低频电子线路课件.pptx
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1、电子线路2021/9/121绪论1 电子线路:研究半导体器件的性能及其组成的 电路(主要是集成电路)与应用的 学科。2 本课程内容 1)讲述半导体器件工作原理,特性曲线,性能 参数,引出半导体器件的模型。2)分析由三极管,场效应管构成的放大电路,强调基本概念,工作原理,分析方法。2021/9/122 3)在集成运放基本单元电路和主要性能参数的 基础上,强调集成运放的应用。4)分析负反馈放大器,强调反馈的基本概念与 深度负反馈放大器性能指标的估算。5)介绍谐振放大器3,强调其阻抗变换和选频作 用。3 基本要求 1)掌握本课程内容,完成每章指定习题。2)掌握电路分析与设计软件333 定的实验。20
2、21/9/123 4 参考书 1)Stanley G.Burns Paul R.Bond著,董平译 电子电路原理 机械工业出版社,2001 2)傅丰林等编 电子线路基础西安电子科技大学 出版社,2001 3)张肃文编低频电子线路高等教育出版社 4)彭华林等编 虚拟电子实验平台应用技术湖南 科学出版社 5)解月珍等编 电子电路计算机辅助分析与设计 北京邮电大学出版社 20015考核及计分比例 平时15%,实验10%,期中15%,期末60%。2021/9/124第1章 晶体二极管2021/9/125*1 晶体二极管:由PN结构成的电子器件.*2 晶体二极管的主要特性:单向导电性.*3 晶体二极管结
3、构.符号2021/9/1261.1 半导体的基础知识一、半导体特性*1 导体.108cm 半导体 10-3cm p 施主杂质 热平衡条件:np=ni2 电中性条件:n=Nd+p 2021/9/12112)P型半导体 多子-空穴,少子-电子,pn 受主杂质 热平衡条件:np=ni2 电中性条件:p=Na+n2021/9/1212一、PN结的基本原理 1.PN结 1)PN结中载流子的运动空间电荷区1.2 PN结2021/9/1213 *1 漂移电流 *2 扩散电流 *3动态平衡:2021/9/1214二.PN结的单向导电性 1、正向特性 2021/9/12152、反向特性2021/9/12163、
4、伏安特性 Is:反向饱和电流;VT:热电压。常温(300k)下,VT=26mV。4、温度特性2021/9/12175、击穿特性 雪崩击穿 齐纳击穿 2021/9/12181.3 晶体二极管一、符号及特性曲线1、符号2021/9/12192.特性曲线2021/9/1220二.二极管模型 1.简化电路模型 D+-VD(on)RD2021/9/12212、小信号电路模型rsrd2021/9/1222三.晶体二极管电路分析方法 1.图解法2021/9/12232.简化分析法 采用简化电路模型 2021/9/12243.小信号分析法(|V|0 VBC=0 IF IF 发射极 集电极正向传输 VBE0 V
5、BC0 I IR 集电极发射极反向传输2021/9/1247+_ICIBN+P NIFIFRIRIRIE-+R1R2饱和模式NPN管中的载流子传输2021/9/1248*1 IC IE同时受两个结正偏控制*2 VBCIR IC,IE*3 正,反向传输的载流子在基区均有复合,且增加了IR中的空穴电流成分 即 IR IR IB 2021/9/12492)简化电路模型(硅)VBES=0.7V VBCS=0.4V VCES=0.3V 饱和条件 IBIBS VCES0.3V (VCE=VCB -VEB=VEB -VBC)+-+-VBESVCESCBE2021/9/12502 截止模式 1)截止条件 B-
6、E反偏,B-C反偏 IE0 IB0 IC0 2)电路模型BCE2021/9/1251 2.4 晶体三极管的特性曲线一.输入特性曲线族2021/9/1252二.输出特性曲线族2021/9/1253*1 考虑基区宽度调制效应2021/9/1254*2 极限参数 1.反向击穿电压V(BR)CEO 2.集电极最大容许电流ICM 3.集电极最大容许功耗PCM*3 温度对晶体管参数的影响 ICBO:VBE(ON):2021/9/12552.5 晶体三极管的小信号电路模型三极管各极电压,电流均为直流量上叠加增量(或交流量)即 一般电路模型 +-+-BvBEBCvCE2021/9/12562.5.1 小信号电
