半导体三极管的结构、特征及应用,大学论文.docx
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1、半导体三极管的结构、特征及应用,大学论文内容摘要:近期无论在国内还是国外,都发表了一系列有关对半导体三极管稳压器分析的言论,和社会上对半导体三极管的应用到达了一定的高度,但是,这些没有能完全反映出稳压器工作的物理方面,而影响稳压器输出电压的因素也表现的不清楚。在本文中,我们就介绍下半导体三极管等其有关的研究对象,目的是为了减少在设计类似稳压器中所产生的各种困难,以让三极管在社会上得到更大的应用价值。 本文关键词语:稳压线路; 半导体三极管; 稳压三极管; 滤波电路; 1 半导体三极管的定义及构造 半导体三极管的内部有三个部分。假如半导体三极管的p型半导体,连同该器件内部的一部份构造,有2个N型
2、半导体,p型半导体交织排列的三个区域,分别为发射区,基区和集电极区域。来自三个区域的管脚被称为发射极、基极和集电极,在合并区和发射区称为发射结。这种构造的装置称为晶体管。晶体管通常称为双极型晶体管BJT,简称晶体管或三极管。晶体管内部有2个PN结,在电路中每个PN结能够放大电流,这个作用被广泛的应用于电子技术中。由于NPN型半导体材料构成晶体管的三个区,所以这种构造的晶体管被称作NPN型晶体管,并且用箭头的方向指示电流方向,发射结处于正向偏置。同理,用PNP型材料构成的晶体管称为PNP型晶体管。区分这两种晶体管的方式方法是看箭头方向。这就是三极管的定义和构造。 2 半导体三极管的特征及工作原理
3、 半导体三极管按材料分为:锗管和硅管,每种材料又能够细分NPN机构和PNP构造,华而不实NPN型硅管和PNP型锗管是最常见的三极管N代表把磷参加到高纯度硅中,磷原子代替部分硅原子,产生电压,自由电子移动构成电流。P代表把硼参加到高纯度硅中,产生大量空穴导电。这两种三极管的工作原理是一样的。除了极性电源的工作原理都是一样的。NPN管,它是在中间的两个N型半导体之间夹一个P型半导体元件,导出的PN结和基区之间构成可称为发射结,集电区和基区构成的PN结作为集电结,其分别推出发射极E,基极B和集电极C,B点电位高于零点电位E时,发射结为正向偏置状态,而C点电位高于B点电位几伏,集电结反向极化状态,集电
4、极电源EC高于基极电源EBO.在制造晶体管中,多数载流子浓度在发射区域是大于基区的。同时,基区做的很薄,而且要严格控制杂质的含量,所以一旦接通电源后,由于发射结的正向偏置,多数载流子电子的发射和基区的少数载流子空穴穿过发射结互相扩散,但由于前者的基团浓度大于后者,所以发射电流基本上是电子流,流的电子流称为发射极电流。由于很薄的基区,加上集电极反向偏置,注入的电子进入基区大部分在集电区,构成集电极电流Ic,只要很少1-10%的电子-空穴在基区复合。因而,构成基极电流Ibo.两个三角洲:Ib原则根据电流连续性:Ie=Ib+Ic,Ie基础小,你能够得到一个更大的Ic,这是被称为电放逐大,Ic和Ib是
5、保持一定的比例关系,即: 1=Ic/Ib型 1称为直放逐大, =Ic/Ib型 -称为沟通电放逐大因子,由于低频 1和 的数值差异不是很大,所以有时为了方便,不做严格的区分的 值约超过100.三极管是一种电放逐大装置,但在实际应用中经常被用于放大晶体管的电流。 3 半导体三极管的作用及应用 半导体三极管是一种控制元件,主要作用是调节电流的大小。例如,在连接共发射级时,电流从基极输入,从集电极输出,发射极接低信号,当较小的改变基极电压Ub,基极电流Ib也随之发生稍微变化,集电极电流Ic受基极电流Ib的影响发生较大的变化,大的基极电流IB,集电极电流Ic.在较小的基极电流相比,集电极电流也较小,即集
6、电极电流是由基准电平电流控制。但集电极电流远大于基极电流,这是半导体晶体管的放大。与IbIc的变化表示三极管的放大率 ,半导体三极管放大系数一般在数百次,在放大信号的半导体三极管,先进入状态,首先一个适宜的静态工作点,也被称为偏置,否则会被放大失真在一个半导体三极管,是连接源之间的电阻,电放逐大转换成电压放大器:当基极电压Ub上升,IB,IC增加,集成电路的集电极电阻压降较大,所以三极管集电极电压下降,而高UB,UC和低UB、UC为三角形态。按工作频率分类,低频管、高频管;频率在频率低于3MHz的电路处理工作的频率管的频率能够到达几百兆赫。 根据功率损耗的大小分类,有小功率管和大功率管;一般小
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