《材料的制备》PPT课件.ppt
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1、第四章材料的制备材料制备的目的材料制备的目的1)为为了了获获得某些特殊的性能而制得某些特殊的性能而制备备一系列材料一系列材料2)为为研究材料研究材料结结构与性能之构与性能之间间的关系而制的关系而制备备一系列材料一系列材料3)制)制备备一系列新种一系列新种类类的材料的材料4)制)制备备一系列特殊一系列特殊规规格的材料格的材料 化学合成与材料化学合成与材料化学合成是材料制备的基础,并非材料制备的全部。化学合成是材料制备的基础,并非材料制备的全部。材料制备不是通常所说的化学合成或化学制备,是一个极材料制备不是通常所说的化学合成或化学制备,是一个极其复杂的化学和物理的综合变化过程。其复杂的化学和物理的
2、综合变化过程。材料制备是一项横跨化学学科和物理学科的制备技术。材料制备是一项横跨化学学科和物理学科的制备技术。材料合成是指使原子、分子结合而构成材料的化学与物理是指使原子、分子结合而构成材料的化学与物理过程。合成的研究既包括有关寻找新合成方法的过程。合成的研究既包括有关寻找新合成方法的科学问题,也包括合成材料的技术问题;既包括科学问题,也包括合成材料的技术问题;既包括新材料的合成,也包括已有材料的新合成方法及新材料的合成,也包括已有材料的新合成方法及其新形态(如纤维、薄膜)的合成。其新形态(如纤维、薄膜)的合成。材料制备研究如何控制原子与分子,使之构成有用的材料。这一点研究如何控制原子与分子,
3、使之构成有用的材料。这一点是与合成相同的,但制备还包括在更为宏观的尺度上或以是与合成相同的,但制备还包括在更为宏观的尺度上或以更大的规模控制材料的结构,使之具备所需的性能和使用更大的规模控制材料的结构,使之具备所需的性能和使用效能,即包括材料的加工、处理、装配和制造。效能,即包括材料的加工、处理、装配和制造。简而言之,合成与制备就是将原子、分子聚合起来并最终简而言之,合成与制备就是将原子、分子聚合起来并最终转变为有用产品的一系列连续过程。转变为有用产品的一系列连续过程。主要内容主要内容1.晶体生晶体生长长技技术术2.气相沉气相沉积积法法3.溶胶溶胶凝胶法凝胶法4.液相沉淀法液相沉淀法5.固相反
4、固相反应应6.插插层层法和反插法和反插层层法法7.自蔓延高温合成技术自蔓延高温合成技术1.晶体生晶体生长长技技术术 单晶原则上可以由固态、液态(熔体或溶液)或气态生长而单晶原则上可以由固态、液态(熔体或溶液)或气态生长而得。实际上人工晶体多半由熔体达到一定的过冷或溶液达到一得。实际上人工晶体多半由熔体达到一定的过冷或溶液达到一定的过饱和而得。晶体生长是用一定的方法和技术,使单晶体定的过饱和而得。晶体生长是用一定的方法和技术,使单晶体由液态或气态结晶成长。由液态结晶又可以分成由液态或气态结晶成长。由液态结晶又可以分成熔体生长或溶熔体生长或溶液生长两大类液生长两大类1.1 熔体生长法熔体生长法 这
5、类方法是最常用的,主要有直拉法(又称丘克拉斯基法)、这类方法是最常用的,主要有直拉法(又称丘克拉斯基法)、坩埚下降法、区熔法、焰熔法(又称维尔纳叶法)等。坩埚下降法、区熔法、焰熔法(又称维尔纳叶法)等。1.11 提拉法提拉法 提拉法又称丘克拉斯基法,是丘克拉斯基提拉法又称丘克拉斯基法,是丘克拉斯基(J.Czochralski)在在1917年年发发明的明的从熔体中提拉生从熔体中提拉生长长高高质质量量单单晶的方法。晶的方法。适用于大尺寸完美晶体的批量生产。适用于大尺寸完美晶体的批量生产。这这种方法能种方法能够够生生长长无色无色蓝蓝宝石、宝石、红红宝石、宝石、钇铝钇铝榴石、榴石、钆镓钆镓榴石、榴石、
