模拟电子技术 CH5-1 场效应管放大电路.ppt
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1、N沟道沟道P沟道沟道增强型增强型耗尽型耗尽型N沟道沟道P沟道沟道N沟道沟道P沟道沟道(耗尽型)(耗尽型)FET场效应管场效应管JFET结型结型MOSFET绝缘栅型绝缘栅型分类:分类:回忆场效应管回忆场效应管FET5.场效应管放大电路场效应管放大电路增强型增强型MOSFET(以以N沟道为例)沟道为例)增强型增强型vGS=0时,时,iD=0;vGSVT时,时,iD0vGS 对对 iD 的控制作用的控制作用 vGSGS越大,导电沟道越厚越大,导电沟道越厚沟道电阻越小沟道电阻越小对于相同的对于相同的 VDS,iD越大越大vGS 对对 iD 有控制作用有控制作用(a)当当 vDS 较小时,较小时,导电沟
2、道呈斜坡型,导电沟道呈斜坡型,iD 随着随着 vDS 的增加而增加的增加而增加(b)当当vDS增加到增加到 vGD=vGS-vDS=VT,即即 vDS=vGS vT时时靠近靠近d点处的导电沟道预夹断点处的导电沟道预夹断 vDS 对对 iD 的影响的影响(vGS 固定固定为为 vGS VT 的某值时)的某值时)iD 不再随着不再随着 vDS 的增加而增加。的增加而增加。(c)预夹断后,预夹断后,vDS继续增加继续增加 输出特性输出特性 转移特性转移特性 输出特性输出特性 可变电阻区可变电阻区 vDS(vGSVT)由于由于vDS较小较小,可,可近似为近似为rdso是是一个受一个受vGS控制的可变电
3、阻控制的可变电阻 其中其中 Kn为为MOS管电导常数,管电导常数,单位:单位:mA/V2 输出特性输出特性 饱和区饱和区(恒流区又称放大区)(恒流区又称放大区)vDSDS(v vGSGSVT)由于 iD 不随 vDS 的变化而明显变化,得饱和区的转移特性表达式*耗尽型耗尽型MOSFETMOSFET的特性曲线的特性曲线 转移特性转移特性 在绝缘层中掺入了正离子,使vGS=0时,时,iD 0。vGS 0,增强增强正离子电场,正离子电场,iD增大;增大;vGS VT,否则工作在截止区否则工作在截止区说明工作在可变电阻区说明工作在可变电阻区即即假设工作在饱和区假设工作在饱和区满足满足假设成立,结果即为
4、所求。假设成立,结果即为所求。解:解:例例5.2.1:设设Rg1=60k,Rg2=40k,Rd=15k,试计算电路的静态漏极电流试计算电路的静态漏极电流IDQ和漏源和漏源电压电压VDSQ。VDD=5V,VT=1V,5.2.1 MOSFET放大电路放大电路1.直流偏置及静态工作点的计算直流偏置及静态工作点的计算(2)带源极电阻的)带源极电阻的NMOS共源极放大电路共源极放大电路饱和区饱和区需要验证是否满足需要验证是否满足例例5.2.2 MOS管的参数为管的参数为 电路参数为电路参数为 若流过若流过Rg1、Rg2的电流是的电流是ID的的1/10,试确定,试确定Rg1、Rg2的值。的值。设MOS管工
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