对大脑外侧裂活体薄层MRI图像的研究,人体解剖学论文.docx
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1、对大脑外侧裂活体薄层MRI图像的研究,人体解剖学论文人脑深部核团构造和功能复杂,但与周围构造分界较为清楚,尤其是基底核团,影像辨别、立体定位及三维重建的形态基础较好。当前临床上对脑外表沟回及其病灶的辨别和定位,主要依靠 MRI或神经功能成像,但由于脑沟回的本身特点以及现有影像图片分辨率较低、容积效应等影响,对脑沟回的精到准确定位诊断仍特别困难。大脑外侧裂是大脑外表最显著的界标,上与额叶、顶叶,下与颞叶,深部与岛叶相邻,是脑深部手术入路的一条重要通道。在临床上医生常经此通路行基底核区血肿去除、岛叶肿瘤摘除及大脑中动脉瘤夹闭等手术,可到达彻底去除病变、对脑组织损伤小及后遗症少的效果。 本研究对大脑
2、外侧裂活体薄层 MRI 图像进行研究,以期为外侧裂及其相邻区域的辨别和定位、经外侧裂手术入路的部位选择提供解剖学资料。 1、 资料与方式方法 1. 1 数据来源 30 名成年志愿者,男 15 名,女 15名,年龄 25 62 岁。临床门诊体检及 MRI 颅脑检查无神经系统疾病。扫描获取横、矢和冠状断层 T1加权 MRI 图像,Dicom 3. 0 格式,层厚 1. 5 mm,层间隔 0. 5 mm。 1. 2 主要仪器、设备及软件系统 Signa 1. 5T 超导磁共振扫描仪及头颅正交线圈( 美国 GE 公司) ; 微型计算机( A8S,华硕公司) ; Microsoft Windows XP
3、Professional( 美国微软公司 ) ; 图形图像工作站:e-film Workstation 2. 1. 2. 352 ( 美 国 Mergee Med公司) 。 1. 3 方式方法 1. 3. 1 MRI 扫描方位及技术参数 30 名成人 MRI扫描,扫描基线为前连合后缘中点到后连合前缘中点的连线,即连合间线( AC-PC 线) ,扫描野 24. 0 cm 24. 0 cm,分辨率为 512 mm 512 mm,横断位层厚为 2. 5 mm,层距 0. 5 mm,矢状位层厚为 6 mm,扫描经过中严格保持头颅固定。 1. 3. 2 外侧裂的辨别 30 例颅脑连续 MRI 断层扫描数
4、据,在微型计算机上以 Dicom 3. 0 格式导入 e-film 2. 1 工作站。利用 3D-Cursor 技术和连续追踪法,当在横断面上将鼠标箭头指向外侧裂时,矢状面上的 十 字指针随箭头联动,提示此两点为对应点,用此法能准确在横断面上辨别外侧裂。 1. 3. 3 图像处理 将 Dicom 3. 0 格式 MRI 数据转换成 JEPG 格式的图片后,再将其信息无损地导入Adobe Photoshop 8. 0 软件包内,根据预置的定标点对图像进行对位、旋转等处理,以大脑原点( AC-PC中点) 为坐标原点建立笛卡尔三维坐标系,以经 AC-PC 的层面为零层面( Z = 0 mm) 。找出
5、外侧裂所在层面的 Z 值范围,对外侧裂的各段及弯弯曲复杂叠区段进行分析。 1. 4 统计学方式方法 采用 t 检验。 2、 结果 2. 1 大脑外侧裂在横断面上的形态学规律 MRI横断层面从下向上逐层观测,从外侧裂出现层面到外侧裂消失层面,外侧裂的形态变化依次为 一 字型、 Y 型、 T 型、 L 型和 一 字型。从脑外表深切进入脑内即上下岛盖之间的部分,在断面上呈内外方向水平走形称为水平部; 位于岛盖内侧面与岛叶外表之间的部分,在横断面上呈前后走形与水平部相交称为垂直部。 2. 1. 1 经鞍上池横断层面( Z = - 21 mm,即 AC-PC下方第 7 层面) 外侧裂从前外侧向后内侧走行
6、,呈 一 字型,到达鞍上池的外侧角。额叶底面的眶回、直回开场出现,外侧裂位于额叶底面、颞极和岛叶前方之间,岛叶尚未出现。在这里层面上可见视神经和视穿插( 见图 2A) 。 2. 1. 2 经前连合横断层面( Z = - 6 mm,即 AC-PC下方第 2 层面) 随着层面的不断上移,岛叶已出现,外侧裂位于前方额叶、后方颞叶和内侧岛叶之间,此层为岛叶曲度最大部位,表现为垂直部最弯曲,外侧裂呈 Y 型。较上一层面外侧裂整体位置后移,中脑四叠体、四叠体池及侧脑室下角出现( 见图 2B) 。 2. 1. 3 经基底核下部横断层面( Z = 3 mm,即 AC-PC 上方第 1 层面) 该层面外侧裂位置
7、较上一层面继续后移,部分以到达 Y =0 层面的后方,位于额叶、颞叶和岛叶之间,垂直部走形较平直,外侧裂呈 T 型。在外侧裂水平部的前方有与之接近平行的一条沟,利用 3D-Cursor 技术确以为外侧裂前升支,其前、后方分别为额下回的三角部和岛盖部。岛叶内侧为基底核区,可见豆状核、内囊、背侧丘脑和尾状核,中线附近见侧脑室前角和三角区,透明隔及穹窿柱位于两侧脑室前角之间( 见图 2C) 。 2. 1. 4 经基底核上部横断层面( Z = 9 mm,即 AC-PC 上方第 3 层面) 该层面较上一层面变化不明显,前升支消失,水平部后移,外侧裂呈 L 型,到达岛叶上部层面,外侧裂的垂直部前后径逐步缩
8、短,岛叶即将消失,侧脑室、基底核及透明隔清楚明晰可见( 见图 2D) 。 2. 1. 5 经侧脑室部横断层面( Z = 24 mm,即AC-PC 上方第 8 层面) 岛叶及外侧裂垂直部消失,外侧裂仅剩水平部呈 一 字型,此部为外侧裂的后支,深度较浅,其前、后方的脑回为缘上回,中线附近可见侧脑室部及胼胝体干( 见图 2E) 。 2. 2 左右两侧大脑半球横断面外侧裂比拟2. 2. 1 外侧裂在横断面上的分段 在横断面上将外侧裂从出现到消失的层面分成三段。第一段,从外侧裂的出现到岛叶出现之间的层面,为脑底部外侧裂的起点与岛叶之间的部分; 第二段,从岛叶出现到岛叶消失的层面之间,为外侧裂位于岛叶外表
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