焦作平板显示靶材项目招商引资方案_范文.docx
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1、泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案目录目录第一章第一章 项目建设背景及必要性分析项目建设背景及必要性分析.7一、应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展.7二、国产替代+技术革新,高端靶材需求强劲.10三、项目实施的必要性.12第二章第二章 项目总论项目总论.13一、项目名称及建设性质.13二、项目承办单位.13三、项目定位及建设理由.14四、报告编制说明.15五、项目建设选址.17六、项目生产规模.18七、建筑物建设规模.18八、环境影响.18九、项目总投资及资金构成.18十、资金筹措方案.19十一、项目预期经济效益规划目标.19十二、项目建设进度规划.20
2、主要经济指标一览表.20第三章第三章 建设单位基本情况建设单位基本情况.23一、公司基本信息.23泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案二、公司简介.23三、公司竞争优势.24四、公司主要财务数据.25公司合并资产负债表主要数据.25公司合并利润表主要数据.25五、核心人员介绍.26六、经营宗旨.27七、公司发展规划.28第四章第四章 行业发展分析行业发展分析.30一、供给:日企占据国内市场主导地位,国产替代逐渐提速.30二、显示面板靶材市场规模预测.34第五章第五章 建设规模与产品方案建设规模与产品方案.36一、建设规模及主要建设内容.36二、产品规划方案及生产纲领.36产品规划方案一览
3、表.36第六章第六章 建筑工程方案分析建筑工程方案分析.38一、项目工程设计总体要求.38二、建设方案.38三、建筑工程建设指标.39建筑工程投资一览表.39第七章第七章 发展规划分析发展规划分析.41一、公司发展规划.41泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案二、保障措施.42第八章第八章 SWOT 分析说明分析说明.45一、优势分析(S).45二、劣势分析(W).46三、机会分析(O).47四、威胁分析(T).47第九章第九章 节能分析节能分析.53一、项目节能概述.53二、能源消费种类和数量分析.54能耗分析一览表.54三、项目节能措施.55四、节能综合评价.56第十章第十章 项目实
4、施进度计划项目实施进度计划.58一、项目进度安排.58项目实施进度计划一览表.58二、项目实施保障措施.59第十一章第十一章 劳动安全劳动安全.60一、编制依据.60二、防范措施.61三、预期效果评价.64第十二章第十二章 投资方案分析投资方案分析.66泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案一、投资估算的依据和说明.66二、建设投资估算.67建设投资估算表.71三、建设期利息.71建设期利息估算表.71固定资产投资估算表.73四、流动资金.73流动资金估算表.74五、项目总投资.75总投资及构成一览表.75六、资金筹措与投资计划.76项目投资计划与资金筹措一览表.76第十三章第十三章 项目
5、经济效益分析项目经济效益分析.78一、基本假设及基础参数选取.78二、经济评价财务测算.78营业收入、税金及附加和增值税估算表.78综合总成本费用估算表.80利润及利润分配表.82三、项目盈利能力分析.83项目投资现金流量表.84四、财务生存能力分析.86五、偿债能力分析.86借款还本付息计划表.87泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案六、经济评价结论.88第十四章第十四章 项目招标方案项目招标方案.89一、项目招标依据.89二、项目招标范围.89三、招标要求.89四、招标组织方式.92五、招标信息发布.94第十五章第十五章 项目总结分析项目总结分析.95第十六章第十六章 附表附件附表附
6、件.97营业收入、税金及附加和增值税估算表.97综合总成本费用估算表.97固定资产折旧费估算表.98无形资产和其他资产摊销估算表.99利润及利润分配表.100项目投资现金流量表.101借款还本付息计划表.102建设投资估算表.103建设投资估算表.103建设期利息估算表.104固定资产投资估算表.105流动资金估算表.106总投资及构成一览表.107泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案项目投资计划与资金筹措一览表.108泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案第一章第一章 项目建设背景及必要性分析项目建设背景及必要性分析一、应用趋势:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、应用趋势
