浅析IGBT应用原理.docx
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1、浅析IGBT应用原理网络转载导语:IGBT是一个三端器件,它拥有栅极G、集电极c和发射极E。1.IGBT的构造是一个三端器件,它拥有栅极G、集电极c和发射极E。IGBT的构造、简化等效电路和电气图形符号如下图。如下图为N沟道VDMOSFFT与GTR组合的N沟道(N-IGBT)的内部构造断面示意图。IGBT比VDMOSFET多一层P+注入区,形成丁一个大面积的PN结J1。由于IGBT导通时由P+注入区向N基区发射少子,因此对漂移区电导率进展调制,可仗IGBT具有很强的通流才能。介于P+注入区与N-漂移区之间的N+层称为缓冲区。有无缓冲区决定了IGBT具有不同特性。有N*缓冲区的IGBT称为非对称
2、型IGBT,也称穿通型IGBT。它具有正向压降小、犬断时间短、关断时尾部电流小等优点,但其反向阻断才能相对较弱。无N-缓冲区的IGBT称为对称型IGBT,也称非穿通型IGBT。它具有较强的正反向阻断才能,但它的其他特性却不及非对称型IGBT。如图2-42(b)所示的简化等效电路说明,是由GTR与MOSFET组成的达林顿构造,该构造中的局部是MOSFET驱动,另一局部是厚基区PNP型晶体管。2IBGT的工作原理简单来讲,相当于一个由MOSFET驱动的厚基区PNP型晶体管,它的简化等效电路如图2-42(b)所示,图中的RN为PNP晶体管基区内的调制电阻。从该等效电路可以清楚地看出,IGBT是用晶体
3、管和MOSFET组成的达林顿构造的复合器件。冈为图中的晶体管为PNP型晶体管,MOSFET为N沟道场效应晶体管,所以这种构造的IGBT称为N沟道IIGBT,其符号为N-IGBT。类似地还有P沟道IGBT,即P-IGBT。IGBT的电气图形符号如图2-42(c)所示。是种场控器件,它的开通和关断由栅极和发射极间电压UGE决定,当栅射电压UCE为正且大于开启电压UCEth时,MOSFET内形成沟道并为PNP型晶体管提供基极电流进而使IGBT导通,此时,从P+区注入N-的空穴少数载流子对N-区进展电导调制,减小N-区的电阻RN,使高耐压的IGBT也具有很小的通态压降。当栅射极间不加信号或者加反向电压
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- 浅析 IGBT 应用 原理
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