第十二届三束(电子束、离子束、光子束)学术会议4256.docx
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1、第十二届全国电子束、离子束、光子束学术年会征文通知为发展我国国电子束、离离子束、光光子束技术术,由中国国电子学会会半导体与与集成技术术分会和生生产技术分分会联合主主办的“第十二届届全国电子子束、离子子束、光子子束学术年年会”将于20003年的的金秋在北北京市近郊郊召开,会会议由中国国科学院微微电子中心心和中国科科学院电工工研究所联联合承办。现将学术会会议的征文文工作通知知如下:一、征文范范围: 1. 电子束、离离子束光刻刻及微细加加工工艺 2. 电子束、离离子束辐照照材料改性性 3. 电子束曝曝光及相关关技术 4. 半导体离离子注入与与离子束合合成(包括括器件和集集成电路) 5. 离子注入入及
2、相关技技术 6. 光子束的的薄膜淀积积、杂质及及材料加工工工艺 7. X-射线线光刻(包包括掩模) 8. 分子束外外延(MBBE)、CCBE、MMOCVDD及其他新新外延技术术 9. 等离子体体加工技术术(包括PPECVDD、溅射等等技术) 10. 借助电子子束、离子子束、光子子束的测试试分析技术术 11. 电子束、离离子束、光光子束与材材料相互作作用以及新新效应的研研究与计算算机模拟12. 光光学光刻(包包括相移光光刻、远紫紫外光刻、激激光光刻) 13. 抗蚀剂及及干法刻蚀蚀技术 14. 半导体纳纳米技术,纳纳米器件及及应用 15. 电子束、离离子束、光光子束在半半导体材料料器件电路路及其它
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