能带后,条能级组成的能带后,能带最多能容纳能带最多能容纳 2N(2l+1)个电子。个电子。电子排布时,应从最低的能级排起。电子排布时,应从
20、最低的能级排起。有关能带被占据情况的几个名词:有关能带被占据情况的几个名词:1满带(排满电子)满带(排满电子)2价带(能带中一部分能级排满电子)价带(能带中一部分能级排满电子)亦称导带亦称导带 3空带(未排电子)空带(未排电子)亦称导带亦称导带 4禁带(不能排电子)禁带(不能排电子)2、3能带,最多容纳能带,最多容纳 6N个电子。个电子。例如,例如,1、2能带,最多容纳能带,最多容纳 2N个电子。个电子。2N(2l+1)排满电子的能带称为排满电子的能带称为满带满带;排了电子但未排满的称为排了电子但未排满的称为未满带未满带(或(或导带导带););未排电子的称为未排电子的称为空带空带;(有时也称为
21、(有时也称为导带导带););两个能带之间的两个能带之间的禁带禁带是不能排电子的。是不能排电子的。说明:说明:.分裂的新能级组成一个连续分布的能带分裂的新能级组成一个连续分布的能带.能带图:形成化学键的电子能级能带图:形成化学键的电子能级.v价带(Valence band):the highest occupied band 价带中的电子是定域的,不能在晶体中自由移动。v导带(Conduction band):the lowest empty band 导带中的电子可在晶体中自由运动。v禁带(Forbidden band)、能隙(Energy gap)、能带隙(Band gap):位于导带和价带
22、之间,没有能级的区域。v费米能级费米能级:highest occupied energy level in the ground state of the N electron system.空穴:满带中失去一部分电子而在相应能级上空穴:满带中失去一部分电子而在相应能级上留下的空位留下的空位8.4 导体和绝缘体导体和绝缘体 (conductor insulator)它们的导电性能不同,它们的导电性能不同,是因为它们的能带结构不同。是因为它们的能带结构不同。晶体按导电性能的高低可以分为晶体按导电性能的高低可以分为导体导体半导体半导体绝缘体绝缘体导体导体导体导体导体导体半导体半导体绝缘体绝缘体 E
23、g Eg Eg 在外电场的作用下,大量共有化电子很在外电场的作用下,大量共有化电子很 易获得能量,集体定向流动形成电流。易获得能量,集体定向流动形成电流。从能级图上来看,从能级图上来看,是因为其共有化电子是因为其共有化电子很易从低能级跃迁到高能级上去。很易从低能级跃迁到高能级上去。E导体导体从能级图上来看,是因为满带与空带之间从能级图上来看,是因为满带与空带之间有一个有一个较宽的禁带较宽的禁带(Eg 约约36 eV),),共有化电子很难从低能级(满带)跃迁到共有化电子很难从低能级(满带)跃迁到高能级(空带)上去。高能级(空带)上去。在外电场的作用下,共有化电子很难接在外电场的作用下,共有化电子
24、很难接 受外电场的能量,所以形不成电流。受外电场的能量,所以形不成电流。的能带结构的能带结构,满带与空带之间也是禁带,满带与空带之间也是禁带,但是但是禁带很窄禁带很窄(E g 约约0.12 eV )。绝缘体绝缘体半导体半导体金属、半导体和绝缘体的差别:金属、半导体和绝缘体的差别:.能带结构能带结构.价带是充满还是部分地充满价带是充满还是部分地充满.满带和空带之间能隙的大小满带和空带之间能隙的大小本征半导体本征半导体非本征半导体:电导率受外加掺杂剂控制非本征半导体:电导率受外加掺杂剂控制电子和空穴v本征半导体中受激发产生的导带电子和价带空穴并不是完全自由的,它们之间在一定程度上相互关联的形成一个
25、电子空穴对而运动着,构成激子(Excitons)。v杂质半导体中由缺陷能级受激发产生的导带电子或价带空穴,也不是完全自由的,而是准自由的电子和空穴。电子和空穴v它们在某种程度上受着缺陷的束缚,即局域在缺陷原子的附近。这些电子或空穴的导电过程是由它们从一个缺陷原子跳向另一个缺陷原子而实现的,这种导电机制叫跳跃电子模型。点缺陷的局域能级v点缺陷的局域能级v由于缺陷的存在破坏了晶体点阵的周期性,点缺陷周围的电子能级不同于正常点阵原子处的能级,因此在晶体的禁带中造成了能量高低不同的各种局域能级。点缺陷的局域能级v局域能级是指束缚着电子时的缺陷的能量状态,不论是施主还是受主,都是指它带有电子时的状态。施
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 有机 材料
限制150内