双极型三极管.pptx
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1、11.3.1晶体管的结构常用的三极管的结构有硅平面管和锗合金管两种类型。(a)平面型(NPN)(b)合金型(PNP)NecNPb二氧化硅becPNPe 发射极,b基 极,c 集电极。第1页/共31页2平面型(NPN)三极管制作工艺 在 N 型硅片(集电区)氧化膜上刻一个窗口,将硼杂质进行扩散形成 P 型(基区),再在 P 型区上刻窗口,将磷杂质进行扩散形成N型的发射区。引出三个电极即可。合金型三极管制作工艺:在 N 型锗片(基区)两边各置一个铟球,加温铟被熔化并与 N 型锗接触,冷却后形成两个 P 型区,集电区接触面大,发射区掺杂浓度高。第2页/共31页3(a)NPN 型ecb符号集电区集电结
2、基区发射结发射区集电极 c基极 b发射极 eNNP第3页/共31页4集电区集电结基区发射结发射区集电极 c发射极 e基极 bcbe符号NNPPN(b)PNP 型第4页/共31页51.3.2晶体管的电流放大原理以 NPN 型晶体三极管为例讨论cNNPebbec表面看晶体管若实现放大,必须从晶体管内部结构和外部所加电源的极性来保证。不具备放大作用第5页/共31页6晶体管内部结构要求:NNPebcN N NP P P1)发射区高掺杂。2)基区做得很薄。通常只有几微米到几十微米,而且掺杂较少。3)集电结面积大。第6页/共31页7RCUBBUCCRB 晶体管放大的外部条件:外加电源的极性应使发射结处于正
3、向偏置状态,而集电结处于反向偏置状态。第7页/共31页8becRcRb1.三极管中载流子运动过程I EIB(1)发射发射区的电子越过发射结扩散到基区,基区的空穴扩散到发射区形成发射极电流 IE(基区多子数目较少,空穴电流可忽略)。(2)复合和扩散电子到达基区,少数与空穴复合形成基极电流 Ibn,复合掉的空穴由 UBB 补充。多数电子在基区继续扩散,到达集电结的一侧。第8页/共31页9becI EI BRcRb1.三极管中载流子运动过程(3)收集集电结反偏,有利于收集基区扩散过来的电子而形成集电极电流 Icn。其能量来自外接电源 UCC。I C另外,集电区和基区的少子在外电场的作用下将进行漂移运
4、动而形成反向饱和电流,用ICBO表示。ICBO第9页/共31页102.三极管的电流分配关系IC=ICN+ICBO IE=ICN+IBN+ICBO=IEN+IEPUBBUCCRBRCIE=IC+IBIB=IBN+IPE-ICBO三个极的电流之间满足节点电流定律,即第10页/共31页113.晶体管电流放大系数(1)直流电流放大系数 一般要求 ICN 在 IE 中占的比例尽量大。而二者之比称直流电流放大系数,即一般可达 0.95 0.99 为共基极直流放大系数 第11页/共31页12将(1)式代入IE=IC+IB 得其中:称为共射极直流电流放大系数。第12页/共31页13上式中的后一项常用 ICEO
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