《高纯钇靶》-预审稿.docx

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1、ICS. 77. 120.99CCS H 65XB中华人民共和国稀土行业标准XB/T XXX-20XX高纯钮靶High purity yttrium sputtering target（预审稿）XXX x-x x-x X 发布XXX x-x x-x义实施中华人民共和国工业和信息化部发布XB/T XXX-20XX7. 5检验结果判定7. 5.1化学成分分析结果与本标准或订货单（或合同）的规定不符时，那么从该批产品中取双倍试样对不合格工程 进行重复试验，假设仍有一项结果不合格，那么判定该批产品不合格。7. 5.2几何尺寸和公差检验不合格，判断该件产品不合格。7. 5. 3外表粗糙度检验不合格时，判

2、断该件产品不合格。7. 5.4内部质量检验不合格时，判断该件产品不合格。7. 5.5平均晶粒尺寸检验结果不合格，应从该批样品中取双倍数量的试样对该不合格项进行重复检验。假设仍有检测结 果不合格，那么判定该批产品不合格。7. 5. 6致密度XB/T XXX-20XX检验结果不合格，应从该批样品中取双倍数量的试样对该不合格项进行重复检验。假设仍有检测结 果不合格，那么判定该批产品不合格。7. 5.7外观质量检验不合格时，判断该件产品不合格。8. 5.8焊接质量检验不合格时，判断该件产品不合格。8标志、包装、运输、贮存及随行文件标志、包装、运输、贮存产品的标志、包装、运输、贮存应符合GB 39176

3、的规定。如需方对包装有特殊要求，可由供需双 方协商确定。9. 2随行文件每批产品应附有随行文件，其中应包括质量证明书，质量证明书应符合GB 39176的规定。此外还 宜包括：a）产品合格证；b）产品质量控制过程中的检验报告及成品检验报告；c）产品使用说明书；d）其他。XB/T 403-202X本文件按照GB/T L 1-2020标准化工作导那么第1局部：标准化文件的结构和起草规那么的规定 起草。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承当识别专利的责任。本文件由全国稀土标准化技术委员会(SAC/TC 229)提出并归口。本文件起草单位：有研稀土新材料股份、有研稀土高技术、包头稀土

4、研究院、 虔东稀土集团股份、湖南稀土金属材料研究院有限责任公司、福建省长汀金龙稀土 (根据任务落实排名顺序，暂不分先后排名)本文件主要起草人：XB/T XXX-20XX高纯钮靶1范围本文件规定了高纯忆靶的分类、技术要求、试验方法、检验规那么、标志、包装、运输、贮存及随 行文件。本文件适用于真空熔铸、粉末冶金方法制备的高纯钮锭，再经变形加工、热处理、机械加工、焊 接等过程制得的高纯忆（Y）靶，主要用于电子信息、涂层和显示等材料。2规范性引用文件以下文件对于本文件的应用是必不可少的。但凡注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文 件。但凡不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文

5、件。GB/T 1031产品几何技术规范（GPS）外表结构轮廓法外表粗糙度参数及其数值GB/T 1423贵金属及其合金密度的测试方法标准GB/T 1804 一般公差未注公差的线性和角度尺寸的公差GB/T 6394金属平均晶粒度测定方法GB/T 7734复合钢板超声波检测方法GB/T 8170数值修约规那么与极限数值的表示和判定GB/T 8651金属板材超声板波探伤方法GB/T 18115.15稀土金属及其氧化物中稀土杂质化学分析方法，忆中银）、车市、错、铉、彩、铺、 仇、钺、镐、钦、饵、铉、镜和错量的测定GB/T 12690 （所有局部）稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法GB/T 209

6、67无损检测目视检测总那么GB 39176稀土产品的包装、标志、运输和贮存XB/T 628高纯稀土金属化学分析方法痕量元素含量的测定辉光放电质谱法3术语和定义本文件没有需要界定的术语和定义。XB/T XXX-20XX4分类4.1产品分类产品按化学成分分为HT-Y-4N、HT-Y-3N5. HT-Y-3N三个牌号。4. 2产品牌号高纯忆（Y）靶牌号共分3个层次，其中第一层次表示高纯靶，用高纯靶的英文首字母“HT”表示; 第二层次表示产品金属钮靶，用分子式表示；第三层次表示纯度，当产品稀土纯度（质量分数） 等于或大于99%时，那么用质量分数中“9”的个数加“N”来表示（“N”为数字9的英文首字母）

7、。具 体表示方法如下：HT-Y-XN(Z)表示金属钮（Y）X、Z为阿拉伯数字N为数字9表示高纯稀土靶材产品牌号例如：HT-Y-3N5表示纯度为99. 95%的高纯初靶产品。5技术要求5.1化学成分产品的化学成分应符合表1的规定。需方如对产品有特殊要求，供需双方可另行协商。表1产品化学成分产品牌号HT-Y-4NHT-Y-3N5HT-Y-3N化学成 分（质量 分数）/%Yx,不小于99. 9999. 9599.9杂质含 量，不大 于稀土杂质合量0. 00100. 00500.0100非稀 土杂 质Li0. 00010. 00010. 0010Xa0. 00010. 00010. 0010K0. 0

