第六章光波导理论及器件PPT讲稿.ppt

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1、第六章光波导理论及第六章光波导理论及器件器件第1页，共55页，编辑于2022年，星期三光波导的概念光波导的概念l光纤、平面薄膜、窄条l对光辐射实施限制和传输的技术l研究方法：射线理论、电磁场理论l研究内容：光波导中光的传播行为、传导模式、传输特性2第2页，共55页，编辑于2022年，星期三平板波导平板波导射线光学：直观、近似光线在介质界面发生反射和折射 发生全反射光被限制在第1介质内，全反射可用于限制光的传输3电磁理论：复杂、完善第3页，共55页，编辑于2022年，星期三平板波导平板波导4覆盖层涂层基质l覆盖层：通常为空气，l涂层：介质薄膜，mm量级，也称薄膜波导l基质：玻璃对称平板波导非对称

2、平板波导空气第4页，共55页，编辑于2022年，星期三l平板波导结构中可能存在的几种波的模式5辐射波（辐射模）基质辐射波（基质模）传导波（传导模）第5页，共55页，编辑于2022年，星期三平板介质波导中的导波平板介质波导中的导波x：横向约束y：均匀z：传播 引入 沿z方向的传播常数 则 6导波有效折射率Nz方向最大传播常数第6页，共55页，编辑于2022年，星期三TE与与TM7TE模（纵向电场分量为0）TM模（纵向磁场分量为0）第7页，共55页，编辑于2022年，星期三古斯古斯-汉森位移和波导层的有效厚汉森位移和波导层的有效厚度度-波导中的光能流问题波导中的光能流问题有效波导层厚度8全反射：反

3、射率为1，没有能流进入基质。实际上，存在倏逝波，沿x方向迅速衰减，z方向存在位移。第8页，共55页，编辑于2022年，星期三平板波导的电磁理论基础平板波导的电磁理论基础l对光学现象的完善描述需借助电磁理论分析l不存在自由电荷和传导电流时l直角坐标系中l若麦克斯韦方程组具有随时间周期变化的解，可表示为9复共轭第9页，共55页，编辑于2022年，星期三l介质中 同时10没有自由电荷和传导电流时电磁空间分量的麦克斯韦方程组=第10页，共55页，编辑于2022年，星期三l平板波导中的麦克斯韦方程组导波沿z传播，则横向分量波导y方向无限大，不受限制，E、H在y方向不变，则11没有自由电荷和传导电流，无其

4、它条件第11页，共55页，编辑于2022年，星期三12第12页，共55页，编辑于2022年，星期三TE波：只存在电场横向分量令则TE波中，仅剩 且TE波中的所有电磁分量均由 决定，满足常系数二阶微分方程对于平板波导的三个层13同样波导层-E在x方向周期变化-实数基质层-E在x方向衰减-虚数覆盖层-E在x方向衰减-虚数第13页，共55页，编辑于2022年，星期三从而各层中 场不能无限大，故14第14页，共55页，编辑于2022年，星期三l三层中三个分量的表达式全部获得，利用了横电特性 及三层介质中光传播特性需求解A、B、A2、A3系数，利用边界条件电场磁场只剩下A，设x=0处，Ey(0)=E01

5、5边界面上，电磁场切向分量连续第15页，共55页，编辑于2022年，星期三各层的全部非0场分量为：基底层（x-d）：波导层（-d x0）：16第16页，共55页，编辑于2022年，星期三lTE波的模和截止条件根据x=-d处连续条件方程的解为一组值，对应于TE波的本征模。17介质波导本征值方程：关于传播常数的超越方程正整数模数第17页，共55页，编辑于2022年，星期三对称波导：18对称模反对称模图中圆弧半径由光波传播常数即频率决定：0半径/2:单个解，对称模/2 半径:两个解，对称模，反对称模 半径3/2:三个解，两对称模，一反对称模第18页，共55页，编辑于2022年，星期三19低频区（大，

