第1章 晶体二极管精.ppt
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1、第1章晶体二极管1 1第1页,本讲稿共82页是重要的技术(专业)基础课是重要的技术(专业)基础课是电子信息类专业的主干课程是电子信息类专业的主干课程是强调硬件应用能力的工程类课程是强调硬件应用能力的工程类课程是工程师训练的基本入门课程是工程师训练的基本入门课程是很多重点大学的考研课程是很多重点大学的考研课程课程地位与课程体系2 2第2页,本讲稿共82页主要学习和掌握电子技术的硬件知识和应用实践能力学好用好电子线路是电子工程师所应具备的基本功“和“看家本领”学好电子线路的定义3 3第3页,本讲稿共82页电子线路学习方法进得去,出得来既见树木,又见森林4 4第4页,本讲稿共82页强调自学能力,注意
2、学习方法。入门时可能会遇到一些困难。注意不断改进、总结和调整、提高。怎样学好这门课5 5第5页,本讲稿共82页“爱好”和“志向”很重要!“兴趣是最好的老师”学习主观能动性是学好这门课的“关键”。“让我学”和“我要学”教学相长“教师是启发和引导者”“好学生不是教出来的”几点建议:几点建议:6 6第6页,本讲稿共82页“知识是干粮,能力是猎枪,素质是指南针”一段话:7 7第7页,本讲稿共82页文科的课堂是书籍和社会理工科的课堂是实验室和公司企业文科和理工科文科和理工科8 8第8页,本讲稿共82页电子线路考核方式总成绩总成绩=卷面成绩卷面成绩85(80)%+平时成绩平时成绩15(20)%注:卷面成绩
3、注:卷面成绩95分分作业本一个未用完,不能换;抄写题目带图。作业本一个未用完,不能换;抄写题目带图。实验课的安排9 9第9页,本讲稿共82页电子线路基本内容(64)第1章 晶体二极管(8)第2章 晶体三极管(10)第3章 场效应管(7)第4章 放大器基础(19)第5章 放大器中的负反馈(12)第6章 集成运算放大器及其应用电路(8)基本元器件放大器1010第10页,本讲稿共82页1.1半导体物理基础知识1.2PN结1.3晶体二极管电路分析方法1.4晶体二极管的应用晶晶体体二二极极管管*1.5其他二极管1111第11页,本讲稿共82页2.1放大模式下晶体三极管的工作原理2.2晶体三极管的其他工作
4、模式2.3埃伯尔斯埃伯尔斯莫尔模型莫尔模型2.4晶体三极管伏安特性曲线2.5晶体三极管小信号电路模型2.6晶体三极管电路分析方法2.7晶体三极管的应用原理晶晶体体三三极极管管*2.8集成工艺1212第12页,本讲稿共82页3.1 MOS场效应管3.2 结型场效应管3.3 场效管应用原理场场效效应应管管1313第13页,本讲稿共82页4.1偏置电路和耦合方式4.2放大器的性能指标4.3基本组态放大器4.4差分放大器4.5电流源电路及其应用4.6集成运算放大器4.7放大器的频率响应放放大大器器基基础础*4.8放大器的噪声1414第14页,本讲稿共82页5.2负反馈对放大器性能的影响5.4深度负反馈
5、*5.3负反馈放大器的性能分析5.1反馈放大器的基本概念5.5负反馈放大器的稳定性放放大大器器中中的的负负反反馈馈 1515第15页,本讲稿共82页6.2集成运放性能参数及对应用电路的影响6.4集成电压比较器*6.3高精度和高速宽带集成运放6.1集成运放应用电路的组成原理 集集成成运运算算放放大大器器及及其其应应用用电电路路 1616第16页,本讲稿共82页第第 1 章晶体二极管章晶体二极管1.0概述概述1.1半导体物理基础知识半导体物理基础知识1.2PN 结结1.3晶体二极管电路分析方法晶体二极管电路分析方法1.4晶体二极管的应用晶体二极管的应用1717第17页,本讲稿共82页概概 述述晶体
6、二极管结构及电路符号:晶体二极管结构及电路符号:PN 结正偏结正偏(P 接接+、N 接接-)-),D 导通。导通。PN正极负极晶体二极管的主要特性:晶体二极管的主要特性:单向导电性单向导电性PN 结反偏结反偏(N 接接+、P 接接-)-),D 截止。截止。即即主要用途:主要用途:用于整流、开关、检波电路中。用于整流、开关、检波电路中。第 1章晶体二极管单向导电性:单向导电性:允许一个方向电流顺利流通的特性。允许一个方向电流顺利流通的特性。+-D1818第18页,本讲稿共82页半导体二极管图片第 1章晶体二极管1919第19页,本讲稿共82页半导体二极管图片第 1章晶体二极管2020第20页,本