7、路模型1 数学分析 *1 共射接法 *2 用幂级数在Q点上对交流量展开2021/9/12572021/9/1258*3 未计及宽度调制效应2021/9/12592 简化小信号电路模型(1)共射(2)共射 (3)共基+gmvbevbe bc-vce rberbebbecebcbrbe2021/9/12603 参数计算2021/9/1261又2021/9/1262*考虑 vce(引入gce gbc)2021/9/1263+vbe bc-vce rbeb2021/9/12644 混合型电路模型(考虑基区串联电阻rbb vbe vbe rbe=rbb+rbe=rbb+(1+)re+vbe bc-vce
8、rbe brcecbecbcrbbbbce+vbe bc-vcerbe=brcecbecbcrbbbbceVbe+-gmvbe2021/9/12652.6 晶体三极管电路分析方法1 图解分析法1)直流分析 直流电源供电,电容开路,电感 短路输入回路+-+-VBRBRCBEC+-VBE+-VCEVCCVBEIBVCEICQQVCEQVBEQIBQICQABCDIB=IBQ2021/9/1266 输出回路+-+-VBRBRCBEC+-VBE+-VCEVCCVBEIBVCEICQQVCEQVBEQIBQICQABCDIB=IBQ2021/9/12672)交流分析+-+-VBRBRCBEC+-vBE+
9、-vCEVCCvBEBQVBEQIBQABvvvbevBEttBc2021/9/1268在输入特性曲线上作输出负载线 AB过轴vCE 上点 VBB+Vm,VBB-Vm作输入负载线 的平行 线两条 在输出特性曲线上作输出负载线 CD对应 B得出vCE .CCQVCEQICQCDIB=IBQCvCEvCEtt2021/9/12693)小结(观察波形)*1 当 时放大电路中三极管的 均围绕各自的静态值(Q点)基本上按正旋规律变化交直流并存状态。*2 输入电压微小变化,输出电压得到较大的变化电压放大作用。电压放大倍数为 *3 倒相作用2021/9/12702 工程近似分析法(简化电路模型)*确定三极管
10、工作模式,采用相应的电路模型 例1 试求图所示电路中三极管的各极电压和电 流值。已知 =100 解:等效电路ICIEIBVCC(12V)RB1100KRC3KRB220KRE1KICIEIBRB1100KRB220KRc3KVCCVB+-BBCE2021/9/1271RE1KICIEIBRBRc3KVCCVB+-BCERE1KRBVB+-EBCIBIEIBVCCRc3KVD(ON)+-2021/9/12722021/9/1273例2:1)试求图所示电路中三极管的各极电压和 电流值。已知 =100 2)若增大RC到20K,试求IB,IC,VCE.3)若减小RB到10K,试求IB,IC,VCE 解
11、:1)设三极管导通ICIEIBRB 100KRc5.8KVCC 12VVB 1.7V+-BCE2021/9/1274确定三极管工作在放大模式RBVB+-EBCIBIEIBVCCRc5.8KVD(ON)+-2021/9/12752)确定三极管工作在放大模式RBVB+-BCIBVBES+-E+-VCESVCCRCIC2021/9/1276确定三极管工作在饱和模式2021/9/12773 小信号等效电路分析法 1)当三极管工作在放大模式且叠加在Q点上的 交流电压或交流电流足够小时,利用小信号 电路模型对各种电路进行交流分析。2)分析步骤 对电路进行直流分析,求出Q点上各极直流 电压和电流(VBEQ
12、,VCEQ,IBQ,ICQ,IEQ)计算微变等效电路的各参数值。2021/9/1278 进行交流分析,求叠加在Q点上各极交流量。(vbe,vce,b,e,c)求瞬时值2021/9/1279例:试求如图所示电路中三极管的各极交流电压 和电流值。已知 解:1)直流分析 +-+-VBBRBRCBEC+-vBE+-vCEVCCv5K5.8K12V2021/9/12802)求微变等效电路参数+bc-vcerbe rcebbc+-gmvbevbevRBRC2021/9/12813)交流分析2021/9/12824)瞬时值2021/9/12832.7 晶体三极管应用原理*1 三极管工作在放大区具有正向受控作
