半导体磁敏元件优秀PPT.ppt
《半导体磁敏元件优秀PPT.ppt》由会员分享,可在线阅读,更多相关《半导体磁敏元件优秀PPT.ppt(41页珍藏版)》请在淘文阁 - 分享文档赚钱的网站上搜索。
1、半导体磁敏元件半导体磁敏元件第1页,本讲稿共41页本次课内容1.半导体的磁敏效应2.霍尔元件3 霍尔元件的应用4 磁阻元件5 磁阻元件的应用6 磁敏二极管7 磁敏三极管8 磁敏集成电路第2页,本讲稿共41页1.1.半导体的磁敏效应半导体的磁敏效应1.1霍尔效应 半导体的磁敏效应是指半导体在电场和磁场作用下表现出来的霍尔效应、磁阻效应、热磁效应和光磁电效应等。洛仑兹力:电场力:当达到动态平衡时RH霍耳系数,由载流材料物理性质决定;第3页,本讲稿共41页1.1.半导体的磁敏效应半导体的磁敏效应1.2 霍尔系数金属材料:电子很高,但很小;绝缘材料:很高,但很小;为获得较强霍耳效应,霍耳片大多采用半导
2、体材料制成;由于电子迁移率比空穴大,一般采用N型材料。设 KH=RH /d KH乘积灵敏度。与载流材料的物理性质和几何尺寸有关,表示在单位磁感应强度和单位控制电流时霍耳电势的大小。VH KH I B若B方向与霍耳器件平面法线夹角为时,霍耳电势为:VH KH I B cos 注:当控制电流的方向或磁场方向改变时,输出霍耳电势的方向也改变。但当磁场与电流同时改变方向时,霍耳电势并不改变方向。第4页,本讲稿共41页A,B 为控制电流端子,C,D 为霍尔电压输出端子,称这种结构为霍尔片,在霍尔片上焊引出线,外面封装上非磁性金属、陶瓷或环氧树脂等外壳即成为霍尔元件,在C、D 两输出端子输出霍尔电压。2
3、霍尔元件2.1霍尔元件结构2.2 霍尔角 霍尔元件电场E 和电流密度Jn不在同一方向,它们间夹角H称为霍尔角tanH=Ey/Ex第5页,本讲稿共41页 霍尔片的几何尺寸对电场和霍尔电压有影响,电流控制电极对霍尔电压存在短路作用。另外,几何形状也影响了霍尔电压和内阻的大小。2.32.3霍尔元件霍尔元件驱动方式2 霍尔元件VH=RHICB/d 恒流驱动:VH=(W/L)VinnB恒压驱动:2.4 2.4 形状系数形状系数 VH(x=0)=VH(x=L)=0 VH=(RHICB/d)f(L/W,H)考虑影响后改写为:f(L/W,H)称为形状效应系数霍尔元件时通常选择L/W2。第6页,本讲稿共41页2
4、.5 2.5 制造工艺制造工艺2 霍尔元件分立元件型和集成电路型在分立元件型中,由于材料和制造工艺的不同,分为单晶型和薄膜型。单晶型霍尔元件工艺硅、锗、砷化镓和锑化铟等材料:氧化、腐蚀、光刻、扩散、制作电极、焊接引线、涂保护层、中测和封装等。高阻率的单晶,直接制作欧姆接触良好的电极比较困难。采用多种金属合金方法降低接触点整流效应和接触电阻,通常在浓磷N+接触孔上镀一层金属镍,高温处理后使镍扩散到N+区。再镀一层金属作为引线焊接点,形成良好的欧姆接触。平面工艺:合金化工艺:第7页,本讲稿共41页(4)阴极溅射多晶InSb,在基片上形成多晶InSb薄膜。2 霍尔元件 薄膜霍尔元件工艺材料:InSb
5、薄膜工艺:(1)用两个蒸发源分别蒸发In和Sb,在基片上形成多晶InSb薄膜;(2)将InSb粉末撒在高温蒸发源上,在基片上形成多晶InSb薄膜;(3)用蒸发源蒸发InSb,在蒸发源和基片之间安装一个离子化电源,使蒸发的InSb分子或分子团变成离子或离子团,然后沉积到基片上形成多晶InSb薄膜;第8页,本讲稿共41页2.6 2.6 主要参数主要参数2 霍尔元件(1)输入电阻Rin在规定条件下(一般B=0,Ic=0.1mA)控制(激励)电流两个电极之间的电阻。(2)输出电阻Rout在规定条件下(一般B=0,Ic=0.1mA),无负载情况时两个输出电极之间的电阻。(3)额定控制电流IC在B=0时,
