第三章晶体管的开关特性与击穿电压ppt课件.ppt
《第三章晶体管的开关特性与击穿电压ppt课件.ppt》由会员分享,可在线阅读,更多相关《第三章晶体管的开关特性与击穿电压ppt课件.ppt(32页珍藏版)》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。
1、Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么晶体管的开关特性晶体管的开关特性晶体管的击穿特性晶体管的击穿特性3.10、3.11、3.12Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么一一 开关波形和开关时间的定义开关波形和开关时间的定义1理想晶体管的开关波形晶体管开关电路理想晶体管的输入和输出脉冲波形当输入端为脉冲波形时,在理想的情况下,输出波形和输入
2、波形完全相仿,只是被放大和倒相。饱和压降Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么晶体管处于开关状态往返于饱和(开)和截止(关)区Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么2实际晶体管的开关波形与开关时间输入电压波形基极电流波形集电极电流波形输出电压波形 延迟时间 上升时间 贮存时间 下降时间0.1 ICS0.9 ICS晶体管的开关时间:晶体管的
3、开关时间:1、开启时间2、关闭时间0.9 ICS开启时间和关闭时间大致在几纳秒到几十微秒范围内。Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么1、当输入负脉冲的持续时间及其周期比开关时间大得多时,晶体管能很好地起开关作用开关时间对脉冲波形的影响2、当输入负脉冲(关断晶体管)的持续时间及其周期和开关时间相近,甚至比开关时间更小时,那么在晶体管关断过程中(下降过程),输出电压尚未上升到高电平(晶体管还没有彻底关断)时,第二个高电平脉冲就来了晶体管又开始导通了,晶体管就失去了开关
4、作用。由于晶体管的开关速度的限制,输入脉冲的宽度不能太窄,频率不能太高。Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么二二 开关过程和影响开关时间的因素开关过程和影响开关时间的因素1延迟过程和延迟时间 td发射结保持负偏压或零偏压的状态发射结的偏压变正,有电子入注入到基区发射结正向电压上升到0.5V,正向电流很小集电极电流接近1/10ICS开启之前,处于截止态,发射结和集电结反偏。这一段时间就是延迟时间 tdPhysics of Semiconductor Devices在
5、日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么2上升过程和上升时间 tr发射结偏压继续上升,从0.5V变到0.7V左右注入到基区的电子增多,电子的浓度梯度增大,集电极电流增大 0.9 ICS 集电结的负偏压逐渐减小,一直减小到零偏压附近。当 IC=ICS 晶体管进入临界饱和区上升过程,基极电流作用:增加基区电荷积累,增大基区少子分布梯度使集电极电流上升;继续对发射结集电结势垒电容充电,使结的压降继续上升结压降上升又使基区电荷积累增加,如此循环使集电极电流不断增加;补充基区中因复合而损失的空穴。浓度梯度不再变化Physics of Semi
6、conductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么3贮存电荷和贮存时间 ts处于过驱动状态,基极驱动电流很大超量存储电荷空穴 Qb保持电中性,基区中也要有等量的电子电荷积累Qb集电结处于正偏,集电区将向基区注入电子真正进入了饱和区,达到稳定状态集电结正偏集电结零偏超量存储电荷空穴积累进入深饱和区基区注入空穴与复合减少的空穴相等时,基区积累电荷不再变化超量存储电荷基区也将向集电区注入空穴Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到
7、自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么基极电压突然变负,在基极产生了抽取电流抽取贮存电荷Qb Qc的作用(全部抽走以前,基区中的电子浓度梯度不会减小)贮存电荷被全部抽走贮存时间(还应加上从 ICS 下降到0.9 ICS 所需的时间,才是贮存时间)Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么4下降过程和下降时间 tf基区中还存在积累电荷 QbIB 继续从基区中抽取空穴,并且基区中积累的电子和空穴不断地复合电子和空穴的浓度梯度减小集电极电流就从 ICS 开始下降至 0.
8、1 ICS 电子浓度变化趋势积累电荷消失电子和空穴复合对上升和下降过程的作用不同。?Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么二二 晶体管的反向击穿电压晶体管的反向击穿电压1 1 集电极基极反向击穿电压(发射极开路):集电极基极反向击穿电压(发射极开路):BVCBO当反向电流得到规定的反向电流时所对应的电压即为BVCBO。软击穿时BVCBO比雪崩击穿电压VB低;硬击穿特性情况,BVCBO由VB决定。软击穿硬击穿(共基极连接)即:集电极基极之间容许的最高反向偏压BVCBO
9、VBVCBPhysics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么对于共基极电路,其雪崩倍增因子为:在BVCB0处,IC突然增加,集电极电流与发射极电流的关系为:Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么1、软击穿(电压击穿)是可恢复的击穿,硬击穿(电流击穿)是不可恢复的击穿。无论是软击穿还是硬击穿都是在瞬间形成的,一般很难测量,击穿的过程是先软击穿再硬击穿,
10、在软击穿(电压击穿)的一瞬间反向电阻值减小,在高反压情况下电流会急剧增加导致硬性击穿(电流击穿),它是个连锁反应。所以我们一般看到的击穿一般都是硬性击穿。2、测量方法是用高电压大内阻的电源测量,当管子处于软击穿状态下由于电源内阻大所以输出的电流很小,这样就不能导致电流击穿。这是管子两端的电压就是软击穿电压,用两端电压除以电流值就能得到软击穿电阻值。3、软击穿比硬击穿带来的危害更大,产生较大漏流。造成器件的性能劣化或参数指标下降。Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么
11、2 2 集电极发射极反向击穿电压(基极开路):集电极发射极反向击穿电压(基极开路):BVCEO基极开路,电流ICEO随电压增加而增加,当反向电流达到规定的反向电流时所对应的电压即为BVCEO。在软击穿时,实测的BVCEO 比ICEO趋近无穷大时所对应的电压小很多。Physics of Semiconductor Devices在日常生活中,随处都可以看到浪费粮食的现象。也许你并未意识到自己在浪费,也许你认为浪费这一点点算不了什么由于:由于:当Ma=1时,电流增益变为为穷。由于非常接近于1,当M不需要比1大很多时就能满足共发射极击穿条件M=1/a,且令VCB=BVCE0对于硅n的数值在24,在h
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 第三 晶体管 开关 特性 击穿 电压 ppt 课件
限制150内