ch双极型三极管.pptx
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1、一、三极管的结构国产的三极管,目前最常见的结构有硅平面管和锗合金管两种类型。图三极管的结构(a)平面型(NPN)(b)合金型(PNP)NecNPb二氧化硅becPNPe 发射极,b基 极,c 集电极。第1页/共33页图 NPN 型三极管结构示意图和符号ecb符号集电区集电结基区发射结发射区集电极 c基极 b发射极 eNNP第2页/共33页集电区集电结基区发射结发射区集电极 c发射极 e基极 bcbe符号NNPPN图 2.4 PNP 型三极管结构示意图和符号第3页/共33页以 NPN 型三极管为例讨论图三极管中的两个 PN 结cNNPebbec表面看若要使三极管实现放大,必须由三极管的内部结构和
2、外部所加电源的极性两方面的条件来保证。不具备放大作用三极管的电流分配与放大原理三极管的电流分配与放大原理第4页/共33页三极管内部结构要求:NNPebcN N NP P P1.发射区高掺杂。2.基区做得很薄。通常只有几微米到几十微米,而且掺杂较少。三极管放大的外部条件:外加电源的极性应使发射结处于正向偏置,而集电结处于反向偏置状态。3.集电结面积大。第5页/共33页becRcRb三极管中载流子运动过程I EIB1.发射发射区的电子越过发射结扩散到基区,基区的空穴扩散到发射区形成发射极电流 IE(基区多子数目较少,空穴电流可忽略)。2.复合和扩散电子到达基区,少数与空穴复合形成基极电流 Ibn,
3、复合掉的空穴由 VBB 补充。多数电子在基区继续扩散,到达集电结的一侧。图 三极管中载流子的运动第6页/共33页becI EI BRcRb三极管中载流子运动过程3.收集集电结反偏,有利于收集基区扩散过来的电子而形成集电极电流 Icn。其能量来自外接电源 VCC。I C另外,集电区和基区的少子在外电场VCC的作用下将(被吸引过来)进行漂移运动而形成反向饱和电流,用ICBO表示。ICBO图 三极管中载流子的运动第7页/共33页beceRcRbIEpICBOIEICIBIEnIBnICnIC=ICn+ICBO ICn IE=ICn+IBn+ICEO 一般要求 ICn 在 IE 中占的比例尽量大。而二
4、者之比定义为共基极直流电流放大系数,即一般可达 三极管的电流分配关系(动画)第8页/共33页三个极的电流之间满足节点电流定律,即IE=IC+IB定义共发射极直流电流放大倍数:第9页/共33页表一:一组三极管电流关系典型数据IB/mA 0.001 0 0.01 0.02 0.03 0.04 0.05IC/mA 0.001 0.01 0.56 1.14 1.74 2.33 2.91 IE/mA 0 0.01 0.57 1.16 1.77 2.37 2.961.任何一列电流关系符合 IE=IC+IB,IB IC 0 时的输入特性曲线当 UCE 0 时,这个电压有利于将发射区扩散到基区的电子收集到集电
5、极。UCE UBE,三极管处于放大状态。*特性右移(因集电结开始吸引电子)OIB/AUCE 1 时的输入特性具有实用意义。IBUCEICVCCRbVBBcebRCV+V+A+mAUBE*UCE 1 V,特性曲线重合。三极管共射特性曲线测试电路三极管的输入特性第15页/共33页NPN 三极管的输出特性曲线IC/mAUCE /V100 A80A60 A40 A20 AIB=0O 5 10 154321划分三个区:截止区、放大区和饱和区。截止区放大区饱和区放大区1.截止区IB 0 的区域。两个结都处于反向偏置。IB=0 时,IC=ICEO。硅管约等于 1 A,锗管约为几十 几百微安。截止区截止区二、
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