7、:下游技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展高纯度化发展芯片制程工艺已经从 130nm 提升至 7nm,晶圆尺寸也已实现了 8 英寸到 12 英寸的转变,,对溅射靶材性能要求大幅提升。溅射靶材的技术发展趋势与下游应用领域的技术革新息息相关,随着应用市场在薄膜产品或元件上的技术进步,溅射靶材也需要随之变化,随着半导体技术的不断发展,集成电路中的晶体管和线宽的尺寸越来越小。芯片制程工艺已经从 130nm 提升至 7nm,与之对应的晶圆尺寸也已实现了 8英寸到 12 英寸的转变,此外台积电、三星等企业也正在加速推进更高端的芯片制程工艺研发与生产。为了满足现代芯片高精度、小尺寸的需求,对
8、电极和连接器件的布线金属薄膜的性能要求越来越高,这就对溅射靶材的性能提出了更高的要求。推动溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展。1、趋势 1:大尺寸大尺寸是靶材的重要发展方向,但随尺寸增加,靶材在晶粒晶向控制难度呈指数级增加,对技术要求就越高。晶圆尺寸越大,可利用效率越高。.12 英寸晶圆拥有较大的晶方使用面积,得以达到效率最佳泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案化,相对于 8 英寸晶圆而言,12 英寸的可使用面积超过两倍。大尺寸晶圆要求靶材也朝着大尺寸方向发展。2、趋势 2:多品种半导体芯片行业常用的金属溅射靶材主要种类包括:铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材,以及镍铂、钨钛等
9、合金类的溅射靶材,其中铝与铜为两大主流导线工艺。目前芯片生产所使用的主流工艺中同时存在铝和铜两种导线工艺,一般来说 110nm 晶圆技术节点以上使用铝导线,110nm 晶圆技术节点以下使用铜导线。钛靶和铝靶通常配合起来使用,常作为铝导线的阻挡层的薄膜材料,钽靶则配合铜靶使用,作为铜导线的阻挡层的薄膜材料。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线工艺的应用量在逐步增大,因此,铜和钽靶材的需求将有望持续增长。在晶圆制程选择上,从全球晶圆厂产能建设情况来看,12 寸晶圆厂是目前主流建设方向。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展,铜导线由于具有更低的电迁移效应,及更低的电阻,有降低功耗、提高运算速度等
10、作用,应用量在逐步增大。据 SEMI 数据显示,如今 12 英寸晶圆约占 64%,8英寸晶圆占比达 26%,其他尺寸晶圆占比 10%。12 英寸晶圆已经成为市场的主流。但传统的铝靶由于在可靠性和抗干扰性等方面的性能依然较为突出,也仍然具有巨大的市场空间。如汽车电子领域的芯片大量泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案使用铝钛材料的 110nm 以上工艺以确保可靠性。因此,芯片制程工艺的进步并不意味着原有制程工艺及其材料被淘汰,因可靠性、抗干扰性、低成本等优势,110nm 以上技术节点的芯片产品也具有巨大的市场空间。3、趋势 3:高纯化高纯度甚至超高纯度靶材是高端集成电路半导体芯片的必备材料,
11、通常半导体靶材纯度要求通常达 99.9995%(5N5)甚至 99.9999%(6N)以上。在下游应用领域中,半导体产业对溅射靶材和溅射薄膜的品质要求最高,随着更大尺寸的硅晶圆片制造出来,相应地要求溅射靶材也朝着大尺寸方向发展,同时也对溅射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。溅射薄膜的纯度与溅射靶材的纯度密切相关,为了满足半导体更高精度、更细小微米工艺的需求,所需要的溅射靶材纯度不断攀升,通常半导体靶材纯度要求通常达 99.9995%(5N5)甚至99.9999%(6N)以上。目前国内溅射靶材的高纯金属原料多数依靠日美进口。但部分企业在部分金属提纯方面已取得了重大突破。全球范围内,美、日等国凭
12、借着先发优势和技术专利壁垒,依托先进的提纯技术在产业链中居于十分有利的地位,议价能力强,国内溅射靶材的高纯金属原料多数泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案也依靠日美进口。但经过多年的靶材技术开发,近年来部分企业已在部分金属提纯方面已取得了重大突破,已开始逐步实现国产替代。二、国产替代国产替代+技术革新,高端靶材需求强劲技术革新,高端靶材需求强劲靶材主要用于平板显示器、半导体、光伏电池、记录媒体等领域。从需求来,靶材是制备功能薄膜的核心原材料,主要用于面板、半导体、光伏和磁记录媒体等领域,实现导电或阻挡等功能。2020 年全球靶材市场规模约 188 亿美元,我国靶材市场规模为 46 亿美元
