第一篇-第二章平面光波在两介质分界平面上的反射与透射.pptx
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1、薄膜光学与薄膜技术基础 光波的反射和透射是薄膜光学的基本问题。当薄膜介质参数已知的情况下,并假定介质分界面为光滑平面,通常采用几何光学近似方法求解平面光波在界面两侧的电场振幅之间的关系即反射系数和透射系数。几何近似方法不仅适用于均匀介质,也可用于非均匀介质和吸收介质。本章首先讨论S-波反射和P-波反射,然后讨论吸收介质、非均匀介质和各向异性介质的反射和透射。2.1 各向同性理想介质界面的反射与透射波反射与透射第1页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础 对于任意极化状态平面光波的反射和透射可分解为两个相互垂直的极化波的叠加。通常选取电场矢量垂直于入射面为垂直极化,称为S-波偏振;而选取电场矢量平行于
2、入射面为平行极化,称作P-波偏振。如图2-1所示。根据式(1-42)和式(1-43),第2页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础可写出入射平面光波的复振幅矢量表达式为式中 是电场在r=0处的幅值,为介质1中的波数,为介质1的本征阻抗。由图2-1,在直角坐标下,入射波传播方向的单位矢量。由图2-1,在直角坐标下,入射波传播方向的单位矢量 写成分量形式,有(2-1)(2-2)第3页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础波面上任意一点的位置矢量为将上两式代入式(2-1),得到 同理,可得反射平面波与透射平面波电场和磁场复振幅矢量表达式为(2-3)(2-4)(2-5)第4页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础(2-
3、6)其中 和 分别为介质2中的波数和本征阻抗。根据边界条件有(2-7)(2-8)第5页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础得到对任意的 x,要使(2-9)两式成立,必须使三个指数满足相位匹配条件,即由此得到,斯涅尔反射定律(2-9)(2-10)(2-11)第6页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础和斯涅尔折射定律式中 、分别为介质1和介质2的折射率。考虑到式(2-10),则式(2-9)化为联立求解上两式,得到S-波偏振情况下反射系数和透射系数的表达式为(2-12)(2-13)(2-14)第7页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础(2-15)这两个系数称之为S-波偏振菲涅尔反射系数和透射系数,二者满足关系
4、假定光学介质 ,利用关系式(1-39),式(2-14)和式(2-15)简化为(2-16)(2-17)(2-18)第8页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础在垂直入射的情况下,则式(2-17)和式(2-18)简化为 对于S-波偏振,引入介质界面两侧光学有效导纳则式(2-17)和式(2-18)改写为(2-19)(2-20)(2-21)第9页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础(2-22)(2-23)需要注意,此处光学有效导纳并不具有导纳的量纲,因为在反射系数和透射系数表达式中分子和分母消去了因子 。波反射与透射 如图2-2所示。根据式(1-42)和式(1-43),可写出入射平面波的复振幅矢量表达式为 第1
5、0页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础(2-24)式中 是电场在 处的幅值,为介质1中的波数,1 为介质1的本征阻抗,为平面波传播方向的单位矢量,r为平面波波前上任意点的位置矢量。和r取式(2-2)和式(2-3),代入式(2-24),得到入射平面光第11页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础波电场和磁场复振幅矢量的表达式为 同理,可得反射波与透射波电场和磁场复振幅矢量表达式为(2-25)(2-26)(2-27)第12页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础其中 k2和2分别为介质2中的波数和本征阻抗。根据边界条件式(2-7),有得到同样,对任意的x,要使式(2-29)等式成立,必须使三个指数相位满足相位匹
6、配条件(2-28)(2-29)第13页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础(2-30)即满足则式(2-29)化为联立求解上两式,得到P-波偏振情况下菲涅尔反射系数和透射系数的表达式为(2-31)(2-32)第14页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础(2-33)(2-34)在P-波偏振情况下,二者满足关系 假定光学介质 ,利用关系式(1-39),式(2-33)和式(2-34)简化为(2-35)第15页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础(2-36)(2-37)需要注意的是反射系数 与反射波电场和磁场的方向选取有关,相差一负号。对于P-波偏振反射和透射,引入介质界面两侧光学有效导纳(2-38)第16页/共6
