论薄膜材料的应用与发展(共21页).doc
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1、精选优质文档-倾情为你奉上论薄膜材料的应用与发展论文关键词:薄膜; 金刚石; 铁电; 氮化碳; 半导体; 超晶格论文摘要: 薄膜材料的发展以及应用,薄膜材料的分类,如金刚石薄膜、铁电薄膜、氮化碳薄膜、半导体薄膜复合材料、超晶格薄膜材料、多层薄膜材料等。各类薄膜在生产与生活中的运用以及展望。1 膜材料的发展在科学发展日新月异的今天,大量具有各种不同功能的薄膜得到了广泛的应用,薄膜作为一种重要的材料在材料领域占据着越来越重要的地位。自然届中大地、海洋与大气之间存在表面,一切有形的实体都为表面所包裹,这是宏观表面。生物体还存在许多肉眼看不见的微观表面,如细胞膜和生物膜。生物体生命现象的重要过程就是在
2、这些表面上进行的。细胞膜是由两层两亲分子-脂双层膜构成,它好似栅栏,将一些分子拦在细胞内,小分子如氧气、二氧化碳等,可以毫不费力从膜中穿过。膜脂双层分子层中间还夹杂着蛋白质,有的像船,可以载分子,有的像泵,可以把分子泵到膜外。细胞膜具有选择性,不同的离子须走不同的通道才行,比如有K通道、Cl通道等等。细胞膜的这些结构和功能带来了生命,带来了神奇。2 膜材料的应用人们在惊叹细胞膜奇妙功能的同时,也在试图模仿它,仿生一直以来就是材料设计的重要手段,这就是薄膜材料。它的一个很重要的应用就是海水的淡化。虽然地球上70的面积被水覆盖着,但是人们赖以生存的淡水只占总水量的2.53,随着人口增长和工业发展,
3、当今世界几乎处于水荒之中。因此将浩瀚的海水转为可以饮用的淡水迫在眉睫。淡化海水的技术主要有反渗透法和蒸馏法,反渗透法用到的是具有选择性的高分子渗透膜,在膜的一边给海水施加高压,使水分子透过渗透膜,达到膜的另一边,而把各种盐类离子留下来,就得到了淡水。反渗透法的关键就是渗透膜的性能,目前常用有醋酸纤维素类、聚酰胺类、聚苯砜对苯二甲酰胺类等膜材料.这种淡化过程比起蒸法法,是一种清洁高效的绿色方法。 利用膜两边的浓度差不仅可以淡化海水,还可以提取多种有机物质。工业生产中,可用膜法过滤含酚、苯胺、有机磺酸盐等工业废水,膜法过滤大大节约了成本,有利于我们的生存环境。膜的应用还体现在表面化学上面。在日常生
4、活中,我们会发现在树叶表面,水滴总是呈圆形,是因为水不能在叶面铺展。喷洒农药时,如果在农药中加入少量的润湿剂(一种表面活性剂),农药就能够在叶面铺展,提高杀虫效果,降低农药用量。更重要的,研究人员还将膜材料用于血液透析,透析膜的主要功能是移除体内多余水份和清除尿毒症毒素,大大降低了肾功能衰竭患者的病死率13 膜材料的分类近年来,随着成膜技术的飞速发展,各种材料的薄膜化已经成为一种普遍趋势。 薄膜材料种类繁多,应用广泛,目前常用的有:超导薄膜、导电薄膜、电阻薄膜、半导体薄膜、介质薄膜、绝缘薄膜、钝化与保护薄膜、压电薄膜、铁电薄膜、光电薄膜、磁电薄膜、磁光薄膜等。 目前很受人们注目的主要有一下几种
5、薄膜。3.1金刚石薄膜金刚石薄膜的禁带宽,电阻率和热导率大,载流子迁移率高,介电常数小,击穿电压高,是一种性能优异的电子薄膜功能材料,应用前景十分广阔2。近年来,随着科技的发展,人们发展了多种金刚石薄膜的制备方法,比如离子束沉积法、磁控溅射法、热致化学气相沉积法、等离子化学气相沉积法等.成功获得了生长速度快、具有较高质量的膜,从而使金刚石膜具备了商业应用的可能。金刚石薄膜属于立方晶系,面心立方晶胞,每个晶胞含有8个C原子,每个C原子采取sp3杂化与周围4个C原子形成共价键,牢固的共价键和空间网状结构是金刚石硬度很高的原因.金刚石薄膜有很多优异的性质:硬度高、耐磨性好、摩擦系数效、化学稳定性高、
