AES表面分析方法.pptx
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1、 俄歇电子能谱 (Auger Electron Spectroscopy 简称AES)一、简介 二、基本原理 三、定性及定量分析方法 四、俄歇谱仪介绍 五、主要应用 第1页/共47页一般仪器原理示意图第2页/共47页一、简介简介 当电子束照射到样品表面时,将有带着该样品特征当电子束照射到样品表面时,将有带着该样品特征 的的Auger电子从样品表面发射。从电子从样品表面发射。从Auger电子可以得到电子可以得到 如下信息:如下信息:发射的发射的Auger电子能量电子能量 确定元素种类确定元素种类 Auger电子数量电子数量 元素含量元素含量 电子束聚焦、偏转和扫描电子束聚焦、偏转和扫描 元素面分
2、布元素面分布 离子束溅射刻蚀离子束溅射刻蚀 元素深度分布元素深度分布 AES是一种重要的是一种重要的材料成分分析技术材料成分分析技术。其最大特点是:。其最大特点是:信息来自表面信息来自表面(3-30)具有微区分析能力(横向与深度分辨率好)具有微区分析能力(横向与深度分辨率好)定量分析较好定量分析较好第3页/共47页二二、基础知识基础知识 1.俄歇效应俄歇效应(1925年,年,法国人法国人 P.Auger)用某种方法使原子内层电子用某种方法使原子内层电子(如如K层层)电离出去,内电离出去,内层出现空位。电离原子去激发可采用如下两种形式:层出现空位。电离原子去激发可采用如下两种形式:第4页/共47
3、页第5页/共47页 辐射跃迁:一外层电子填充空位后,发射出特征X射线 (例L3上电子填充K能级上空位,发出X射线K1)无辐射过程(即Auger过程):一外层电子填充空位,使 另一个电子脱离原子发射 出去 (例L1上电子填充K能级空位,同时L3上的电子发射出去,称KL1L3俄歇跃迁)。第6页/共47页特点特点:第二个电子在弛豫过程中释放的能量,须大于或第二个电子在弛豫过程中释放的能量,须大于或 至少等于第三个电子的束缚能。至少等于第三个电子的束缚能。终态为二重电离状态。终态为二重电离状态。H和和He只有一个只有一个K壳层,最多只有壳层,最多只有2个电子,无法个电子,无法 产产 生生Auger跃迁
4、。跃迁。C-K跃迁跃迁(Coster-Kronig跃迁跃迁):终态空位之一与初态空位处于同一主壳层内终态空位之一与初态空位处于同一主壳层内即即 WiWpYq(p i)超超C-K跃迁跃迁:两终态都与初态空位处于同一主壳层内两终态都与初态空位处于同一主壳层内即即WiWpWq(p i,q i)C-K跃跃迁迁速速度度快快,t小小,由由测测不不准准原原理理(E)(t)h,E大,带来能量的分散,使谱线展宽。大,带来能量的分散,使谱线展宽。第7页/共47页2.俄歇电子能量俄歇电子能量 EABC=EA(Z)-EB(Z)-EC(Z)EA、EB、EC分别分别为为A、B、C能级上电子的结能级上电子的结合能,合能,是
5、原子序数为是原子序数为Z的的元素的函数,是该种元素元素的函数,是该种元素原子所特有的,因此原子所特有的,因此EABC也是该种元素特有的。也是该种元素特有的。修正:修正:EABC=EA(Z)-1/2EB(Z)+EB(Z+1)-1/2EC(Z)+EC(Z+1)相邻原子序数相邻原子序数 该能级的能量该能级的能量第8页/共47页第9页/共47页 特点:一种原子可能产生几组不同能级组合的俄歇跃迁,因而可以有若干不同特征能量的俄歇电子。可能出现的俄歇跃迁数随原子序数增大(壳层数增多)而迅速增加。俄歇电子的能量大多在50-2000eV (不随入射电子能量改变)主峰 通过实验和计算得到He以后所有元素的各组基
6、本俄歇跃迁的特征能量。第10页/共47页 3俄歇电流俄歇电流 俄歇电流的大小,即俄歇峰所包含的电子数,俄歇电流的大小,即俄歇峰所包含的电子数,表示所含元素原子的多少。表示所含元素原子的多少。俄歇电子从固体表面的发射过程俄歇电子从固体表面的发射过程:产生内层电离的原子电子碰撞电离截面产生内层电离的原子电子碰撞电离截面 俄歇跃迁过程俄歇跃迁几率俄歇跃迁过程俄歇跃迁几率 俄歇电子从产生处输运到表面,从固体表面俄歇电子从产生处输运到表面,从固体表面 逸出逸出深度逸出逸出深度第11页/共47页(1)电子碰撞电离截面 QA 入射电子与原子相互作用时,内层能级A上产生空位的几率。设 U=Ep/EA Ep:入
7、射电子能量 EA:内层能级束缚能 通过理论计算及实验测定,得到如下公式:QA=EA-2(lnU/U)2 可见:U必须 1 1 即Ep EA 曲线有最大值,当 U 2.7 时 (Ep为EA的2.7倍)电离截面取决于束缚能 实验数值:内层束缚能:1keV 入射电子能量:3-5keV U:3-4第12页/共47页(2)俄歇跃迁几率俄歇跃迁几率 PR:X射线辐射几率射线辐射几率 PA:俄歇电子跃迁几率:俄歇电子跃迁几率 PR PA 1 荧光几率与俄歇几率荧光几率与俄歇几率(初态在初态在K层层)对于对于Z15,采用,采用K系列荧光几率很小系列荧光几率很小 荧光产额与束缚能荧光产额与束缚能 荧光几率随束缚
8、能的增大而增大,而束缚能随荧光几率随束缚能的增大而增大,而束缚能随 壳层由内向外逐渐减小壳层由内向外逐渐减小 依次采用依次采用K、L、M系列荧光几率可保持较小数系列荧光几率可保持较小数 对于同一壳层上的束缚能随原子序数增加而增加对于同一壳层上的束缚能随原子序数增加而增加 对轻元素分析特别灵敏。对轻元素分析特别灵敏。选取适合系列,退激发过程可认为仅有俄歇过程选取适合系列,退激发过程可认为仅有俄歇过程。第13页/共47页(3)俄歇电子逸出深度俄歇电子逸出深度 俄歇电子的逸出深度在小于或等于其在固体中的平均自由程俄歇电子的逸出深度在小于或等于其在固体中的平均自由程时,才能得到有价值的俄歇信息。时,才
9、能得到有价值的俄歇信息。N=N0e-z/:非弹性散射平均自由程:非弹性散射平均自由程逸出深度逸出深度 z:垂直于表面,指向外部:垂直于表面,指向外部 平均逸出深度与俄歇电子能量(对纯元素与元素种类关系不大)平均逸出深度与俄歇电子能量(对纯元素与元素种类关系不大)在高能段在高能段 E E0.70.7 当俄歇电子能量为当俄歇电子能量为 0-2000eV,逸出深度为逸出深度为330,平均逸出深度平均逸出深度 10。第14页/共47页 (4)背向散射电子激发的俄歇发射背向散射电子激发的俄歇发射 当背向散射电子能量当背向散射电子能量EA,亦能使原子激发,亦能使原子激发,产生俄歇过程。产生俄歇过程。激发俄
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