第三章磁功能玻璃课件.ppt
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1、第三章第三章 磁功能玻璃磁功能玻璃3.1 3.1 法拉第旋转玻璃(磁光玻璃)法拉第旋转玻璃(磁光玻璃)3.1.1 3.1.1 法拉第效应(磁光效应)法拉第效应(磁光效应)平行于磁场方向入射的直线偏振光,在通过磁场中的透明物质时偏振面产生旋转的现象,因最早由法拉第发现而得名。产生磁光效应时,偏振面旋转的角度与磁场强度、光路长度以及旋光物质的旋光性能有关,用数学式表示为:VHL式中:偏振面旋转角(分),V费尔德常数(分/奥斯特厘米),通常以V值来表示物质的磁光特性,相当于单位长度的样品在单位磁场强度的作用下偏振面被旋转的角度。V为正值的物质称为逆磁性物质,V为负值的物质称为顺磁性物质。H磁场强度(
2、奥斯特,Oe),L样品长度即光路长度(厘米,cm)磁光效应原理示意图 入射光原偏振方向旋转角 玻璃 通过玻璃后偏振方向 逆磁玻璃即玻璃中的原子没有永久的电子轨道磁矩。因此,在磁场作用下,只能产生与磁场方向相反的极小的诱导磁矩,普通的光学玻璃属于这一类。法拉第1846年发现旋光效应时,就是用重铅硼硅酸盐玻璃做实验。之后为寻找高V值的玻璃,对含有各种金属离子的玻璃进行仔细研究,但这类玻璃V值都比较小。只有高V值的玻璃才有实际应用价值。顺磁玻璃是含稀土离子的玻璃。这类玻璃中的稀土离子都具有不成对的4f电子,因而离子本身具有永久的电子轨道磁矩,在磁场作用下将顺磁场取向,V值大。真正适合作磁光器件的还是
3、这一类玻璃。与晶体相比,玻璃的V值虽然小,但是玻璃材料具有一系列优点,如透光性能好,光学均匀性好,价廉,特别是容易制得大尺寸制品。通过增加通光方向的尺寸(L),使偏转角满足实用要求,因此,可以与晶体相竞争。3.1.2 3.1.2 顺磁性法拉第旋转玻璃顺磁性法拉第旋转玻璃 顺磁玻璃是将适当的高浓度的稀土离子溶解在基础玻璃中而制得的。一般,三价稀土氧化物玻璃属于顺磁玻璃,因为它们的偏振面在磁场作用下产生顺磁效应,即产生磁场的电流方向与偏振面的旋转方向一致。其中顺磁离子包括:铈Ce3+、镨Pr3+、钕Nd3+、铽Tb3+、镝Dy3+、钬Ho3+、铒Er3+、镱Yb3+、铕Eu2+等。顺磁玻璃的的费尔
4、德常数V如下式所示:(4)2 g 2 N P2 CnV 3 c h K T g 2 02式中:h、K分别为普朗克和波兹曼常数;c为光速;为入射光频率;0为顺磁离子固有频率;g 为玻尔磁子数;Cn为跃迁几率;g为光谱项分裂值;N 为单位体积内顺磁离子数;P为与有效磁子数有关的物理量。磁光玻璃希望有高的N、P、Cn值,通常希望P2/g值大。由上式可看出,要制得V值大的的玻璃,必须满足以下几点:(1)N大,即单位体积内顺磁离子数要多,为了得到稳定玻璃,稀土离子含量应为2030(mol)。(2)Cn值大,色散也大,V值也较大;近紫外区固有振动数色散大的Ce3+、Pr3+或P大的含Tb3+、Dy3+的玻
5、璃,V值也较大。(3)V与波长有关。波长越短,也越小,因而V值越大。(4)V与温度有关。温度低,可以提高光偏转的角度。(含Tb3+的玻璃冷至20K时,V值约增加12倍)。作为磁光玻璃,除了高的V值外,还要有良好的光谱特性(光透过)。含铈和铽的顺磁玻璃是非常引人注目的。(含三价铈的磷酸盐玻璃,在波长为640nm时,费尔德常数V值可达到0.16分/Oecm;而含氧化铽的BaO-B2O3-SiO2系统玻璃,费尔德常数V在630nm处达0.44分/Oecm,因此,含氧化铽的玻璃是最有前途的磁光玻璃。)3.1.3 逆磁性法拉第旋转玻璃 对于逆磁性法拉第旋转玻璃,费尔德常数V值可用下式表示:V=(g/2m
6、c2)(dn/d)式中,为振动数,n为折射率,g为朗特因子。由上式可看出,色散越大,费尔德常数也越大。因而含有大量Ga1、In1、Tl1、Ge2、Sn2、Pb2、Bi3等离子的玻璃,具有大的费尔德常数。对于含PbO的硅酸盐、硼酸盐、磷酸盐及锗酸盐玻璃,V值随PbO的浓度增加而增大,以硅酸盐及锗酸盐玻璃更好。(如PbOB2O3、Bi2O3-B2O3、Tl2O-B2O3、PbOGeO2系统;PbOTeO2、Sb2O3-TeO2系统;Al2O3-Cs2O-Rb2OSb2O3系统)。Y2O3B2O3 TeO2系统玻璃具有很高的透明性和很高的V值(5461处的V值可达0.50-0.10分/Oecm)硫、