7、讲稿共82页半导体二极管图片第 1章晶体二极管2121第21页,本讲稿共82页半导体二极管图片第 1章晶体二极管2222第22页,本讲稿共82页1.1半导体物理基础知识半导体物理基础知识半导体:半导体:导电能力介于导体与绝缘体之间的物质。导电能力介于导体与绝缘体之间的物质。硅硅(Si)、锗、锗(Ge)原子结构及简化模型:原子结构及简化模型:+14 2 8 4+32 2 8418+4价电子惯性核第 1章晶体二极管主要材料:主要材料:硅硅(Si),应用最广泛。,应用最广泛。锗锗(Ge)砷化镓(砷化镓(GaAsGaAs),),主要制作高频高速器。主要制作高频高速器。2323第23页,本讲稿共82页硅
8、和锗的单晶称为硅和锗的单晶称为本征半导体本征半导体。它们是制造半导体器件。它们是制造半导体器件的基本材料。的基本材料。+4+4+4+4+4+4+4+4硅和锗共价键结构示意图:硅和锗共价键结构示意图:共价键1.1.1本征半导体本征半导体第 1章晶体二极管一、本征半导体一、本征半导体2424第24页,本讲稿共82页二、本征激发二、本征激发q 当 T升高或光线照射时产生自由电子空穴对。q 共价键具有很强的结合力。共价键具有很强的结合力。当当 T=0 K(无外界影无外界影响响)时,共价键中无自由移动的电子。时,共价键中无自由移动的电子。这种现象称这种现象称本征激发本征激发。第 1章晶体二极管+4+4+
9、4+4+4+4+4+42525第25页,本讲稿共82页当当原原子子中中的的价价电电子子激激发发为为自自由由电电子子时时,原原子子中中留留下下空空位位,同同时时原原子子因因失失去去价价电电子子而而带带正正电。电。当邻近原子中的价电子不断填补这些空位时形成一种当邻近原子中的价电子不断填补这些空位时形成一种运动,该运动可等效地看作是运动,该运动可等效地看作是空穴的运动空穴的运动。注意:注意:空穴运动方向与价电子填补空穴运动方向与价电子填补方向相反方向相反。自由电子自由电子 带负电带负电半导体中有两种导电的载流子半导体中有两种导电的载流子空穴的运动空穴的运动空空 穴穴 带正电带正电第 1章晶体二极管空
10、穴的出现是半导体区别于导体的重要特征。空穴的出现是半导体区别于导体的重要特征。2626第26页,本讲稿共82页温度一定时:温度一定时:激发与复合在某一热平衡值上达到激发与复合在某一热平衡值上达到动态平衡。动态平衡。三、热平衡载流子浓度三、热平衡载流子浓度热平衡载流子浓度:热平衡载流子浓度:本征半导体中本征激发本征激发产生产生自由电子空穴对。自由电子空穴对。电子和空穴相遇释放能量电子和空穴相遇释放能量复合。复合。T导电能力ni或光照热敏特性光敏特性第 1章晶体二极管T=300K时,(硅)(锗)式中:式中:A:A:常数常数 硅为硅为 3.88 103.88 101616cmcm-3-3K K-3/
11、2-3/2 锗为锗为 1.671.67 10101616cmcm-3-3K K-3/2-3/2K:K:玻尔兹曼常数玻尔兹曼常数(8.63 10(8.63 10-5-5eV/K)eV/K)E Eg0g0:T=0KT=0K时的禁带宽度时的禁带宽度(硅为硅为1.21eV 1.21eV 锗为锗为0.785eV)0.785eV)Si原子密度:2727第27页,本讲稿共82页一、一、N 型半导体型半导体1.1.2杂质半导体杂质半导体+4+4+5+4+4简化模型:简化模型:N型半导体多子多子自由电子自由电子少子少子空穴空穴自由电子本征半导体中掺入少量本征半导体中掺入少量五价五价元素元素(磷磷磷磷 锑锑锑锑
12、砷砷砷砷 )构成。构成。第 1章晶体二极管五价元素:施主杂质五价元素:施主杂质杂质浓度:杂质浓度:N Nd d2828第28页,本讲稿共82页二、二、P 型半导体型半导体+4+4+3+4+4简化模型:简化模型:P型半导体少子少子自由电子自由电子多子多子空穴空穴空 穴本征半导体中掺入少量本征半导体中掺入少量三价三价元素元素(硼硼 镓镓 铟铟 )构成。构成。第 1章晶体二极管三价元素:受主杂质三价元素:受主杂质杂质浓度:杂质浓度:NaNa2929第29页,本讲稿共82页三、杂质半导体中载流浓度计算三、杂质半导体中载流浓度计算杂质半导体呈电中性少子浓度取决于温度。多子浓度取决于掺杂浓度。第 1章晶体
13、二极管热平衡条件热平衡条件:多子浓度与少子浓度的乘积多子浓度与少子浓度的乘积=本征半导体载流子本征半导体载流子 浓度浓度ni的平方的平方电中性条件电中性条件:多子浓度多子浓度=参杂浓度参杂浓度+少子浓度少子浓度;(半导体中的正电荷量(半导体中的正电荷量=负荷电量)负荷电量)即得热平衡方程:其中:n0电子浓度p0空穴浓度ni本征载流子浓度N型:即得电中性方程:P型:(Ndp0)(Nan0)3030第30页,本讲稿共82页有例题得结论 2.少量掺杂,载流子显著增加,导电能力增强。3.多子浓度近似等于掺杂浓度,与温度无关,少子浓度随温度升高显著增加。4.当温度升高,杂质半导体会变成本征半导体。5.掺
