《场效应管简介》课件.ppt
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1、场效应管简介场效应管简介简介简介 场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。由多数载流子参与导电,也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件。具有输入电阻高(108109)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。基本特点基本特点 场效应管场效应管属于电压控制元件,这一点类似于电子管的三属于电压控制元件,这一点类似于电子管的三极管,但它的构造与工作原理和电子管是截然不同的,与极管,但它的构造与工作原理和电子管是截然不同的,与双极型晶体管相比,场效应晶体管具有如
2、下特点:双极型晶体管相比,场效应晶体管具有如下特点:(1 1)场效应管是电压控制器件,它通过)场效应管是电压控制器件,它通过VGSVGS来控制来控制IDID;(2 2)场效应管的输入端电流极小,因此它的输入电阻很大。)场效应管的输入端电流极小,因此它的输入电阻很大。(3 3)它是利用多数载流子导电,因此它的温度稳定性较好;)它是利用多数载流子导电,因此它的温度稳定性较好;(4 4)它组成的放大电路的电压放大系数要小于三极管组成放)它组成的放大电路的电压放大系数要小于三极管组成放大电路的电大电路的电 压放大系数;压放大系数;(5 5)场效应管的抗辐射能力强;)场效应管的抗辐射能力强;(6 6)由
3、于不存在杂乱运动的少子扩散引起的散)由于不存在杂乱运动的少子扩散引起的散工作原理工作原理 场效应管场效应管工工工工作原理用一句话说,就是作原理用一句话说,就是“漏极漏极-源极间流经沟道的源极间流经沟道的IDID,用以门极与沟道间的用以门极与沟道间的pnpn结形成的反偏的门极电压控制结形成的反偏的门极电压控制ID”ID”。更正确地说,更正确地说,IDID流经通路的宽度,即沟道截面积,它是由流经通路的宽度,即沟道截面积,它是由pnpn结反偏结反偏的变化,产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在的变化,产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在VGS=0VGS=0的非饱和区域,表的非饱和区域,表示的过渡层的扩展因为不
4、很大,根据漏极示的过渡层的扩展因为不很大,根据漏极-源极间所加源极间所加VDSVDS的电场,源极的电场,源极区域的某些电子被漏极拉去,即从漏极向源极有电流区域的某些电子被漏极拉去,即从漏极向源极有电流IDID流动。从门极向流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型,漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型,IDID饱和。将这种状态称饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡,并不是电流被切断。为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡,并不是电流被切断。在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动,在理想状态下几乎具有绝缘在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动,在理想状态下几乎
5、具有绝缘特性,通常电流也难流动。但是此时漏极特性,通常电流也难流动。但是此时漏极-源极间的电场,实际上是两个源极间的电场,实际上是两个过渡层接触漏极与门极下部附近,由于漂移电场拉去的高速电子通过过过渡层接触漏极与门极下部附近,由于漂移电场拉去的高速电子通过过渡层。因漂移电场的强度几乎不变产生渡层。因漂移电场的强度几乎不变产生IDID的饱和现象。其次,的饱和现象。其次,VGSVGS向负的向负的方向变化,让方向变化,让VGS=VGS(off)VGS=VGS(off),此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。,此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。而且而且VDSVDS的电场大部分加到过渡层上,将电子拉向漂
6、移方向的电场,只有的电场大部分加到过渡层上,将电子拉向漂移方向的电场,只有靠近源极的很短部分,这更使电流不能流通靠近源极的很短部分,这更使电流不能流通。主要作用主要作用 1.1.场效应管场效应管可应用于放大。由于场效应管放大器可应用于放大。由于场效应管放大器的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较小,的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较小,不必使用电解电容器。不必使用电解电容器。2.2.场效应管很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。场效应管很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。3.3.场效应管可以用作可变电阻。场效应管可以用作可变
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