6、热导率高、热膨胀系数小,是优良的绝缘体。利用它的高导热率,可将它直接积在硅材料上成为既散热又绝缘的薄层,是高频微波器件、超大规模集成电路最理想的散热材料。利用它的电阻率大,可以制成高温工作的二极管,微波振荡器件和耐高温高压的晶体管以及毫米波功率器件等。金刚石薄膜的许多优良性能有待进一步开拓,我国也将金刚石薄膜纳入863新材料专题进行跟踪研究并取得了很大进展、金刚石薄膜制备的基本原理是:在衬底保持在8001000的温度范围内,化学气相沉积的石墨是热力学稳定相,而金刚石是热力学不稳定相,利用原子态氢刻蚀石墨的速率远大于金刚石的动力学原理,将石墨去除,这样最终在衬底上沉积的是金刚石薄膜。薄膜种类层出
7、不穷,一种新的薄膜的出现能够促进某些领域的加快生产,取代某些生产辅助原料,因为薄膜的使用几乎涵盖了各个领域,金刚石薄膜的出现不仅仅是生产领域的一次变革,也是国际开发史上的一个重要里程碑。 金刚石薄膜的禁带宽,电阻率和热导率大,载流子迁移率高,介电常数小,击穿电压高,是一种性能优异的电子薄膜功能材料,应用前景十分广阔。近年来,随着科技的发展,人们发展了多种金刚石薄膜的制备方法,比如离子束沉积法、磁控溅射法、热致化学气相沉积法、等离子化学气相沉积法等.成功获得了生长速度快、具有较高质量的膜,从而使金刚石膜具备了商业应用的可能。金刚石薄膜属于立方晶系,面心立方晶胞,每个晶胞含有8个C原子,每个C原子
8、采取sp3杂化与周围4个C原子形成共价键,牢固的共价键和空间网状结构是金刚石硬度很高的原因.金刚石薄膜有很多优异的性质:硬度高、耐磨性好、摩擦系数效、化学稳定性高、热导率高、热膨胀系数小,是优良的绝缘体。利用它的高导热率,可将它直接积在硅材料上成为既散热又绝缘的薄层,是高频微波器件、超大规模集成电路最理想的散热材料。利用它的电阻率大,可以制成高温工作的二极管,微波振荡器件和耐高温高压的晶体管以及毫米波功率器件等。金刚石薄膜的许多优良性能有待进一步开拓,我国也将金刚石薄膜纳入863新材料专题进行跟踪研究并取得了很大进展、金刚石薄膜制备的基本原理是:在衬底保持在8001000的温度范围内,化学气相
9、沉积的石墨是热力学稳定相,而金刚石是热力学不稳定相,利用原子态氢刻蚀石墨的速率远大于金刚石的动力学原理,将石墨去除,这样最终在衬底上沉积的是金刚石薄膜。 金刚石的功能只要体现在六个方面:一、其导热性约硅材料的二万倍,它将取代硅材料制造新一代计算机,同时抗酸碱、低辐射、抗高温,使计算机能够在恶劣环境下进行工作;二、它的成功开发将使现有应用的电子元器件更新50%;三、利用其高硬度和优异的光学性质组合还可以开发出永不磨损的摄像机、照相机等各种红外光学镜头;四、应用于航空航天技术,开发各种高质量的密封件、热沉材料等;五、加工各种超硬材料;六、发射冷阴极电子的特点制造出高清晰、超薄、超大屏幕的电视机、计
10、算机显示器,并且极省电,目前还只在美日两国使用。日本的青山大学中犬冢等人和广岛大学中广濑等人,于19851988年间,分别先后利用热灯丝CVD法,采用被氢气稀释过的甲烷、乙醇等含氧的有机化合物作为原料,进行了关于沉积金刚石薄膜的实验。结果用氢气稀释过的甲烷作原料,金刚石薄膜的沉积速度为数m/h(微米/小时);但是若是采用乙醇等含氧的有机化合物作原料,金刚石薄膜沉积的速度则提高到了数十m/h。3.2铁电薄膜铁电薄膜的制备技术和半导体集成技术的快速发展,推动了铁电薄膜及其集成器件的实用化。铁电材料已经应用于铁电动态随机存储器(FDRAM)、铁电场效应晶体管( FEET)、铁电随机存储器( FFRA