6、变变石和尖晶石等石和尖晶石等重要的宝石晶体。重要的宝石晶体。20世世纪纪60年代,提拉法年代,提拉法进进一步一步发发展展为为一种更一种更为为先先进进的定型晶的定型晶体生体生长长方法方法熔体熔体导导模法。它是控制晶体形状的提拉法,即直接从熔体中拉模法。它是控制晶体形状的提拉法,即直接从熔体中拉制出具有各种截面形状晶体的生制出具有各种截面形状晶体的生长长技技术术。它不。它不仅仅免除了工免除了工业业生生产产中中对对人造晶体人造晶体所所带带来的繁重的机械加工,来的繁重的机械加工,还还有效的有效的节约节约了原料,降低了生了原料,降低了生产产成本。成本。提拉法提拉法坩埚坩埚绝热层绝热层加热线圈加热线圈原料
7、熔体原料熔体单晶单晶晶种晶种提拉杆提拉杆提拉法示意图提拉法示意图提拉法提拉法绝热层绝热层加热线圈加热线圈原料熔体原料熔体提拉杆提拉杆 被加热的坩埚中盛着熔融的料,籽晶杆带着籽晶由上而下插被加热的坩埚中盛着熔融的料,籽晶杆带着籽晶由上而下插入熔体,由于固液界面附近的熔体维持一定的过冷度、熔体沿籽入熔体,由于固液界面附近的熔体维持一定的过冷度、熔体沿籽晶结晶,并随籽晶的逐渐上升而生长成棒状单晶。坩埚可以由高晶结晶,并随籽晶的逐渐上升而生长成棒状单晶。坩埚可以由高频感应或电阻加热。半导体锗、硅、氧化物单晶如钇铝石榴石、频感应或电阻加热。半导体锗、硅、氧化物单晶如钇铝石榴石、钆镓石榴石、铌酸锂等均用此
8、方法生长而得。应用此方法时控制钆镓石榴石、铌酸锂等均用此方法生长而得。应用此方法时控制晶体品质的主要因素是固液界面的温度梯度、生长速率、晶转速晶体品质的主要因素是固液界面的温度梯度、生长速率、晶转速率以及熔体的流体效应等。率以及熔体的流体效应等。提拉法提拉法装置装置提拉法装置提拉法装置晶体提拉法的装置由五部分晶体提拉法的装置由五部分组组成:成:(1)加)加热热系系统统加加热热系系统统由由加加热热、保温、控温、保温、控温三部分构成。最常用的加三部分构成。最常用的加热热装置分装置分为电为电阻加阻加热热和和高高频线频线圈加圈加热热两大两大类类。采用。采用电电阻加阻加热热,方法,方法简单简单,容易控制
9、。保温装置通常采,容易控制。保温装置通常采用金属材料以及耐高温材料等做成的用金属材料以及耐高温材料等做成的热热屏蔽罩和保温隔屏蔽罩和保温隔热层热层,如用,如用电电阻炉生阻炉生长长钇铝钇铝榴石、榴石、刚刚玉玉时时就采用就采用该该保温装置。控温装置主要由保温装置。控温装置主要由传传感器、控制器等精密感器、控制器等精密仪仪器器进进行操作和控制。行操作和控制。(2)坩)坩埚埚和籽晶和籽晶夹夹作坩作坩埚埚的材料要求化学性的材料要求化学性质稳质稳定、定、纯纯度高,高温下机械度高,高温下机械强强度高,熔点要高于原度高,熔点要高于原料的熔点料的熔点200左右。左右。常用的坩常用的坩埚埚材料材料为铂为铂、铱铱、
10、钼钼、石墨、二氧化硅或其它、石墨、二氧化硅或其它高熔点氧化物高熔点氧化物。其中。其中铂铂、铱铱和和钼钼主要用于生主要用于生长长氧化物氧化物类类晶体。晶体。籽晶用籽晶籽晶用籽晶夹夹来装来装夹夹。籽晶要求。籽晶要求选选用无位用无位错错或位或位错错密度低的相密度低的相应应宝石宝石单单晶。晶。提拉法装置提拉法装置(3)传动传动系系统统为为了了获获得得稳稳定的旋定的旋转转和升降,和升降,传动传动系系统统由籽晶杆、坩由籽晶杆、坩埚轴埚轴和升降系和升降系统组统组成。成。(4)气氛控制系)气氛控制系统统不同晶体常需要在各种不同的气氛里不同晶体常需要在各种不同的气氛里进进行生行生长长。如。如钇铝钇铝榴石和榴石和