6、k小）：单模，关于-d/2对称，电场在波导层内余弦变化，波导层外指数衰减，至少单模。频率升高：场向波导层中央集中，一定程度时出现反对称解，形成双模传播。对称单模传播对称、反对称双模传播第19页，共55页，编辑于2022年，星期三小结小结20倏逝波倏逝波传导行波第20页，共55页，编辑于2022年，星期三l截止条件临界条件时，发生全反射，对应截止条件，对称模反对称模所有模截止条件为：实际上截止条件时：21波导的V值判断导波模数，允许v+1个模第21页，共55页，编辑于2022年，星期三光波导的模式光波导的模式22?光ABCD单模多模第22页，共55页，编辑于2022年，星期三例1、例2、23存在

7、2个导波模，v=0，1第23页，共55页，编辑于2022年，星期三导波模性质导波模性质l不同模不同模正交性正交性 两个不同模的乘积在波导横截面内的两个不同模的乘积在波导横截面内的积分为积分为0 024第24页，共55页，编辑于2022年，星期三导波模性质导波模性质l波导模场分量波导模场分量可归一化可归一化，对同一个模，对同一个模 l正交归一性使任意横向场可展开为模场分量叠加正交归一性使任意横向场可展开为模场分量叠加的形式的形式25第25页，共55页，编辑于2022年，星期三导波模性质导波模性质l沿沿z z正方向行进的导波模所携带的能量密度正方向行进的导波模所携带的能量密度其中其中26第26页，

8、共55页，编辑于2022年，星期三通道光波导通道光波导27第27页，共55页，编辑于2022年，星期三通道波导的描述通道波导的描述l矢量波方程导波在两个方向受限，因此必须考虑电场磁场分量的矢量特性l标量近似28第28页，共55页，编辑于2022年，星期三标量方程的解法标量方程的解法l场屏蔽法29第29页，共55页，编辑于2022年，星期三l等效折射率法标量方程的解法标量方程的解法30横截面结构等效平板波导第30页，共55页，编辑于2022年，星期三设计软件设计软件lFDTD：时域有限差分方法（Finite Difference Time Domain）。把 Maxwell 方程式在时间和空间领

9、域上进行差分化。利用蛙跳式(Leap frog algorithm)-空间领域内的电场和磁场进行交替计算，通过时间领域上更新来模仿电磁场的变化，达到数值计算的目的。用该方法分析问题的时候要考虑研究对象的几何参数，材料参数，计算精度，计算复杂度，计算稳定性等多方面的问题。其优点是能够直接模拟场的分布，精度比较高，是目前使用比较多的数值模拟的方法之一。31第31页，共55页，编辑于2022年，星期三设计软件设计软件l光束传播法：光束传播法（Beam Propagation Method，BPM）的基本思想是在给定初始场的前提下，一步一步地计算出各个传播截面上的场。l最早的BPM是以快速傅里叶变换(

10、Fast-Fourier Transform，称FFT)为数学手段实现的，称为FFT-BPM。FFT-BPM 源于标量波方程，只能得到标量场(即只能处理一个偏振分量)，不能分辨出场的不同偏振以及场之间的耦合。同时它所采用的网格是均匀网格，在处理楔形、弯曲波导时不是很适合。由于上述缺点，D.Yevick等人于1989年提出有限差分光束传播法，它将波导截面分成很多方格，在每一个格内的场用差分方程来表示，然后加入边界条件，就可得到整个横截面的场分布。沿纵向重复前面的步骤，就可得到整个波导的场分布。这种方法已被成功地应用于分析Y型波导及S型弯曲波导中的光波传输，且对损耗的计算也得到了准确的结果32第3