11、M)、IC卡、红外探测与成像器件、超声与声表面波器件以及光电子器件等十分广阔的领域3。铁电薄膜的制作方法一般采用溶胶-凌胶法、离子束溅射法、磁控溅射法、有机金属化学蒸汽沉积法、准分子激光烧蚀技术等.已经制成的晶态薄膜有铌酸锂、 铌酸钾、钛酸铅、钛酸钡、钛酸锶、氧化铌和锆钛酸铅等,以及大量的铁电陶瓷薄膜材料。常见的制备石墨烯的方法有:微机械剥离法,化学气相沉积法,外延生长法以及氧化石墨还原法。2004年,Geim领导的研究小组利用微机械剥离法首次制备出石墨烯。原子力显微镜观察发现,此方法可得到厚度仅有几个单原子层的石墨烯片层。用此方法制备石墨烯,方法简单,但耗时长,产率低,不利于大规模的生产和应
12、用。氧化石墨还原法是首先将石墨氧化,得到层间距扩大的氧化石墨后,再将其还原,得到易于制备的石墨烯。氧化石墨的方法主要有Hummers、Brodie和Staudenmaier。Hummers氧化法优于其他两种方法的优点是安全性较高,绿色环保。此外,氧化剂的选取和不同温度下的氧化时间对氧化石墨的制备及其结构有很大影响,因此,需要优化氧化过程的条件,才能得到合适的氧化石墨,使其易于被还原得到高质量的石墨烯。对氧化石墨进行的还原方法主要有热还原法、化学还原法、电化学还原法等。化学还原法中常用的还原剂有硼氢化钠、水合肼、二甲基联胺,对苯二酚和硼氢化钠等,通过化学还原法可有效地除去碳层间的各种含氧基团,将
13、石墨氧化物还原成石墨烯,但得到的石墨烯易产生缺陷。 在张志勇教授的指导下,苗亚宁小组基于密度泛函理论的第一性原理理论研究了本征及缺陷石墨烯的电子结构,取得了阶段性成果。同时,采用氧化石墨还原法制备了石墨烯,如下图所示。3.3氮化碳薄膜1985年美国伯克利大学物理系的M.L.Cohen教授以b-Si3N4晶体结构为出发点,预言了一种新的C-N化合物b-C3N4,Cohen计算出b-C3N4是一种晶体结构类似于b-Si3N4,具有非常短的共价键结合的C-N化合物,其理论模量为4.27Mbars,接近于金刚石的模量4.43 Mbars.随后,不同的计算方法显示b-C3N4具有比金刚石还高的硬度,不仅
14、如此, b-C3N4还具有一系列特殊的性质,引起了科学界的高度重视,目前世界上许多著名的研究机构都集中研究这一新型物质.b-C3N4的制备方法只要有激光烧蚀法、溅射法、高压合成、等离子增强化学气相沉积、真空电弧沉积、离子注入法等多种方法。在CNx膜的诸多性能中,最吸引人的当属其可能超过金刚石的硬度,尽管现在还没有制备出可以直接测量其硬度的CNx晶体,但对CNx膜硬度的研究已有许多报道。3.4半导体薄膜复合材料20世纪80年代科学家们研制成功了在绝缘层上形成半导体(如硅)单晶层组成复合薄膜材料的技术。这一新技术的实现,使材料器件的研制一气呵成,不但大大节省了单晶材料,更重要的是使半导体集成电路达