11、刚刚玉晶体需要在玉晶体需要在氩氩气气氛中气气氛中进进行生行生长长。该该系系统统由真空装置和充气装置由真空装置和充气装置组组成。成。(5)后加)后加热热器器后后热热器可用高熔点氧化物如氧化器可用高熔点氧化物如氧化铝铝、陶瓷或多陶瓷或多层层金属反射器如金属反射器如钼钼片、片、铂铂片等片等制成。通常放在坩制成。通常放在坩埚埚的上部,生的上部,生长长的晶体逐的晶体逐渐进渐进入后入后热热器,生器,生长长完完毕毕后就在后后就在后热热器中冷却至室温。后器中冷却至室温。后热热器的主要作用是器的主要作用是调节调节晶体和熔体之晶体和熔体之间间的温度梯度,控的温度梯度,控制晶体的直径,避免制晶体的直径,避免组组分分
12、过过冷冷现现象引起晶体破裂。象引起晶体破裂。生长要点生长要点(1)温度控制)温度控制:在晶体提拉法生在晶体提拉法生长过长过程中,熔体的温度控制程中,熔体的温度控制是关是关键键。要求熔体中温度的分布在固液界面。要求熔体中温度的分布在固液界面处处保持熔点温度,保持熔点温度,保保证证籽晶周籽晶周围围的熔体有一定的的熔体有一定的过过冷度,熔体的其余部分保持冷度,熔体的其余部分保持过过热热。这样这样,才可保,才可保证证熔体中不熔体中不产产生其它晶核,在界面上原子或生其它晶核,在界面上原子或分子按籽晶的分子按籽晶的结结构排列成构排列成单单晶。晶。为为了保持一定的了保持一定的过过冷度,生冷度,生长长界面必界
13、面必须须不断地向不断地向远远离凝固点等温面的低温方向移离凝固点等温面的低温方向移动动,晶体才,晶体才能不断能不断长长大。另外,熔体的温度通常大。另外,熔体的温度通常远远远远高于室温,高于室温,为为使熔体使熔体保持其适当的温度,保持其适当的温度,还还必必须须由加由加热热器不断供器不断供应热应热量。量。生长要点生长要点(2)提拉速率)提拉速率:提拉的速率决定晶体生提拉的速率决定晶体生长长速度和速度和质质量。适当的量。适当的转转速,可速,可对对熔体熔体产产生良好的生良好的搅搅拌,达到减少径向温度梯度,阻止拌,达到减少径向温度梯度,阻止组组分分过过冷的目的。一般提拉速率冷的目的。一般提拉速率为为每小每
14、小时时615mm。在晶体提拉。在晶体提拉法生法生长过长过程中,常采用程中,常采用“缩颈缩颈”技技术术以减少晶体的位以减少晶体的位错错,即在保,即在保证证籽晶和熔体充分沾籽晶和熔体充分沾润润后,旋后,旋转转并提拉籽晶,并提拉籽晶,这时这时界面上原子或分界面上原子或分子开始按籽晶的子开始按籽晶的结结构排列,然后构排列,然后暂暂停提拉,当籽晶直径停提拉,当籽晶直径扩扩大至一大至一定定宽宽度(度(扩扩肩)后,再旋肩)后,再旋转转提拉出等径生提拉出等径生长长的棒状晶体。的棒状晶体。这这种种扩扩肩前的旋肩前的旋转转提拉使籽晶直径提拉使籽晶直径缩缩小,故称小,故称为为“缩颈缩颈”技技术术。提拉法提拉法优优点
15、:点:(1)在晶体生)在晶体生长过长过程中可以直接程中可以直接进进行行测试测试与与观观察,有利于察,有利于控制生控制生长长条件;条件;(2)使用)使用优质优质定向籽晶和定向籽晶和“缩颈缩颈”技技术术,可减少晶体缺陷,可减少晶体缺陷,获获得所需取向的晶体;得所需取向的晶体;(3)晶体生)晶体生长长速度速度较较快;快;(4)晶体位)晶体位错错密度低,光学均一性高。密度低,光学均一性高。缺点缺点:(1)坩)坩埚埚材料材料对对晶体可能晶体可能产产生生污污染;染;(2)熔体的液流作用、)熔体的液流作用、传动传动装置的振装置的振动动和温度的波和温度的波动动都会都会对对晶体的晶体的质质量量产产生影响。生影响