14、入不同的杂质元素,能改变杂质半导体的导电类型,这是制造PN结的一种主要方法。1.掺杂后:多子少子。3131第31页,本讲稿共82页1.1.3两种导电机理两种导电机理漂移和扩散漂移和扩散一、漂移与漂移电流一、漂移与漂移电流载流子在电场作用下的运动称载流子在电场作用下的运动称漂移运动,漂移运动,所形成的电流称所形成的电流称漂移电流。漂移电流。漂移电流密度总漂移电流密度:迁移率第 1章晶体二极管迁移率:迁移率:单位场强下的平均漂移速度。单位场强下的平均漂移速度。3232第32页,本讲稿共82页 半导体的电导率半导体的电导率电压:电压:V=E l电流:电流:I=S Jt+-V长度 l截面积 S电场 E
15、I电阻:电导率:第 1章晶体二极管光导电率:光导电率:3333第33页,本讲稿共82页载载流流子子在在浓浓度度差差作作用用下下的的运运动动称称扩扩散散运运动动,所所形形成成的的电电流流称称扩散电流。扩散电流。扩散电流密度:扩散电流密度:二、扩散与扩散电流N型 硅光照n(x)p(x)载流子浓度xn0p0第 1章晶体二极管扩散电流是扩散电流是半导体的特有电流。半导体的特有电流。3434第34页,本讲稿共82页小结 1.1.半导体依靠自由电子和空穴两种载流子导电。半导体依靠自由电子和空穴两种载流子导电。本征半导体本征半导体 存在本征激发和复合,两种载流子电子和空穴成对存在本征激发和复合,两种载流子电
16、子和空穴成对出现,其浓度随温度升高迅速增大。出现,其浓度随温度升高迅速增大。2.2.2.2.杂质半导体杂质半导体杂质半导体杂质半导体 掺杂掺杂掺杂掺杂 多子多子多子多子 少子少子少子少子N N N N型半导体:型半导体:型半导体:型半导体:+5+5+5+5价价价价 磷磷磷磷Nd Nd Nd Nd 电子电子电子电子 空穴空穴空穴空穴 施主杂质施主杂质施主杂质施主杂质P P P P型半导体:型半导体:型半导体:型半导体:+3+3+3+3价价价价 硼硼硼硼Na Na Na Na 空穴空穴空穴空穴 电子电子电子电子 受主杂质受主杂质受主杂质受主杂质3.3.3.3.半导体两种导电方式:半导体两种导电方式
17、:漂移、扩散。漂移、扩散。漂移、扩散。漂移、扩散。3535第35页,本讲稿共82页1.2PN 结结利利用用掺掺杂杂工工艺艺,把把 P 型型半半导导体体和和 N 型型半半导导体体在在原原子子级级上上紧紧密密结结合合,P 区与区与 N 区的交界面就形成了区的交界面就形成了 PN 结。结。第 1章晶体二极管(a)点接触型(b)面接触型(c)平面型结构类型:结构类型:点接触型点接触型 、面接触型、平面型、面接触型、平面型3636第36页,本讲稿共82页掺杂N 型型P型PN 结结第 1章晶体二极管内建电场EIDIT空间电荷区:耗尽区、阻挡层、势垒区空间电荷区:耗尽区、阻挡层、势垒区1.2.1动态平衡下的
18、动态平衡下的 PN 结结一、一、PN 结形成的物理过程结形成的物理过程扩散电流扩散电流漂移电流漂移电流3737第37页,本讲稿共82页阻止多子扩散阻止多子扩散出现内建电场开始因浓度差产生空间电荷区引起多子扩散利于少子漂移利于少子漂移最终达动态平衡注意:PN结处于动态平衡(ID=IT)时,扩散电流与漂移电流相抵消,通过 PN结的电流为零。第 1章晶体二极管总结PN结形成的物理过程:3838第38页,本讲稿共82页二、内建电位差:室温时锗管 VB0.20.3V硅管 VB0.50.7V三、阻挡层宽度:注意:注意:掺杂浓度掺杂浓度(Na、Nd)越大,内建电位差越大,内建电位差 VB越大,阻越大,阻 挡
19、层宽度挡层宽度 l0 越小。越小。第 1章晶体二极管温度每升高温度每升高 1,VB约减小约减小 2.5 mV。T=300K时,热电压阻挡层任一侧宽度与该侧掺杂浓度成反比:阻挡层任一侧宽度与该侧掺杂浓度成反比:3939第39页,本讲稿共82页1.2.2PN 结的伏安特性结的伏安特性一、正向特性一、正向特性P+N内建电场 El0+-VPN结正偏阻挡层变薄内建电场减弱多子扩散 少子漂移多子扩散形成较大的正向电流 IPN结导通I电压 V 电流 I 第 1章晶体二极管4040第40页,本讲稿共82页二、反向特性二、反向特性P+N内建电场 El0-+VPN结反偏阻挡层变宽内建电场增强少子漂移多子扩散少子漂
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