模拟电子技术基础黄瑞祥半导体二极管PPT学习教案.pptx
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1、会计学1模拟电子模拟电子(dinz)技术基础技术基础 黄瑞祥黄瑞祥 半导体半导体二极管二极管第一页,共69页。2 2 半导体二极管及其基本半导体二极管及其基本半导体二极管及其基本半导体二极管及其基本(jbn)(jbn)电路电路电路电路2.1 2.1 半导体基础知识半导体基础知识2.2 PN2.2 PN结的形成结的形成(xngchng)(xngchng)和特性和特性2.3 2.3 半导体二极管的结构及指标参数半导体二极管的结构及指标参数2.4 2.4 二极管电路的分析方法与应用二极管电路的分析方法与应用2.5 2.5 特殊二极管特殊二极管第1页/共69页第二页,共69页。半导体材料半导体材料半导
2、体材料半导体材料(cilio)(cilio)根据物体导电能力根据物体导电能力(电阻率电阻率)的不同,来划分导体、绝缘体和的不同,来划分导体、绝缘体和半导体。半导体。典型的半导体有硅(典型的半导体有硅(SiSi)和锗()和锗(GeGe)以及)以及(yj)(yj)砷化镓砷化镓(GaAsGaAs)等,还有掺杂或制成其他化合物半导体材料,如)等,还有掺杂或制成其他化合物半导体材料,如硼(硼(B B)、磷()、磷(P P)、铟()、铟(InIn)和锑()和锑(SbSb)等。其中硅是最)等。其中硅是最常用的一种半导体材料。常用的一种半导体材料。半导体有以下特点:半导体有以下特点:半导体的导电能力介于导体与
3、绝缘体之间。半导体的导电能力介于导体与绝缘体之间。半导体受外界光和热的刺激时,其导电能力将会有显著变化。半导体受外界光和热的刺激时,其导电能力将会有显著变化。在纯净半导体中,加入微量的杂质,其导电能力会急剧增强。在纯净半导体中,加入微量的杂质,其导电能力会急剧增强。第2页/共69页第三页,共69页。半导体的共价键结构半导体的共价键结构半导体的共价键结构半导体的共价键结构(jigu)(jigu)硅和锗的原子结构简化硅和锗的原子结构简化(jinhu)模型及晶体结构模型及晶体结构 第3页/共69页第四页,共69页。本征半导体、空穴及其导电本征半导体、空穴及其导电本征半导体、空穴及其导电本征半导体、空
4、穴及其导电(d(d odin)odin)作用作用作用作用本征半导体本征半导体完全纯净的、结构完整的半导体晶体。完全纯净的、结构完整的半导体晶体。载流子载流子可以可以(ky)(ky)自由移动的带电粒子。自由移动的带电粒子。电导率电导率与材料单位体积中所含载流子数有关,与材料单位体积中所含载流子数有关,载流子浓度越高,电导率越高。载流子浓度越高,电导率越高。本征激发:本征激发:当当T=0K和无外界激发时,半导体中没有和无外界激发时,半导体中没有(mi yu)载流子,不导载流子,不导电。当温度升高或受到光的照射时,价电子能量增高,有的价电电。当温度升高或受到光的照射时,价电子能量增高,有的价电子可以
5、挣脱原子核的束缚,而参与导电,成为自由电子。子可以挣脱原子核的束缚,而参与导电,成为自由电子。第4页/共69页第五页,共69页。本征半导体、空穴本征半导体、空穴本征半导体、空穴本征半导体、空穴(kn(kn xu)xu)及其导电作用及其导电作用及其导电作用及其导电作用自由电子产生自由电子产生(chnshng)的同时,在其原来的共价的同时,在其原来的共价键中就出现了一个空位,这个空位称为空穴。键中就出现了一个空位,这个空位称为空穴。+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4自由电子自由电子(z yu din z)因热激发而出现的自由电子和空穴是同时成对出现的,称为因热激发而出现的自由电子和空
6、穴是同时成对出现的,称为电子空穴对电子空穴对。本征激发动画1-1空穴空穴第5页/共69页第六页,共69页。杂质杂质杂质杂质(zzh)(zzh)半导体半导体半导体半导体在本征半导体中掺入某些微量元素作为杂质,可使半导体的导电性发生在本征半导体中掺入某些微量元素作为杂质,可使半导体的导电性发生显著变化显著变化(binhu)(binhu)。掺入的杂质主要是三价或五价元素。掺入杂质的。掺入的杂质主要是三价或五价元素。掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。本征半导体称为杂质半导体。N N型半导体型半导体掺入五价杂质元素(如磷)的半导体。掺入五价杂质元素(如磷)的半导体。P P型半导体型半导体掺入三价杂质元
7、素(如硼)的半导体。掺入三价杂质元素(如硼)的半导体。第6页/共69页第七页,共69页。杂质杂质杂质杂质(zzh)(zzh)半导体半导体半导体半导体N N型半导体(施主杂质型半导体(施主杂质(zzh)(zzh))多数载流子多数载流子自由电子自由电子 少数载流子少数载流子空穴空穴+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4多余电子多余电子(dinz),成为自由电子成为自由电子(dinz)+5自由电子自由电子+5在本征半导体中掺入五价的元素在本征半导体中掺入五价的元素(磷、砷、锑磷、砷、锑 )第7页/共69页第八页,共69页。杂质杂质杂质杂质(zzh)(zzh)半导体半导体半导体半导体P P型