15、到高速化、高密度化,也提高了可靠性,同时为微电子工业中的三维集成电路的设想提供了实施的可能性。这类半导体薄膜复合材料,特别使硅薄膜复合材料已开始用于低功耗、低噪声的大规模集成电路中,以减小误差,提高电路的抗辐射能力。3.5超晶格薄膜材料随着半导体薄膜层制备技术的提高,当前半导体超晶格材料的种类已由原来的砷化镓、镓铝砷扩展到铟砷、镓锑、铟铝砷、铟镓砷、碲镉、碲汞、锑铁、锑锡碲等多种。组成材料的种类也由半导体扩展到锗、硅等元素半导体,特别是今年来发展起来的硅、锗硅应变超晶格,由于它可与当前硅的前面工艺相容和集成,格外受到重视,甚至被誉为新一代硅材料。 半导体超晶格结构不仅给材料物理带来了新面貌,而
16、且促进了新一代半导体器件的产生,除上面提到的可制备高电子迁移率晶体管、高效激光器、红外探测器外,还能制备调制掺杂的场效应管、先进的雪崩型光电探测器和实空间的电子转移器件,并正在设计微分负阻效应器件、隧道热电子效应器件等,它们将被广泛应用于雷达、电子对抗、空间技术等领域。3.6多层薄膜材料多层薄膜材料已成为新材料领域中一支新军。所谓多层薄膜材料,就是在一层厚度只有钠米级的材料上,再铺上一层或多层性质不同的其他薄层材料,最后形成多层固态涂层。由于各层材料的电、磁及化学性质各不相同,多层薄膜材料会用有一些奇异的特性。目前,这种制造工艺简单的新型材料正受到各国关注,已从实验室研究进入商业化阶段,可以广
17、泛应用于防腐涂层、燃料电池及生物医学移植等领域。1991年,法国特拉斯.博斯卡大学的Decher首先提出由带正电的聚合物和带负电的聚合物组成两层薄膜材料的设想,由于静电的作用,在一层材料上添加另外一层材料非常容易,此后,多层薄膜的研究工作进展很快。通常,研究人员将带负电的天然衬材如玻璃片等,浸入含有大分子的带正电物质的溶液,然后冲洗、干燥,再采用含有带负电物质的溶液,不断重复上述过程,每一次产生的薄膜材料厚度仅有几钠米或更薄。由于多层薄膜材料的制造可采用重复性工艺,人们可利用机器人来完成,因此这种自动化工艺很容易实现商业化。目前,研究人员已经或即将开发的多层薄膜材料主要有以下几种:制造具有珍珠
18、母强度的材料。新型防腐蚀材料。可使燃料电池在高温条件下工作的多层薄膜材料4。4 展望迄今,人们已经设计和开发出了多种不同结构和不同功能的薄膜材料,这些材料在化学分离、化学传感器、人工细胞、人工脏器、水处理等许多领域具有重要的潜在应用价值,被认为将是21世纪膜科学与技术领域的重要发展方向之一。参考文献: 1医疗设备信息.2007,(27)8. 2稀有金属材料与工程.2007,(36)8增刊1. 3硅酸盐通报.2008,(27)3.4周志华,金安定,赵波,朱小蕾. 材料化学.化学工业出版社,2006,1第一版性能及应用机械性能及应用由于类金刚石膜具有高硬度、高耐磨性和低摩擦因数,因此适用于轴承、齿
19、轮等易损机件的抗磨损镀层,尤其适合作为工具表面的耐磨涂层,可显著提高其寿命。如在印制电路板上钻孔的微型硬质合金钻头上镀膜后可在提高钻削速度50%的情况下,提高钻头寿命5倍。在镀锌钢板的深冲模具上沉积了掺W的DLC膜后可以不用润滑剂,经同样次数的深冲后工件的表面质量仍明显优于未镀膜模具所冲工件。在制造易拉罐时,用高速钢模具对铝板冲压,若无保护膜,只冲压几次工件的孔边就出现毛刺,而镀上膜后冲压5000次也不会出现毛刺。近年来更通过在膜中掺入杂质离子或制备梯度膜、复合膜、多层膜等进一步改善薄膜的摩擦、磨损性能。有研究表明,在膜中掺入适量Ti,膜的摩擦系数由未掺杂时的约0.20下降到约0.03。在钢衬