11、2页，共55页，编辑于2022年，星期三光子晶体波导光子晶体波导l光子晶体：周期性结构的介质材料33第33页，共55页，编辑于2022年，星期三1D:布拉格反射器 2D:硅柱晶体 3D:胶质晶体第34页，共55页，编辑于2022年，星期三二维光子晶体波导二维光子晶体波导3590度转折二维光子晶体波导线性二维光子晶体波导第35页，共55页，编辑于2022年，星期三光子晶体波导Joannopoulos et al.第36页，共55页，编辑于2022年，星期三光子晶体光纤光子晶体光纤37第37页，共55页，编辑于2022年，星期三38阵列波导光栅阵列波导光栅：（1）输出波导，（2）平板波导，（3）通

12、道波导，（4）平板波导，（5）输出波导光纤中光的传输光纤中光的传输光子晶体中光的传输光子晶体中光的传输第38页，共55页，编辑于2022年，星期三6.3 光波导器件光波导器件l波导制造过程l典型光波导器件39第39页，共55页，编辑于2022年，星期三波导制造过程概述波导制造过程概述l采用类似集成电路的制造技术，将光波导、光电二极管、半导体激光器等集成在同一块儿芯片上。40基片波导涂层光刻胶涂层掩模曝光去除光刻胶波导层刻蚀波导层刻蚀下一层微米量级，洁净室第40页，共55页，编辑于2022年，星期三41第41页，共55页，编辑于2022年，星期三基片制备基片制备l玻璃镀膜：磁控溅射、真空蒸发、化

13、学气相沉积、溶胶凝胶。l晶体：结晶基片（刚玉）上生长，需籽晶。熔融物液体晶片固体，如硅片在单晶炉中提拉生长，控制温度、转速、籽晶提拉速度l半导体材料：GaAs，控制气压、温度。l晶体定向：X射线42玻璃绝缘晶体半导体材料被动光学光发射电光装置第42页，共55页，编辑于2022年，星期三波导膜沉积波导膜沉积l沉积：基片表面形成1um介质或金属膜43第43页，共55页，编辑于2022年，星期三波导膜沉积波导膜沉积l非真空镀膜44第44页，共55页，编辑于2022年，星期三波导膜生长波导膜生长45l将基片作为有序生长的模板，使膜与基片参数匹配。金属有机化学气相沉积系统（MOVPE）蓝光LED第45页

14、，共55页，编辑于2022年，星期三材料改性材料改性l扩散：基片与掺杂材料直接接触，加热扩散，基片原子只能振动。l离子交换与质子交换：离子或质子相互交换l离子注入：离子通过高电压加速，打入基片46第46页，共55页，编辑于2022年，星期三刻蚀刻蚀l湿法刻蚀l溅射法：物理过程，被刻蚀材料的原子受到离子的轰击而从材料表面发射。l化学刻蚀：化学过程，利用等离子体中的化学活性院子团与备课时材料发生化学反应，实现刻蚀目的。各向同性l物理化学刻蚀-反应离子刻蚀，高密度等离子体刻蚀：物理化学过程，通过活性离子对衬底的物理轰击和化学反应双重作用刻蚀，同时兼有各向异性和选择性。47第47页，共55页，编辑于2

15、022年，星期三金属板印刷金属板印刷l掩模板制备l印刷拷贝主板48第48页，共55页，编辑于2022年，星期三相位调制器相位调制器49铌酸锂、钽酸锂：电场引起折射率变化Kaminow,et al.(1975)第49页，共55页，编辑于2022年，星期三方向耦合器方向耦合器50由一对相距很近的相同条形波导组成，倏逝波重叠第50页，共55页，编辑于2022年，星期三方向耦合器方向耦合器51第51页，共55页，编辑于2022年，星期三方向耦合器方向耦合器52方向耦合器电场/光轴光偏振/光轴第52页，共55页，编辑于2022年，星期三方向耦合器方向耦合器53电极分离方向耦合器第53页，共55页，编辑于2022年，星期三平衡桥干涉仪平衡桥干涉仪54第54页，共55页，编辑于2022年，星期三平衡桥干涉仪平衡桥干涉仪55第55页，共55页，编辑于2022年，星期三