13、。从供给来看,四家日美巨头占据 80%靶材市场,国内溅射靶材主要应用于中低端产品,国产替代需求强烈。产业转移加速靶材国产替代,技术革新推动铜钽需求提升。半导体芯片行业是对靶材的成分、组织和性能要求最高的领域,纯度要求通常达 5N5 甚至 6N 以上。随着半导体产业加速向国内转移,预计 25年我国半导体靶材市场规模将达到约 6.7 亿美元,21-25 年我国靶材需求增速或达 9.2%。同时随着下游芯片技术革新,溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展,其中铜、钽靶材需求增长前景较好。供给方面,日美厂商约占 90%份额,但有研等企业已在国产铜、铝等靶材取得突破,同时产能也在不断扩张,预计未来 2
14、-3 年我国半导体靶材将新增 10 万块以上产能。泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案国产替代+产品迭代,我国显示面板靶材需求有望持续高速。FDP靶材根据工艺,可分为溅射用靶材和蒸镀用靶材。其中溅射靶材主要为 Cu、Al、Mo 和 IGZO 等,纯度和技术要求仅次于半导体,一般在 4N甚至 5N 以上,但对靶材的焊接结合率、平整度等提出了更高要求。受益显示面板需求上涨和我国显示面板国产替代提升,预计 25 年我国FDP 靶材市场规模将达 50 亿美元,21-25 年 CAGR 为 18.9%。此外预计OLED 用钼靶与低电阻铜靶成长空间广阔。供给来看,我国显示面板靶材高度依赖进口,日企在
15、国内市场仍然占据主导地位,国内以隆华科技、江丰电子、阿石创、先导稀材、有研新材为主,国产替代正逐渐加速。Hit 量产元年开启,靶材或迎成长机遇期。光伏靶材的使用主要是薄膜电池和 HIT 光伏电池,纯度一般在 4N 以上。随着 HIT 电池和薄膜电池的发展,预计 25 年我国市场规模将接近 38 亿美元,21-25 年CAGR 为 56.1%。供给方面,由于国内薄膜电池及 HIT 电池市场规模尚小,相关靶材企业也较少,多处起步阶段,其中先导稀材、江丰电子等产能相对较大,此外隆华科技也已开始布局相关产业龙头。趋势难逆,磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。磁记录靶材则多以溅射法制作,常用材料为钴(
16、3N)/镍/铁合金/铬/碲、硒(4N)/稀土-迁移金属(3N)等,主要包括铬靶、镍靶、钴靶。我国泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案磁记录靶材市场以海外供应为主,中国生产磁记录靶材企业数量和产能非常有限。由于我国机械硬盘国产化水平极低,且记录媒体研发重心主要在半导体存储,预计传统机械键盘成长空间有限,磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。3DNAND 领域用钨、钛、铜、钽靶材需求增量较大。三、项目实施的必要性项目实施的必要性(一)提升公司核心竞争力项目的投资,引入资金的到位将改善公司的资产负债结构,补充流动资金将提高公司应对短期流动性压力的能力,降低公司财务费用水平,提升公司盈利能力,促
17、进公司的进一步发展。同时资金补充流动资金将为公司未来成为国际领先的产业服务商发展战略提供坚实支持,提高公司核心竞争力。泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案第二章第二章 项目总论项目总论一、项目名称及建设性质项目名称及建设性质(一)项目名称(一)项目名称焦作平板显示靶材项目(二)项目建设性质(二)项目建设性质本项目属于扩建项目二、项目承办单位项目承办单位(一)项目承办单位名称(一)项目承办单位名称xx 集团有限公司(二)项目联系人(二)项目联系人郭 xx(三)项目建设单位概况(三)项目建设单位概况经过多年的发展,公司拥有雄厚的技术实力,丰富的生产经营管理经验和可靠的产品质量保证体系,综合实
18、力进一步增强。公司将继续提升供应链构建与管理、新技术新工艺新材料应用研发。集团成立至今,始终坚持以人为本、质量第一、自主创新、持续改进,以技术领先求发展的方针。泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案公司不断建设和完善企业信息化服务平台,实施“互联网+”企业专项行动,推广适合企业需求的信息化产品和服务,促进互联网和信息技术在企业经营管理各个环节中的应用,业通过信息化提高效率和效益。搭建信息化服务平台,培育产业链,打造创新链,提升价值链,促进带动产业链上下游企业协同发展。公司满怀信心,发扬“正直、诚信、务实、创新”的企业精神和“追求卓越,回报社会”的企业宗旨,以优良的产品服务、可靠的质量、一流
19、的服务为客户提供更多更好的优质产品及服务。公司依据公司法等法律法规、规范性文件及公司章程的有关规定,制定并由股东大会审议通过了董事会议事规则,董事会议事规则对董事会的职权、召集、提案、出席、议事、表决、决议及会议记录等进行了规范。三、项目定位及建设理由项目定位及建设理由蒸镀用靶材一般为 Ag 和 Mg 两种金属。Ag 和 Mg 合金一般用于小尺寸 OLED 面板产线中的阴极制作。除此以外,Ag 也可以作为顶发射OLED 器件中的阳极反射层使用。其中薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)是当前的主流平面显示技术,金属溅射靶材则是制造 TFT-LCD 过程中最关键的材料之一。薄膜晶体管液晶显示器