6、环境温度为25的条件下,霍尔元件由焦耳热引起的温度升高10时,所通过的控制电流IC。(4)最大允许控制电流ICM霍尔元件在最高允许使用温度 下的允许最大控制电流。一般元件Tj=80。(5)不等位电势VM额定控制电流作用下,无外加磁场时,输出(霍尔)电极间的开路电压不为零;第9页,本讲稿共41页2 霍尔元件(6)不等位电阻RM不等位电势VM与控制电流IC之比;(7)磁灵敏度SBSB=VH/B(8)乘积灵敏度SH SH=VH/ICB=RH/d(9)霍尔电压温度系数(10)内阻温度系数(11)热阻Rth霍尔元件工作时功耗每增加1W,霍尔元件升高的温度值称为它的热阻。=VH/T=R/T2.6 2.6
7、主要参数主要参数第10页,本讲稿共41页2.7 霍尔元件的补偿技术2 霍尔元件 造成测量误差的主要原因 半导体材料的电阻率、迁移率和载流子浓度等都是随温度变化而变化的。霍尔元件的性能参数,如内阻、霍尔电势等也将随温度变化而变化。(2)制造工艺的缺陷 表现形式:(2)零点误差(1)温度变化引起的误差 霍尔元件的补偿(2)零点补偿(1)温度补偿(1)半导体的固有特性第11页,本讲稿共41页恒流源并联电阻进行温度补偿恒流源并联电阻进行温度补偿2 霍尔元件霍尔元件的补偿技术霍尔元件的补偿技术A 温度补偿VH=RHICB/d温度升到T时,电路中各参数变为 温度为T0时分流电阻温度系数;输入电阻温度系数;
8、第12页,本讲稿共41页升温前、后的霍尔电势不变经整理,忽略 高次项后得 2 霍尔元件恒流源并联电阻进行温度补偿恒流源并联电阻进行温度补偿A 温度补偿第13页,本讲稿共41页恒压源进行温度补偿恒压源进行温度补偿2 霍尔元件A 温度补偿温度为T0时温度为T时教材上,未考虑r0的温度系数;第14页,本讲稿共41页B 霍尔元件不等位电势的补偿2 霍尔元件 对不等位电势进行补偿,采用电桥平衡原理。根据A,B两点电位高低,判断哪一桥臂电阻较大,就在这一桥臂上并联一个电阻使桥路平衡,消除不等位电势。第15页,本讲稿共41页3 霍尔元件的应用磁场变化曲线3.1霍尔位移传感器注:霍尔电压与位移量x成线性关系,
9、同时霍尔电压的极性反映了位移的方向。VH=Kx磁感应强度的梯度越大,灵敏度越高;磁场梯度越均匀,输出线性越良好。基于霍尔效应制成的位移传感器一般用来测量12mm的小位移,特点:惯性小,响应速度快。第16页,本讲稿共41页 3.2 霍尔式转速传感器3 霍尔元件的应用 被测转轴转动时,磁性转盘随之转动,固定在磁性转盘附近的霍尔传感器在每一个小磁铁通过时产生一个脉冲,检测出单位时间的脉冲数,可知被测转速。转盘上小磁铁数目的多少决定了传感器测量转速的分辨率。3.3 霍尔式加速度传感器第17页,本讲稿共41页3 霍尔元件的应用3.4霍尔电流传感器直接检测式(也称磁强计式)和磁平衡式安培环路定律B=I/2
10、r 当电流流过导线时,将在导线周围产生磁场,磁场大小与流过导线的电流大小成正比,这一磁场可以通过软磁材料来聚集,然后用霍尔器件进行检测。第18页,本讲稿共41页3 霍尔元件的应用3.5霍尔元件的基本电路 霍尔元件的转换效率较低,实际应用中,可将几个霍尔元件的输出串联或采用运算放大器放大,以获得较大的UH。基本电路第19页,本讲稿共41页4.1 4.1 磁阻效应磁阻效应 电流和磁场作用以及形状和尺寸不同引起半导体的电阻变化的现象称半导体磁阻效应,前者称物理磁阻效应,后者称几何磁阻效应。4 磁阻元件4.2 物理磁阻效应 外磁场与外电场的方向是垂直的,称为横向磁阻效应。载流子运动轨迹注:在弱磁场时,
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 半导体 元件 优秀 PPT
限制150内