16、。提拉法提拉法生长晶体实例生长晶体实例1.合成合成红红宝石晶体宝石晶体原料:原料:Al2O3和和13%的的Cr2O3加加热热:高:高频线频线圈加圈加热热到到2050以上;以上;屏蔽装置:抽真空后充入惰性气体,使生屏蔽装置:抽真空后充入惰性气体,使生长环长环境中保持所需要的气体境中保持所需要的气体和和压压强强。将原料装入将原料装入铱铱、钨钨或或钼钼坩坩埚埚中。坩中。坩埚埚上方的提拉杆的下端的籽晶上方的提拉杆的下端的籽晶夹夹具具上装一粒定向的上装一粒定向的红红宝石籽晶。将坩宝石籽晶。将坩埚埚加加热热到使原料熔化。再降低提拉杆,到使原料熔化。再降低提拉杆,使籽晶插入到熔体表使籽晶插入到熔体表层层。控
17、制熔体的温度,使之略高于熔点。熔去少量。控制熔体的温度,使之略高于熔点。熔去少量籽晶以保籽晶以保证证能在籽晶的清能在籽晶的清洁洁表面上开始生表面上开始生长长。在。在实现实现籽晶与熔体充分沾籽晶与熔体充分沾润润后,后,缓缓慢向上提拉和慢向上提拉和转动转动晶杆。控制好拉速和晶杆。控制好拉速和转转速,同速,同时缓时缓慢地降低慢地降低加加热热功率,籽晶直径就逐功率,籽晶直径就逐渐扩渐扩大。小心地大。小心地调节调节加加热热功率,功率,实现实现宝石晶体宝石晶体的的缩颈缩颈扩扩肩肩等径等径收尾的生收尾的生长长全全过过程。程。通通过过屏蔽装置的窗口可以屏蔽装置的窗口可以观观察生察生长过长过程,程,还还可利用可
18、利用红红外外传传感器感器测测量固量固液界面的亮光液界面的亮光环环温度,温度,实现实现控制生控制生长过长过程。程。提拉法提拉法生长晶体实例生长晶体实例2.合成合成变变石晶体石晶体原料:原料:Al2O3和和BeO的粉末按的粉末按l:1混合,加入致色混合,加入致色剂剂Cr2O3和和V2O5。加加热热:高:高频线频线圈加圈加热热到到1870以上,使原料熔化。保温以上,使原料熔化。保温l小小时时均化熔体,然后降温均化熔体,然后降温3050,接籽晶。,接籽晶。屏蔽装置:抽真空后充入惰性气体,使生屏蔽装置:抽真空后充入惰性气体,使生长环长环境中保持所需境中保持所需要的气体、要的气体、压压强强。通通过观过观察
19、察测试测试,控制和,控制和调节调节晶体生晶体生长长。提拉法提拉法生长晶体实例生长晶体实例3.人造人造钇铝钇铝榴石榴石原料:原料:Y 2O3:Al2O3=3:5提拉炉:中提拉炉:中频线频线圈加圈加热热坩坩埚埚:铱铱气氛:气氛:N2+Ar熔点:熔点:1950生生长长速度:每小速度:每小时时6mm以下。以下。提拉法数值模拟提拉法数值模拟因晶体生因晶体生长长的周期很的周期很长长,一般需要,一般需要12个月个月时间时间才能完成一次才能完成一次完整的工完整的工业级业级晶体生晶体生长长,但良品率不高,一般只有,但良品率不高,一般只有50%。造。造成失成失败败的原因有多个方面,可能是提升速率不的原因有多个方面
20、,可能是提升速率不对对,可能是温,可能是温度控制不度控制不对对。若采用数。若采用数值值仿真技仿真技术术,通,通过计过计算机模算机模拟拟,提前,提前预测预测晶体的生晶体的生长长状状态态,对对成品率的提高会有成品率的提高会有较较大的帮助,大的帮助,对对晶体炉的研晶体炉的研发发也具有重要的也具有重要的 现实现实意意义义。比利比利时鲁时鲁汶大学的汶大学的Franois Dupret教授,教授,1990年年发发表在表在J.of Heat and Mass Transfer的一篇文章:的一篇文章:Global modelling of heat transfer in crystal growth fur