7、6页薄膜光学与薄膜技术基础则式(2-36)和式(2-37)改写为需要注意的是P-波偏振情况下,用光学有效导纳表示的透射系数与垂直入射情况下的透射系数公式相差因子 。2.2 各向同性吸收介质界面的反射与透射波反射与透射 假设介质电导率 ,在平面(2-39)(2-40)第17页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础波等振幅面与等相位面重合的情况下,根据图2-1,由式(1-49)和式(1-50),可写出入射平面波、反射平面波和透射平面波电场强度矢量和磁场强度矢量的复振幅表达式如下:入射波:(2-41)反射波:(2-42)第18页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础透射波:(2-43)由边界条件(2-7)式,得
8、到对任意的x,要使(2-44)两式成立,必须使三个指数满足相位匹配条件,即(2-44)(2-45)第19页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础由此得到,斯涅尔反射定律和斯涅尔折射定律式中 和 分别为介质1和介质2的复折射率。显然,吸收介质中的折射定律与理想介质中的折射定律形式完全相同。由相位匹配条件式(2-45),式(2-44)简化为(2-46)(2-47)(2-48)第20页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础联立求解得到在吸收介质的情况下,S-波偏振的反射系数和透射系数二者仍然满足关系 由式(1-51),式(2-49)和式(2-50)简化为(2-49)(2-50)(2-51)(2-52)第21页/
9、共66页薄膜光学与薄膜技术基础(2-53)在垂直入射的情况下,则式(2-52)和式(2-53)简化为由此可以看出,吸收介质中的S-波偏振反射系数和透射系数与理想介质中的形式完全相同,给计算带来极大的方便。(2-54)(2-55)第22页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础 同样,S-波反射与透射引入介质界面两侧复光学有效导纳式(2-52)和式(2-53)化为波反射与透射 同样,在平面波等振幅面与等相位面重(2-56)(2-57)(2-58)第23页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础合的情况下假设介质电导率 ,根据图2-2,由式(1-49)和式(1-50),可写出P-偏振入射平面波、反射平面波和透射平
10、面波电场强度矢量和磁场强度矢量的复振幅表达式如下:入射波:反射波:(2-59)(2-60)第24页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础透射波:(2-61)同样,利用边界条件(2-7)和相位匹配条件,可以得到(2-62)(2-63)(2-64)第25页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础二者满足关系由(1-51)式,简化式(2-63)、式(2-64),有同样,吸收介质中的P-偏振反射系数和透射系数与理想介质中的形式也完全相同。(2-65)(2-66)(2-67)第26页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础 对于P-波偏振反射和透射,引入介质界面两侧复光学有效导纳为则式(2-66)和式(2-67)改写为(2-
11、68)(2-69)(2-70)一下两节内容为研究生学习内容,暂略。一下两节内容为研究生学习内容,暂略。=第27页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础2.3 2.3 非均匀介质界面的反射与透射非均匀介质界面的反射与透射几何光学近似条件下非均匀介质中的波传播几何光学近似条件下非均匀介质中的波传播波射线振幅及相位波射线振幅及相位波射线振幅及相位波射线振幅及相位任意非均匀介质界面的反射系数方程任意非均匀介质界面的反射系数方程波偏振的反射系数方程波偏振的反射系数方程波偏振的反射系数方程波偏振的反射系数方程2.4 2.4 各向异性介质界面的反射与透射各向异性介质界面的反射与透射平面对称各向异性介质中麦克斯韦方
12、程的分平面对称各向异性介质中麦克斯韦方程的分量形式量形式第28页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础各向异性介质界面各向异性介质界面S-S-波反射与透射波反射与透射各向异性介质界面各向异性介质界面P-P-波反射与透射波反射与透射=2.5 反射系数和透射系数随入射角的变化 反射系数和透射系数是描述反射波振幅、透射波振幅与入射波振幅之比随入射角变化的关系,这种关系在薄膜光学的膜系仿真计算中非常重要。下面简要介绍一些重要概念,并给出一些实例加以讨论。全反射与倏逝波第29页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础 1.,即 ,由于正弦函数在第一象限是增函数,必有 ,由式(2-17)、式(2-18)、式(2-36)
13、和式(2-37)可以判断,入射角为 任意可能值时,S-波反射系数 和P-波反射系数 、S-波透射系数 和P-波透射系数 均为实数,实例见图2-8(a)所示。2.,即 ,根据斯涅尔定律式(2-12)或式(2-31)可知,透射角大于入射角,即 ,当 时,透射角 ,此时式(2-12)或式(2-31)变为第30页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础第31页/共66页薄膜光学与薄膜技术基础 称之为临界角。当 时,仍取 ,由式(2-6)和式(2-27)可知,对于S-波,磁场仅有Z分量,电场沿Y方向,由坡印廷定理知,波沿+X方向传播,没有Z方向传播的波;而对于P-波,电场仅有-Z分量,磁场沿Y方向,波沿+X方向
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