7、硒、砷等非氧化物玻璃也是较有前途的逆磁性旋光玻璃,但只能用于红外光谱区域(如As2O3、As-Se)。3.1.4 3.1.4 法拉第旋转玻璃的应用法拉第旋转玻璃的应用1调制激光 光调制器、光隔离器、光开关 2测定磁场(或测定大电流):利用已知费尔德常数的法拉第玻璃,根据偏振面的旋转角度,可以测定磁场强度;反之,根据高压线周围产生的磁场,也可以测定高压电流的大小。3.2 3.2 计算机磁盘玻璃计算机磁盘玻璃 硬盘是硬磁盘驱动器的简称,是目前计算机中不可缺少的外存储设备之一,由于其盘片与通常的聚脂薄膜类软盘相比,是刚性盘片、且与驱动机构等封装在一起而得名。其主要构件有:盘片组 磁头组件 伺服机构
8、电讯号的传送与处理机构 盘壳 硬盘片是硬盘驱动器中存储信息的核心部件,占硬盘制造成本的20-30%,是一种高附加值的产品,在市场上一直供不应求。3.2.1 对磁盘基板的要求 影响硬盘的性能指标除了记录方式、磁头结构和磁头材料外,很重要的一个方面是盘片旋转速度以及盘片的记录密度。随着信息的发展,对磁盘的存储量、读写速度以及能源消耗、耐冲击等指标提出了更高的要求。硬盘也相应地朝着容量更大、速度更快、体积更小、安全性更高更高的方向发展。1、基板的作用与其材料选用要求 传统的磁盘基片是Al-Mg或Al-P金属基片。多采用薄膜复合结构,如下图所示:润滑膜 CoCr合金含碳衬层 Cr磁性膜 NiP膜 Al
9、合金基板 即在非常光滑的基板上溅射一薄层磁性膜和一层为含碳材料的保护性衬层。在衬层上面是一薄层润滑膜,用于改善磁头与盘片间的界面性能。a.基板材料必须具备一定的力学强度与表面硬度 盘片在工作过程中与会受到许多力的作用:如盘片的重力、盘片随主轴高速旋转而产生的离心力、高速旋转时硬盘空气湍流对盘片的作用力等;运输与携带过程中还会由于各种机械震动而使盘片受到冲击。但是,在整个盘片中,由于磁性层、衬层、润滑层都是薄膜结构,基本上不具备必要的力学性能,因此,盘片的机械性能主要由基板提供。b.具有较大的弹性模量 盘片以较高的转速旋转有利于硬盘快速读写数据,但随转速的提高,硬盘内空气湍流对盘片的作用会急剧增
10、大,盘片在此作用下会产生不规则振动,对盘片会造成极大伤害;并且振动的振幅随主轴转速增大而增大,达到一定程度时,盘片会扭曲变形,使整个硬盘损坏。目前普通硬盘的转速为5400转/分钟,部分高档硬盘转速已达7200转/分钟,IBM和日本日立公司等都发布了12000转/分钟的硬盘,正在向14000转/分钟发展,那时盘片受到的作用力更大。由于材料的抗弯性能及共振频率与其弹性模量有关,为了得到较高的转速,基板材料需具有较大的弹性模量。c.基板材料必须具有非常光滑平整的表面 以得到较低的飞行高度。当硬盘处于非使用状态时,盘片是静止的,磁头与盘片相接触;当进行读写操作时,盘片随主轴按设定的转速相对磁头旋转,而
11、磁头相对于盘片径向移动,这种操作方式称为接触启动/停止(contact start-stop,简称CSS)。磁头与盘片间是很小的距离,此距离称为飞飞行行高高度度d d,是提高盘片存储密度的控制因素。飞行高度d越低,存储密度越大。(d已从1997年约50nm降低至目前的接近10nm,而存储密度相应由几个Gb千兆字节/in2提高到20 Gb/in2)。在降低飞行高度的同时必须考虑到盘片与磁头间的静摩擦/摩擦。磁头与盘片间的空气层越薄,就越难以阻止磁头与盘片间的过多接触与作用,解决的办法就是使盘片表面非常光滑平整,而盘片上的各薄膜层的平整性是由基板表面特性所决定的,欲得到较低的飞行高度,基板材料必须
12、具有非常光滑平整的表面。d.d.基板具有很好的化学稳定性,受水气等影响基板具有很好的化学稳定性,受水气等影响较小。较小。2、现有合金硬盘基板的局限性 目前,硬盘大都采用铝镁合金基板,其退火后硬度约为0.9Gpa,比较软,不能满足盘片的高转速与高抗冲击性能要求。为了提高其强度与硬度,利用化学方法在其表面沉积一层NiP层(约为1020um厚,镍与磷重量比约为90:10),从而使其表面硬度达到56 Gpa(努普硬度)。存在的问题:沉沉积积NiPNiP层层与与铝铝的的膨膨胀胀系系数数有有差差别别,在加工处理过程中容易产生热失配,使盘片出现扭曲;NiPNiP层层在在稍稍高高的的处处理理温温度度(高于25
13、0度)下会经历一个非晶相到晶相的转变,易易于造成材料结构的破坏于造成材料结构的破坏;最突出的问题是NiPNiP层的球团状结构特层的球团状结构特性使盘片的表面不均匀,难以获得非常性使盘片的表面不均匀,难以获得非常光滑平整的表面光滑平整的表面,也就难以满足低飞行高度的要求,因此NiP/Al基板盘片很难用于20nm以下的飞行高度;由于铝铝材材料料刚刚性性不不强强,难以承受高速旋转时的较大作用力,盘盘片片厚厚度度难难以以进进一一步步降降低低,转转速速也也不不能能进进一一步步提提高高。(直径为65mm即2.5英寸的盘片典型厚度为0.635mm,存储密度为0.5Gb千兆字节/in2,若再进一步减小盘片厚度
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