20、底上制备Ti/Ti C的DLC梯度膜,其硬度达6070 GPa,摩擦系数得到改善,耐磨性能也显著增强。随着个人计算机的广泛普及,对硬盘和磁头等存储介质的性能要求也越来越高。将磁盘、磁头或磁带表面涂覆很薄的DLC膜,不仅可以极大地减小摩擦磨损和防止机械划伤,提高各类磁记录介质的使用寿命,而且由于膜层具有良好的化学惰性,可以使抗氧化性提高、稳定性增强。电学性能及应用近年来,类金刚石膜在微电子领域的应用逐渐成为热点。由于类金刚石膜较低的介电常数以及容易在大的基底上成膜的特点,可望代替Si0,成为下一代集成电路的介质材料。类金刚石膜具有良好的化学稳定性,因而发射电流稳定,且不污染其他元器件;膜的表面平
21、整光滑,电子发射均匀,并且具有负的电子亲和势、相对较低的有效功函数和禁带宽度,在较低的外电场作用下能产生较大的发射电流,因此可以在平板显示器中得到应用。光学性能及应用类金刚石膜具有良好的光学特性,比如良好的光学透明度、宽的光学带隙,其折射率的大致范围为1.82.5,光学带隙的范围为O.54,特别是在红外和微波频段的透过性和光学折射率都很高,可作为锗光学镜片上和硅太阳能电池上的减反射膜和保护层,在红外光学透镜上镀制类金刚石膜可以起到增透和保护作用,也可将类金刚石膜镀在航天器或其它光学仪器上作窗口。生物相容性及医学上的应用由于类金刚石膜具有良好的耐磨性、化学稳定性和生物相容性,将类金刚石膜沉积在人
22、工关节表面,其抗磨损性能可以和镀陶瓷和金属的制品相比;在钛合金或不锈钢制成的人工心脏瓣膜上沉积类金刚石膜能同时满足机械性能、耐腐蚀性能和生物相容性要求,从而增加了这些医学部件的使用寿命。利用DLC薄膜表面能小、不润湿的特点,美国ART公司通过在DLC膜内掺人Si0,网状物、过渡金属元素以调节其导电性,生产出不粘肉的高频手术刀推向市场,明显改善了医务人员的工作条件。虽然类金刚石膜以其优异的性质在生物医学材料领域有广泛的应用前景,但目前这方面研究工作开展得相当有限,仍需作更进一步的深入研究。参考资工业富勒烯是一种新发现的工业材质, 它的特性: 1.硬度比钻石还硬 2.轫度(延展性)比钢强100倍
23、3.它能导电,导电性比铜强,重量只有铜的六分之一 4.它的成分是碳,所以可从废弃物中提炼可想像我们的未来生活中将有“无金属电线”“富勒烯(非金属)钢筋的建筑物” “富勒烯防弹背心”“富勒烯汽车壳”.构想中的“东京湾金字塔城”亦将富勒烯列为主要建材,纳米巴克管(富勒烯)分子可无限延伸(巴克管长度越长,其原子数越多,所以巴克管的原子数不一定是C60),且巴克管分子是碳原子自动组合而成。包裹金属电、光、磁C60本身的对称性决定了C60自身有非线性光学性质。作为一种新的化合物,研究其电、磁、光等应用是非常重要的,实际上C60就是因为掺杂碱金属在一定条件下具有超导电性,其有铁磁性而引起人们极大兴趣和关注
24、。1991年化学系和物理系在国内首次获得了K3C60和Rb3C60超导体,超导转变温度为18K和28K,其超导相达75%,达到了当时国际先进水平。1993年他们成功制备了K3C60外延超导膜,其Tc=21K,Jc=510A / cm。1994年后有关C60超导研究,国内外都处于更深入的艰难阶段。C60的磁学研究实际上从其超导性开始的。C60家族分子是三维电子离域的化合物,有良好的非线性光学效应。北京大学测定了C60、C70的非线性光学系数,并利用飞秒技术研究了C60的光克尔效应,证实了C60的非线性效应起源于的电子,并研究了C60电荷转移复合物的非线性性质。在研究C60甲苯溶液的光限制效应时,
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