13、用,等效受控电流源。*2 三极管工作在饱和,截止区具有可控开 关特性,等效可控开关。1 电流源 1)理想电流源+-=I0I02021/9/1284 2)三极管等效受控电流源(在放大区)三极管等效受控电流源不是实际提供电流的 源,由VCC提供。三极管作用 控制 (=C=B)VCC+-RC+-CECB+-QBVCES2021/9/1285 2 放大器作用:将输入信号进行不失真的放大,使输出信号强度(功率,电压或电流)大于输入信号强度,且不失真地重现输入信号波形。1)基本电路 2)原理 +-+VCCOVIQRCT2021/9/1286 VCC提供能量,放大器转换能量(直流功率部 分转换为输出功率)2
14、021/9/12873 跨导线性电路1)电路 放大模式2)原理2021/9/12882021/9/12893)应用:实现电流量之间线性和非线性运算例1:平方运算T4T3T1T2yxVCCO2021/9/1290例2:平方根T4yxOT3T1T2VCC2021/9/1291第3章 场效应管2021/9/1292第3章 场效应管*1 场效应管:具有正向受控作用的半导体器件。是单极型晶体管。*2 场效应管类型:结型(JFET):P沟道,N沟道 金属-氧化物-半导体型(MOSFET):增强型(EMOS):P沟道,N沟道 耗尽型(DMOS):P沟道,N沟道2021/9/1293MOS场效应管 1 EMO
15、S场效应管(N沟道)1)结构 符号WDGSUUSGDP+N+N+Pll2021/9/12942 工作原理 在VGS作用下,D-S间形成导电沟道;在VDS作用下,S区电子沿导电沟道进到D区。1)VGS=0 VDS0 由于U-D极PN结是反向偏置的,中间P型衬底基本没有电子,所以D极和S极彼此之间有效地绝缘开了。此时NMOS管处于截止状态,ID=0。USGDP+N+N+PVGSVDSID=02021/9/12952)VGS 0 VDS0向下的电场将排斥氧化层下面P型衬底薄层(表面层)中的空穴,使受主负离子露出开始形成耗尽层。可动载流子很少,ID0USGDP+N+N+PVGSVDSE2021/9/1
16、2963)VGS =VGST VDS0 VGS 表面层感应负电荷 耗尽层耗尽层上面的 表面层内感应自由电子浓度n 空穴浓度p形成反型层 产生导电沟道。*1 反型条件:*2 反型层*3 开启电压VGSTUSGDP+N+N+PVGSVDS2021/9/12974)VGS VGST VDS0 在VDS 作用下,ID 05)VGS VGST VDS VGS VGST *1 VGS VGST 时 VDS 靠近漏极的耗尽层 *2 当VDS VGS VGST 时,耗尽层将夹断靠近漏端的 导电沟道。夹断*3 夹断电压:VDS=VGS VGST*4 夹断时,漏极到源极之间仍然导电USGDP+N+N+PVGSVD
17、S2021/9/1298*5 当VGS VGST 如果 VDS VGS VGST,那么 VDSID 如果 VDS VGS VGST ,那么多余的电压降落在耗尽层上,ID 饱和。饱和区电阻区IDVDSVDS=VGS VGSTIDVGSVGSTVGS2021/9/12993 伏安特性 IG=01)电阻区(线性区,非饱和区)条件:VGS VGST VDS VGS-VGST (VGD VGST)饱和区电阻区IDVDSVDS=VGS VGSTDGSU2021/9/121002021/9/121012)饱和区(放大区)条件:VGS VGST VDS VGS-VGST(VGD VGST)*1 忽略沟道长度调
18、制效应,令VDS=VGS-VGST代入2021/9/12102*2 计及沟道长度调制效应2021/9/121033)截止区 条件:VGS VGST 沟道未形成 ID=04)击穿区 VDS D-U间的PN结击穿ID *VGS 过大SiO2绝缘层击穿管子永久损坏。保护电路DGSU2021/9/12104*衬底效应:N(P)沟道MOS管衬底必须接在电路的最低(高)电位上。保证U-S,U-D间PN结反偏.4 P沟道EMOS场效应管DGSUUSGDN+P+P+NIDVDSIDVGS=VGST-VGSIDVGST2021/9/121055耗尽型MOS(DMOS)1)N沟道DGSUUSGDP+N+N+PID
