(精品)铁电存储器.ppt
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1、LOGO铁电存储器吴立佳LOGO一、背景介绍一、背景介绍v铁电存储技术早在1921年提出,直到1993年美国Ramtron国际公司成功开发出第一个4K位的铁电存储器FRAM产品,目前所有的FRAM产品均由Ramtron公司制造或授权。最近几年,FRAM又有新的发展,采用了0.35 m工艺,推出了3V产品,开发出“单管单容”存储单元的FRAM,最大密度可达256K位。LOGO背景介绍背景介绍 现有闪存和EEPROM都是采用浮动栅技术,浮动栅存储单元包含一个电隔离门,浮动栅位于标准控制栅的下面及通道层的上面。浮动栅存储单元的信息存储是通过保存浮动栅内的电荷而完成的。利用改变浮动栅存储单元的电压就能
2、达到电荷添加或擦除的动作,从而确定存储单元是在”1”或“0”的状态。LOGO背景介绍背景介绍 铁电存储器采用人工合成的铅锆钛(PZT)材料形成存储器结晶体。当一个电场被施加到铁晶体管时,中心原子顺着电场停在低能量状态I位置,反之,当电场反转被施加到同一铁晶体管时,中心原子顺着电场的方向在晶体里移动并停在另一低能量状态II。LOGO二、二、FRAM原理及特点原理及特点 FRAM利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储,铁电晶体的结构如图1所示。铁电效应是指在铁电晶体上施加一定的电场时,晶体中心原子在电场的作用下运动,并达到一种稳定状态;当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来的位置。LOGOFRAM原
3、理及特点原理及特点 FRAM保持数据不需要电压,也不需要像DRAM一样周期性刷新。FRAM存储器的内容不会受到外界条件诸如磁场因素的影响,能够同普通ROM存储器一样使用,具有非易失性的存储特性。FRAM速度快,能够像RAM一样操作,读写功耗极低,不存在如E2PROM的最大写入次数的问题。但受铁电晶体特性制约,FRAM仍有最大访问(读)次数的限制。LOGO三、三、FRAM存储单元结构存储单元结构 FRAM的存储单元主要由电容和场效应管构成,但这个电容不是一般的电容,在它的两个电极板中间沉淀了一层晶态的铁电晶体薄膜。前期的FRAM每个存储单元使用两个场效应管和两个电容,称为“双管双容”(2T2C)
4、,每个存储单元包括数据位和各自的参考位,简化的2T2C存储单元结构如图2(a)所示。LOGOFRAM存储单元结构存储单元结构 2001年Ramtron设计开发了更先进的单管单容(1T1C)存储单元。1T1C的FRAM所有数据位使用同一个参考位,而不是对于每一数据位使用各自独立的参考位。1T1C的FRAM产品成本更低,而且容量更大。简化的1T1C存储单元结构(未画出公共参考位)如图2(b)所示。LOGOFRAM存储单元结构存储单元结构LOGO四、四、FRAM的读的读/写操作写操作 FRAM读操作过程是:在存储单元电容上施加一已知电场,如果原来晶体的中心原子的位置与所施加的电场方向使中心原子要达到
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