20、(TFT-LCD)具有轻薄、功耗低、成本低等优点,目前 TFT-LCD 大约占 80%以上的显示面板市场泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案份额。这类显示面板是由大量的液晶显示单元阵列组成(如 4K 分辨率的屏幕含有 800 多万个显示单元阵列),而每一个液晶显示单元,都由一个单独的薄膜晶体管(TFT)所控制和驱动。统筹推进“五位一体”总体布局,协调推进“四个全面”战略布局,坚定不移贯彻新发展理念,坚持稳中求进工作总基调,以建设全面体现新发展理念示范城市为引领,以推动高质量发展为主题,以深化供给侧结构性改革为主线,以改革开放创新为根本动力,以满足人民日益增长的美好生活需要为根本目的,统筹
21、发展和安全,加快建设现代经济体系,全面融入新发展格局,着力推进治理体系和治理能力现代化,以党建高质量推动发展高质量,全力打造“四城四区”,加快建设精致城市品质焦作,确保全面建设社会主义现代化焦作开好局、起好步,争当河南在中部地区崛起中奋勇争先的主力军,谱写新时代在中原更加出彩中出重彩更精彩的绚丽篇章。四、报告编制说明报告编制说明(一)报告编制依据(一)报告编制依据1、国民经济和社会发展第十三个五年计划纲要;2、投资项目可行性研究指南;3、相关财务制度、会计制度;4、投资项目可行性研究指南;泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案5、可行性研究开始前已经形成的工作成果及文件;6、根据项目需要进
22、行调查和收集的设计基础资料;7、可行性研究与项目评价;8、建设项目经济评价方法与参数;9、项目建设单位提供的有关本项目的各种技术资料、项目方案及基础材料。(二)报告编制原则(二)报告编制原则坚持以经济效益为中心,社会效益和不境效益为重点指导思想,以技术先进、经济可行为原则,立足本地、面向全国、着眼未来,实现企业高质量、可持续发展。1、优化规划方案,尽可能减少工程项目的投资额,以求得最好的经济效益。2、结合厂址和装置特点,总图布置力求做到布置紧凑,流程顺畅,操作方便,尽量减少用地。3、在工艺路线及公用工程的技术方案选择上,既要考虑先进性,又要确保技术成熟可靠,做到先进、可靠、合理、经济。4、结合
23、当地有利条件,因地制宜,充分利用当地资源。5、根据市场预测和当地情况制定产品方向,做到产品方案合理。泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案6、依据环保法规,做到清洁生产,工程建设实现“三同时”,将环境污染降低到最低程度。7、严格执行国家和地方劳动安全、企业卫生、消防抗震等有关法规、标准和规范。做到清洁生产、安全生产、文明生产。(二)(二)报告主要内容报告主要内容依据国家产业发展政策和有关部门的行业发展规划以及项目承办单位的实际情况,按照项目的建设要求,对项目的实施在技术、经济、社会和环境保护等领域的科学性、合理性和可行性进行研究论证。研究、分析和预测国内外市场供需情况与建设规模,并提出主要
24、技术经济指标,对项目能否实施做出一个比较科学的评价,其主要内容包括如下几个方面:1、确定建设条件与项目选址。2、确定企业组织机构及劳动定员。3、项目实施进度建议。4、分析技术、经济、投资估算和资金筹措情况。5、预测项目的经济效益和社会效益及国民经济评价。五、项目建设选址项目建设选址泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案本期项目选址位于 xx(以最终选址方案为准),占地面积约57.00 亩。项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设。六、项目生产规模项目生产规模项目建成后,形成年产 xx 吨平板显示靶材的生产能力。七、建筑物建设规模
25、建筑物建设规模本期项目建筑面积 67078.84,其中:生产工程 42397.74,仓储工程 12427.25,行政办公及生活服务设施 7801.01,公共工程 4452.84。八、环境影响环境影响该项目投入运营后产生废气、废水、噪声和固体废物等污染物,对周围环境空气的影响较小。各类污染物均得到了有效的处理和处置。该项目的生产工艺、产品、污染物产生、治理及排放情况符合国家关于清洁生产的要求,所采取的污染防治措施从经济及技术上可行。九、项目总投资及资金构成项目总投资及资金构成(一)项目总投资构成分析(一)项目总投资构成分析泓域咨询/焦作平板显示靶材项目招商引资方案本期项目总投资包括建设投资、建设
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