19、NVDS(V)ID (mA)VGS=0-0.5-1.50.51.51.5VGS(V)ID (mA)1.5VGSTVGST2021/9/12106 2)P沟道DGSUUSGDP+N+PIDNP+VGS=0VGS=+VGS=-VDSIDIDVGSVGST2021/9/121076 小信号电路模型(工作在放大区)rdsgsvgsvdsgdsrdsgmgsvgsgdsvds=gm rds2021/9/12108饱和区(放大区)2021/9/121092021/9/12110若U-S间不连接,且存在交流量rdsgmgsvgsgdsvdsrdsgmgsvgsgdsvdsgmuusidid2021/9/12
20、111VGVS7分析方法VDDRG1RG2RDRS2021/9/121122021/9/12113例2:假设一个N沟道EMOS场效应管,通过测量得到VGST=2V,VGS=VDS=5V,ID=3mA。求饱和出现时VDS值,VDS=1V时ID值。解:1)饱和出现时 VDS=VGS-VGST=5V-2V=3V VDS3V时MOS管饱和2021/9/121142)当VDS=1V(VGS-VGST)时,MOS管在电阻区。2021/9/121153.2 结型场效应管1 结构 符号1)N沟道JFET P+P+NGSDDSG2021/9/121162)P沟道JFETN+N+PGSDDSG2021/9/121
21、172 工作原理 *工作时,VGS0,使G-沟道间的PN结反偏,IG=0,场效应管呈现高(107)的输入电 阻。VDS0,使N沟道中的多子(电子)在电场作用下由SD运动,形成 ID。ID的大小受VGS控制。1)VGS对ID的控制作用 设VDS=0 若 a)VGS=0 b)VGS(off)VGS0 c)VGS VGS(off)VGS(off):夹断电压2021/9/12118P+P+NGSDP+P+NGSDP+P+GSDN(a)(b)(c)VGSVGS2021/9/12119 2)VDS对ID的影响(设VGS=0)a)VDS=0 b)0VDS VGS VGS(off)(VGD VGS(off)P
22、+P+NGSDP+P+NGSD(a)(b)ID=0VDSID迅速增大2021/9/12120 c)VDS=VGS VGS(off)(VGD=VGS(off)d)VDS VGS VGS(off)(VGD VGS(off)P+P+NGSD(d)VDSP+P+GSD(c)VDSID趋向饱和ID饱和N2021/9/12121 *1 结论1)JFET的G-沟道之间的PN结是反向偏置的,因此,IG=0,输入电阻很高。2)JFET是电压控制电流器件,ID受VGS控制。3)预夹断前,ID与VDS呈近似线性关系;预夹断 后,ID趋于饱和。*2 P沟道JFET工作时,其电源极性与N沟JFET 的电源极性相反。20
23、21/9/12122 3 伏安特性 1)电阻区 VGS VGS(off)VDS VGS VGS(off)VDS=VGS VGS(off)VDSID2021/9/12123 2)饱和区 VGS VGS(off)VDS VGS VGS(off)(VGD VGS(off))GDSVGSVDSIDVGS+-ID(VGS)ID2021/9/12124 3)截止区 VGS VGS(off)ID=0 4)击穿区 VDS V(BR)DS ID V(BR)DS:漏极击穿电压2021/9/12125 4 小信号电路模型 GDSvgsvds+-gmvgsidrds2021/9/121262021/9/121275分
24、析方法 采用计算法 例1:已知某ENMOS器件的参数VGST=2V,W=100m,l=10 m,nCox=20A/V2,源极电位VS=0V,栅极电位 VG=3.0V,试确定 VD=0.5V,VD=5V时,器件分别 工作在什么状态,并且计算ID值(=0)。解:VGS=VG VS=3V VGST 当 VD=0.5V时 VGD=VG VD=2.5V VGST 器件工作在非饱和区(电阻区)2021/9/12128当 VD=5V时 VGD=VG VD=2V VGST 器件工作在饱和区2021/9/12129例2:电路如图,N沟道JFET共源放大器电路,已知 VGS(off)=-3.2V,IDSS=4.5
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