《薄膜光学与技术》2012期末考试试题A-答案.pdf
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1、2012-20132012-2013 学年第学年第 1 1 学期薄膜光学与技术期末考试试题(学期薄膜光学与技术期末考试试题(A A 卷)卷)参考答案及评分标准参考答案及评分标准一、填空题(每空 1 分,共 24 分)1、在折射率为 3.5 的基底表面镀单层减反射膜,对于 4000nm 的光波,理论上能达到最佳减反射效果的薄膜折射率为:1。8708,需要镀制的薄膜光学厚度为1000nm。2、若薄膜的折射率为 n,光线在薄膜内的折射角为,则 s、p 光的修正导纳分别为ncos、n/cos。3、对于波长为 的光来说,单层膜的光学厚度每增加/4,薄膜的反射率就会出现一次极值变化。当薄膜的折射率小于基底
2、折射率时,出现的第一个反射率极值是极小(极大、极小)值。4、虚设层的形成条件是:薄膜的光学厚度等于半波长的整数倍。s5、周期性对称膜系(pqp)的等效折射率和基本周期/pqp的等效折射率完全相同,其等效位相厚度等于基本周期的 s 倍。6、折射率为 n1,光学厚度为 0/4,基底的折射率为 ns,那么,该单层膜与基底的组合导纳为:Yn12ns7、介质高反射膜的波数宽度仅与两种膜料的 折射率 有关,折射率 差值越大,高反射带越宽.8、热偶真空规是通过测量温度达到间接测量真空的目的。9、镀膜室内真空度高表明气体压强小,真空度低则气体压强大。10、薄膜几何厚度的监控通常用石英晶振膜厚仪来实现,光学厚度
3、常常采用光电膜厚仪来监控。11、采用PVD 技术制造薄膜器件时,薄膜折射率的误差主要来自三个方面:膜层的聚集密度、膜层的微观组织物理结构、膜层的化学成分。12、改善膜层厚度均匀性的措施包括旋转夹具和膜层厚度调节板。13、采用光电极值法监控膜厚,如果需要镀制光学厚度为900nm 的薄膜,在500-700nm 范围内,可以选取的监控波长为600和514。3nm.1二、辨析题:先回答以下说法是否正确?然后说明理由或修改正确。(15 分)说明:以上各题判断正确1 分,原因叙述正确或修改正确 2 分(对于正确的表述,可以不说明原因)。叙述不完全的根据实际情况酌情给分。21、膜层的有效位相厚度表示为:nd
4、 cos,当光波斜入射时,对于s 光和 p光而言,要分别代入修正后的折射率值进行运算。2答:错误。膜层的有效位相厚度表示为:,当光波斜入射时,无论nd cos对于 s 光和 p 光而言,折射率值均是同一个值。2、介质高反射膜无论入射角下多大,其 s 偏振和 p 偏振光所对应的带宽都是相同的.答:错误。介质高反射膜在垂直入射条件下,s 偏振和 p 偏振光所对应的带宽都是相同的;而在斜入射条件下,由于 s 偏振和 p 偏振光的修正导纳不同,从而导致其带宽也不同,此时,s 偏振光所对应的带宽大于 p 偏振光所对应的带宽。3、测量镀膜样片的透射率时,将镀膜面向着光源和背对光源测得的结果相同。答:正确。
5、透射率测量与测量方向无关,无论膜层是否存在吸收。4、膜系 G/M2HLHLHL/A 中,低折射率膜层的几何厚度均为04。答:错误.膜系中,低折射率膜层的光学厚度均为04,而不是几何厚度。5、PVD 真空镀膜机的真空系统,一般需要一台扩散泵就可以完成抽气过程。答:错误.要达到 PVD 镀膜的真空度,一般需要机械泵(低真空泵)和扩散泵(高真空泵)组合抽气才能达到。三、问答题(每题 7 分,共 21 分)1、什么是单层介质膜层反射率的双重周期性?其周期性的主要特点有哪些?答:单层介质膜的反射率会随着薄膜位相厚度的变化而呈现周期性变化(2 分);当膜厚确定后,随着光波波长的变化,反射率会随之发生周期性
6、变化(2 分)。随厚度变化的周期呈现间隔相等,而随波长变化的周期不等,波长越大,周期越长.如2将波长转化为光波频率,则随频率不同,反射率的周期是等间隔的(1 分)。说明:周期性每正确一点 2 分,特点回答正确 1 分。2、在镀膜前与镀膜过程中,常常需要进行离子束轰击,在这两个过程中,离子束辅助的作用是什么?答:镀膜前的离子轰击:用离子束轰击将要镀膜的零件表面(取代低真空离子轰击),既起到清洗被镀表面、活化表面的作用,又压缩了离子轰击的时间,更重要的是使离子轰击的作用得到了最大程度的发挥。(2 分)镀中轰击:溅射突出岛,消除阴影效应,破坏柱状结构,形成均匀填充生长(2分);膜层受到轰击获得能量,
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