模拟电子第五版康光华第五章场效应管放大电路.ppt
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1、电子技术基础主讲:孙 静模拟部分模拟部分第13讲2电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管5.2 MOSFET放大电路第五章 场效应管放大电路5.3 结型场效应管(JFET)*5.4 砷化镓金属-半导体场效应管5.5 各种放大器件电路性能比较3电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室学习指导第五章 场效应管放大电路 场效应管:通过改变外加电压产生的电场强度通过改变外加电压产生的电场强度-控制其导控制其导电能力。电能力。优点:体积小、重量轻、耗电少、寿
2、命长,还具有输体积小、重量轻、耗电少、寿命长,还具有输入电阻高、热稳定性好、噪声低、便于集成等特点。入电阻高、热稳定性好、噪声低、便于集成等特点。在大规模集成电路中广泛应用。在大规模集成电路中广泛应用。分类:根据结构不同根据结构不同,可分为结型场效应管可分为结型场效应管(JFET)(JFET)、绝缘栅型场效应管绝缘栅型场效应管(IGFET)(IGFET)。4电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室第五章 场效应管放大电路5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管5.1.1 N5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFETMOSFET5.1.5 MOSFET5.1.5 M
3、OSFET的主要参数的主要参数5.1.2 N5.1.2 N沟道耗尽型沟道耗尽型MOSFETMOSFET5.1.3 P5.1.3 P沟道沟道MOSFETMOSFET5.1.4 5.1.4 沟道长度调制效应沟道长度调制效应5电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室1.结构(N沟道)第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增强型MOSFETL L:沟道长度:沟道长度W W:沟道宽度:沟道宽度t toxox :绝缘层厚度:绝缘层厚度通常通常 W W L L 6电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室1.结构(N沟道)第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增
4、强型MOSFET符号符号剖面图剖面图7电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室2.工作原理第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增强型MOSFET(1 1)V VGSGS对沟道的控制作用对沟道的控制作用当当v vGSGS00时时 无导电沟道,无导电沟道,d d、s s间加电压时,总有间加电压时,总有一个一个PNPN结反偏,无电流产生。结反偏,无电流产生。产生电场,但未形成导电沟道(感生沟产生电场,但未形成导电沟道(感生沟道),道),d d、s s间加电压后,没有电流产生。间加电压后,没有电流产生。当当v vGS GS V VT T 时时 在电场作用下产生导电沟道,在电场
5、作用下产生导电沟道,d d、s s间间加电压后,将有电流产生。加电压后,将有电流产生。v vGSGS越大,导电沟道越厚。越大,导电沟道越厚。V V V VT T T T 称为开启电压称为开启电压称为开启电压称为开启电压当当00v vGS GS V VT T)时,)时,I ID D 沟道电位梯度沟道电位梯度 靠近漏极靠近漏极d d处的电位升高处的电位升高 沟道变薄沟道变薄 电场强度减小电场强度减小整个沟道呈整个沟道呈楔形分布楔形分布9电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室2.工作原理第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增强型MOSFET(2 2)V VDSDS对沟道的
6、控制作用对沟道的控制作用当当v v GSGS一定(一定(v v GS GS V VT T)时,)时,v v DSDS I ID D 沟道电位梯度沟道电位梯度 当当v v DSDS增加到使增加到使v v GDGD=V VT T 时,时,在紧靠漏极处出现预夹断。在紧靠漏极处出现预夹断。在预夹断处:在预夹断处:v v GDGD=v vGSGS-v vDS DS=V VT T10电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室2.工作原理第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增强型MOSFET(2 2)V VDSDS对沟道的控制作用对沟道的控制作用预夹断后,预夹断后,v v DSDS
7、夹断区延长夹断区延长沟道电阻沟道电阻 I ID D基本不变基本不变11电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室2.工作原理第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增强型MOSFET(3 3)v vDSDS和和v vGSGS同时作用时同时作用时 v vDSDS一定,一定,v vGSGS变化时,给定变化时,给定一个一个v vGS GS,就有一条不同的,就有一条不同的I ID D v vDS DS 曲线。曲线。12电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室3.V-I 特性曲线及特性方程第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增强型MOSFET(1 1)输出特
8、性及特性方程)输出特性及特性方程1 1)截止区)截止区 当当v v GSGSV VT T时时,导导电电沟沟道道尚尚未未形形成成,I I D D0 0,为截止工作状态。为截止工作状态。13电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室3.V-I 特性曲线及特性方程第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增强型MOSFET(1 1)输出特性及特性方程)输出特性及特性方程2 2)可变电阻区)可变电阻区 v vDSDS(v vGSGSV VT T)由于由于v vDSDS较小,可近似为:较小,可近似为:R R dsodso是一个受是一个受 v vGSGS控制的控制的可变电阻可变电阻14电
9、气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室3.V-I 特性曲线及特性方程第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增强型MOSFET(1 1)输出特性及特性方程)输出特性及特性方程2 2)可变电阻区)可变电阻区其中其中K Kn n为电导常数,单位:为电导常数,单位:mA/VmA/V2 2受受控制的可变电阻控制的可变电阻15电气信息学院电工电子基础教研室电气信息学院电工电子基础教研室3.V-I 特性曲线及特性方程第五章 场效应管放大电路5.1.1 N沟道增强型MOSFET(1 1)输出特性及特性方程)输出特性及特性方程3 3)饱和区)饱和区(恒流区又称放大区)(恒流区又称放大区)
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