21、naces,详细阐详细阐述了如何建述了如何建立一个晶体生立一个晶体生长长炉中全局的炉中全局的热传热传控制模型,并以控制模型,并以锗锗和砷化和砷化镓镓炉作炉作为为模模拟实拟实例,例,验证验证了了这这一全局模型的准确性与效率一全局模型的准确性与效率。1.12 坩坩埚埚下降法下降法 该该方法的方法的创创始人是始人是Bridgman,他于,他于1925年年发发表了表了论论文。文。Stockbarger又又发发展了他的方法。展了他的方法。因此,因此,该该方法也称方法也称为为BS法。法。该该法的特点是法的特点是让让熔体在坩熔体在坩埚埚中冷却而凝固中冷却而凝固。凝固。凝固过过程程虽虽然都是然都是由坩由坩埚埚
22、的一端开始而逐的一端开始而逐渐扩渐扩展到整个熔体,但方式不同。坩展到整个熔体,但方式不同。坩埚埚可以垂直放置,熔体自下而上凝固,或自上而下凝固。一个籽可以垂直放置,熔体自下而上凝固,或自上而下凝固。一个籽晶插入熔体上部,晶插入熔体上部,这样这样,在生,在生长长初期,晶体不与初期,晶体不与锅锅壁接触,以壁接触,以减少缺陷。坩减少缺陷。坩埚埚也可以水平放置(使用也可以水平放置(使用“舟舟”形坩形坩埚埚)。凝固)。凝固过过程中可通程中可通过过移移动动固固液界面来完成,移液界面来完成,移动动界面的方式是移界面的方式是移动动坩坩埚埚或移或移动动加加热热炉或降温均可。炉或降温均可。坩埚下降法坩埚下降法将盛
23、将盛满满材料的坩材料的坩埚埚置放在置放在竖竖直的炉内直的炉内,炉分上下两部分,中炉分上下两部分,中间间以以挡挡板隔开,上部温度板隔开,上部温度较较高,能使坩高,能使坩埚埚内的材料内的材料维维持熔融持熔融状状态态,下部,下部则则温度温度较较低,当坩低,当坩埚埚在炉内由上在炉内由上缓缓缓缓下降到炉内下降到炉内下部位置下部位置时时,材料熔体就开始,材料熔体就开始结结晶。坩晶。坩埚埚的底部形状多半是的底部形状多半是尖尖锥锥形,或形,或带带有有细颈细颈,便于便于优选优选籽晶籽晶,也有半球形状的以便也有半球形状的以便于籽晶生于籽晶生长长。晶体的形状与坩。晶体的形状与坩埚埚的形状是一致的,的形状是一致的,这
24、这种方法种方法常用于制常用于制备备碱金属和碱土金属碱金属和碱土金属卤卤化物和氟化物化物和氟化物单单晶晶。(例如例如CaF2、LiF、NaI等等)以及一些半以及一些半导导体化合物体化合物(例如例如AgGaSe2、AgGaS2、CdZnTe等等)晶体。晶体。坩埚下降法坩埚下降法坩埚下降法坩埚下降法坩埚下降法坩埚下降法优点优点:1、由于可以把原料密封在坩埚里,减少了挥发造成的泄由于可以把原料密封在坩埚里,减少了挥发造成的泄漏和污染,使晶体的成分容易控制。漏和污染,使晶体的成分容易控制。2、操作简单,可以生长大尺寸的晶体。可生长的晶体品操作简单,可以生长大尺寸的晶体。可生长的晶体品种也很多,且易实现程
25、序化生长。种也很多,且易实现程序化生长。3、由于每一个坩埚中的熔体都可以单独成核,这样可以由于每一个坩埚中的熔体都可以单独成核,这样可以在一个结晶炉中同时放入若干个坩埚,或者在一个大坩埚里在一个结晶炉中同时放入若干个坩埚,或者在一个大坩埚里放入一个多孔的柱形坩埚,每个孔都可以生长一块晶体,而放入一个多孔的柱形坩埚,每个孔都可以生长一块晶体,而它们则共用一个圆锥底部进行几何淘汰,这样可以大大提高它们则共用一个圆锥底部进行几何淘汰,这样可以大大提高成品率和工作效率成品率和工作效率。坩埚下降法坩埚下降法缺点缺点1、不适宜生不适宜生长长在冷却在冷却时时体体积积增大的晶体。增大的晶体。2、由于晶体在整个
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