Chapter 4场效应管放大电路.ppt
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1、场效应管放大电路场效应管放大电路Chapter 4Chapter 4Chapter 4Chapter 41Chapter 4主要内容主要内容场效应晶体管场效应晶体管场效应管放大电路场效应管放大电路2Chapter 44.1 场效应晶体管场效应晶体管结型场效应三极管(结型场效应三极管(JFETJFET)绝缘栅场效应三极管(绝缘栅场效应三极管(MOSFETMOSFET)场效应三极管的参数场效应三极管的参数讨论的问题:讨论的问题:场效应管是通过什么方式来控场效应管是通过什么方式来控制漏极电流的?制漏极电流的?3Chapter 4 场效应管(场效应管(Fiedl Effect TransistorFE
2、T)是是利用利用电场效应来控制电场效应来控制的有源器件,它不仅兼有一的有源器件,它不仅兼有一般半导体管体积小、重量轻、耗电省、寿命长的般半导体管体积小、重量轻、耗电省、寿命长的特点,还具有输入电阻高(特点,还具有输入电阻高(MOSFET最高可达最高可达1015)、噪声系数低、热稳定性好、工作频率高、)、噪声系数低、热稳定性好、工作频率高、抗辐射能力强、制造工艺简单等优点。在近代大抗辐射能力强、制造工艺简单等优点。在近代大规模和超大规模集成电路以及微波毫米波电路中规模和超大规模集成电路以及微波毫米波电路中得到广泛应用。得到广泛应用。按结构,场效应管可分两大类:按结构,场效应管可分两大类:结型场效
3、应管(结型场效应管(JFET)绝缘栅型场效应管(绝缘栅型场效应管(IGFET)4Chapter 44.1.14.1.1结型场效应三极管(结型场效应三极管(JFETJFET)1、结型场效应三极管的结构、结型场效应三极管的结构 在在N型半导体硅片两侧型半导体硅片两侧扩散高浓度的扩散高浓度的P型区,形成型区,形成两个两个PN结夹着一个结夹着一个N型沟型沟道的结构。道的结构。两个两个P区连在一起构成区连在一起构成栅栅极极,N型硅的一端是型硅的一端是漏极漏极,另一端是另一端是源极源极。5Chapter 4NvGSvDSDSGiDP+P+2、JFET的工作原理的工作原理 vDS=0,|vGS|增大,增大,
4、导电沟道变窄,沟道电阻导电沟道变窄,沟道电阻增大。增大。沟道完全夹断时沟道完全夹断时vGS=VP(VGS(off),称夹断电),称夹断电压。压。现以现以N沟道为例说明其沟道为例说明其工作原理工作原理。1、vGS对对iD的控制的控制控制导电沟道宽窄控制导电沟道宽窄若若vDS为一固定值,则为一固定值,则iD将受将受vGS的控制的控制。6Chapter 4vGS=0,vDS增加沿沟道增加沿沟道将产生一电位梯度,导将产生一电位梯度,导电沟道呈楔型,电沟道呈楔型,iD与与 vDS近似成正比。近似成正比。NvGSvDSDSGiDP+P+预夹断后,随预夹断后,随vDS增加,夹增加,夹断长度略有增加,断长度略
5、有增加,iD几乎几乎不随不随vDS增加而上升增加而上升。结论:结论:JFET是电压控制电流器件。是电压控制电流器件。2、vDS对对iD的影响的影响当两楔型相遇时,称预夹断。当两楔型相遇时,称预夹断。此时此时vGD=vGS vDS=VPiD=IDSS饱和漏极电流饱和漏极电流7Chapter 43、JFET的特性曲线的特性曲线(1)输出特性曲线。)输出特性曲线。+vGSvDSiD+SGD以以vGS为参变量,为参变量,iD与与vDS的关系的关系 在恒流区或饱和区,在恒流区或饱和区,iD受受vGS的控制,用作的控制,用作放大电路的工作区域,放大电路的工作区域,也称线性放大区。也称线性放大区。输出特性曲
6、线输出特性曲线8Chapter 4(2)转移特性曲线)转移特性曲线 以以vDS为参变量,为参变量,iD与与vGS的关系,描的关系,描述了输入电压对输出电流的控制作用。述了输入电压对输出电流的控制作用。转移特性曲线转移特性曲线+vGSvDSiD+SGD9Chapter 4实验表明:在实验表明:在VPv GS0范围范围(恒流区恒流区)内,内,iD与与vGS间间呈平方律关系,即呈平方律关系,即为什么不讨论为什么不讨论JFET的输的输入特性?入特性?栅栅-源间的源间的PN结是反偏结是反偏的,故输入端的电流近似的,故输入端的电流近似为零。为零。10Chapter 44.1.2 4.1.2 绝缘栅场效应三
7、极管绝缘栅场效应三极管N沟道增强型沟道增强型MOSFETN沟道耗尽型沟道耗尽型MOSFETP沟道耗尽型沟道耗尽型MOSFET各类各类FET的伏安特性曲线的伏安特性曲线11Chapter 4 绝缘栅型场效应管中应用最多的是以二氧化硅绝缘栅型场效应管中应用最多的是以二氧化硅作为金属(铝)栅极和半导体之间绝缘层作为金属(铝)栅极和半导体之间绝缘层,又称,又称金属金属-氧化物氧化物-半导体场效应管,简称半导体场效应管,简称MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor FET)。MOSFET可分为可分为增强型增强型 N沟道、沟道、P沟道沟道耗尽型耗尽型 N沟道、沟道、P沟道沟道12C
8、hapter 4结构结构1)结构)结构 N沟道增强型沟道增强型MOSFET在在P型半导型半导体上生成一层体上生成一层SiO2 薄膜绝缘层,然后薄膜绝缘层,然后用光刻工艺扩散两用光刻工艺扩散两个高掺杂的个高掺杂的N型区。型区。栅极栅极G源极源极S漏极漏极D衬底衬底B1、N沟道增强型沟道增强型MOSFET13Chapter 4 栅源电压栅源电压vGS的控制作用的控制作用形成形成导电沟道导电沟道 正电压正电压vGS产生的反型层把产生的反型层把漏漏-源连接起来,形成宽度均源连接起来,形成宽度均匀的导电匀的导电N沟道,自由电子是沟道,自由电子是沟道内的主要载流子。沟道内的主要载流子。反型层刚形成时,对应
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