8、0010. 00010. 0010Fe0. 00100.01000.0150Si0. 00100. 00300. 0050Ca0. 00100. 00300. 0050Mg0. 00050. 00050. 00102XB/T XXX-20XX产品牌号HT-Y-4NHT-Y-3N5HT-Y-3NA10. 00100.01000.0150Ni0. 00100. 00500.0100Ti0. 00050. 00500.0100Mn0. 00050. 00100. 0020Zn0. 00050. 00100. 0010Pb0. 00050. 00100. 0010Cu0. 00200.01000.01

9、50U0. 00010. 00010. 0001Th0. 00010. 00010. 0001Ta+ Nb + Mo + W 合量0. 00050. 0050.010000.01000. 02000. 020000. 05000. 10000. 1500N0. 00100. 00100. 0010S0. 00100. 00100. 0010杂质合量）不大于0.01000. 05000. 1000注： 、图纯轨靶的Y含量100%减去杂质兀素含量总和的余量y杂质含量总和为表中所列但不限于表中所列杂质元素实测值总和，不包含c、n、o、s气体元素2致密度产品致密度99%以上。需方如有特殊要求时，由供需

10、双方商定，并在订货单（或合同）中注明。5. 3平均晶粒尺寸产品平均晶粒尺寸300 um以下。需方如有特殊要求时，由供需双方商定，并在订货单（或合同） 中注明。5.4内部质量产品内部不应有分层、疏松、夹杂和气孔等缺陷。5. 5外表粗糙度产品外表粗糙度2 Hm以下。需方如有特殊要求时，由供需双方商定，并在订货单（或合同）中注 明。5. 6几何尺寸和公差产品尺寸、规格及结构方式与需方使用的溅射机台类型有关，一般根据需方提供图纸确定，几何 尺寸及公差由供需双方协商确定并在订货单（或合同）中具体说明。如果客户未提供允许公差，那么Y 靶材尺寸允许公差应符合GBT1804要求。5 . 7外观质量XB/T X

11、XX-20XX产品外表应清洁光滑，无指痕，无油污和锈蚀，应无拉伸润滑痕迹，颗粒附加物和其他玷污，应 无凹坑、划痕、裂纹、凸起等缺陷。6 .8焊接质量如高纯钻靶需焊接背板，其与背板的焊合率95%以上，局部最大未焊合率2%以下。需方如有特殊 要求时，由供需双方商定，并在订货单（或合同）中注明。6试验方法6.1化学成分6.1化学成分6. 1. 1产品中稀土杂质含量的分析方法按GB/T 18115. 15和XB/T 628的规定进行。6. 1. 2产品非稀土杂质含量的分析方法按GB/T 12690和XB/T 628的规定进行。6. 2数值修约按GB/T 8170的规定进行。6. 3致密度按GB/T 1

12、423的规定执行。6. 4平均晶粒尺寸按GB/T 6394的规定进行。6.5内部质量按GB/T 8651的规定执行。6. 6外表粗糙度按GB/T 1031的规定制执行。6. 7公差和几何尺寸外形尺寸及公差采用相应精度的量具进行检测，按GBT1804的规定执行。6. 8外观质量采用目视检测，按GB/T 20967第5章的规定执行。6.9焊接质量按GB/T 7734的规定执行7检验规那么XB/T XXX-20XX检查与验收7.1.1 产品由供方进行检验，保证产品质量符合本标准或订货单（或合同）的规定，并出具质量证明 书。7.1.2 需方可对收到的产品按本标准进行检验。如检验结果与本标准或订货单（或

13、合同）的规定不符 时，可在收到产品之日起二个月内向供方提出，由供需双方协商解决。如需仲裁，可委托双方认可的 单位进行，并在需方共同取样。7.2 组批产品应成批提交验收。每批应由同一生产批、同种成分和规格的产品组成。7. 3检验工程每批产品应进行化学成分、致密度、平均晶粒尺寸、内部质量、外表粗糙度、几何尺寸、公差及 外观质量、焊接质量检验。7.4取样与制样产品出厂前应进行全面检测。检验工程及取样应符合表2的规定。表2检测工程、取样及数量检测工程取样位置取样数量要求的章条号试验方法的章条号化学成分见 逐件5.16.1致密度见 按需5.26.3平均晶粒尺寸见 按需5.36.4内部质量靶坯按需5.46.5外表粗糙度成品按需5.56.6几何尺寸和公差成品逐件5.66.7外观质量成品逐件5.76.8焊接质量成品按需5.86.97.4.1 化学成分、晶粒尺寸和致密度测定取样。焊接前从靶坯的边缘进行取样，取样规格为15 mmX15 mmXY靶厚度，取样示意图如以下图。