8、半导体(受主杂质)型半导体(受主杂质)多数多数(dush)(dush)载流子载流子空穴空穴 少数载流子少数载流子自由电子自由电子+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4+3在本征半导体中掺入三价的元素在本征半导体中掺入三价的元素(yun s)(硼)(硼)+3空穴空穴空穴空穴第8页/共69页第九页,共69页。两种导电机理两种导电机理两种导电机理两种导电机理(j l(j l)扩散和漂移扩散和漂移扩散和漂移扩散和漂移 空穴和自由电子在硅晶体中的移动有两种过程空穴和自由电子在硅晶体中的移动有两种过程扩散和漂移,扩散和漂移,相应地可形成两种电流相应地可形成两种电流扩散电流和漂移电流。扩散电流和漂
9、移电流。一、扩散一、扩散 扩散是与不规则的热运动联系在一起的,在一块处于热平衡状扩散是与不规则的热运动联系在一起的,在一块处于热平衡状态的半导体中,均匀分布的自由电子和空穴不会因随机运动而态的半导体中,均匀分布的自由电子和空穴不会因随机运动而造成电荷的定向流动。但是,如果由于某种原因(例如不均匀造成电荷的定向流动。但是,如果由于某种原因(例如不均匀光照)使硅片一个部分中的自由电子浓度高于其它光照)使硅片一个部分中的自由电子浓度高于其它(qt)(qt)的部分,的部分,那么电子将会从高浓度区域向低浓度区域扩散。这一扩散过程那么电子将会从高浓度区域向低浓度区域扩散。这一扩散过程引起电荷的定向流动,相
10、应产生的电流称为扩散电流引起电荷的定向流动,相应产生的电流称为扩散电流(Diffusion CurrentDiffusion Current)。)。第9页/共69页第十页,共69页。两种导电机理两种导电机理两种导电机理两种导电机理扩散扩散扩散扩散(kusn)(kusn)和漂移和漂移和漂移和漂移例如图2-1-6(a)所示的硅棒,其中(qzhng)图1-1-6(b)所示为空穴沿x轴方向的浓度分布。第10页/共69页第十一页,共69页。两种导电机理两种导电机理两种导电机理两种导电机理扩散扩散扩散扩散(kusn)(kusn)和漂移和漂移和漂移和漂移n n这样一个浓度分布将导致沿这样一个浓度分布将导致沿
11、x x轴方向的空穴扩散电流,由于在任何一点轴方向的空穴扩散电流,由于在任何一点的电流值与浓度曲线的斜率(或称为浓度梯度)成比例关系的电流值与浓度曲线的斜率(或称为浓度梯度)成比例关系(gun x)(gun x),则:则:n n Jp Jp-qDp-qDpn nJpJp为扩散电流密度(即沿为扩散电流密度(即沿x x轴方向每单位面积中的电流),单位为轴方向每单位面积中的电流),单位为 ;q q为电子的电荷量为电子的电荷量1.610-19C;1.610-19C;n n Dp Dp为比例常数为比例常数,称为空穴扩散系数。由于斜率称为空穴扩散系数。由于斜率 是负的,则在是负的,则在x x方向方向将得到一
12、个正电流。将得到一个正电流。第11页/共69页第十二页,共69页。两种导电机理两种导电机理两种导电机理两种导电机理扩散扩散扩散扩散(kusn)(kusn)和漂移和漂移和漂移和漂移n n类似地,在由电子浓度梯度(斜率)产生类似地,在由电子浓度梯度(斜率)产生(ch(ch nshng)nshng)电子扩散的情况下,同样可以得到电子的电子扩散的情况下,同样可以得到电子的扩散电流密度。扩散电流密度。n n Jn JnqDn qDn n n 这里这里DnDn为电子的扩散系数。为电子的扩散系数。n n对于在硅材料中扩散的空穴和电子,常温下扩散系数对于在硅材料中扩散的空穴和电子,常温下扩散系数的典型值分别为
13、:的典型值分别为:第12页/共69页第十三页,共69页。两种导电两种导电两种导电两种导电(d(d odin)odin)机理机理机理机理扩散和漂移扩散和漂移扩散和漂移扩散和漂移二、漂移二、漂移(pio y)(pio y):在外加电场作用下,载流在外加电场作用下,载流子将在热骚动状态下产子将在热骚动状态下产生定向的运动,其中自生定向的运动,其中自由电子产生逆电场方向由电子产生逆电场方向的运动,空穴产生顺电的运动,空穴产生顺电场方向的运动。场方向的运动。载流子的这种定向运动称载流子的这种定向运动称为漂移为漂移(pio y)(pio y)运动。运动。由它产生的电流称为漂由它产生的电流称为漂移移(pio
14、 y)(pio y)电流。而且电流。而且两种载流子所产生的漂两种载流子所产生的漂移移(pio y)(pio y)电流均是顺电流均是顺电场方向的。电场方向的。第13页/共69页第十四页,共69页。两种导电两种导电两种导电两种导电(d(d odin)odin)机理机理机理机理扩散和漂移扩散和漂移扩散和漂移扩散和漂移n n设设Jp-driftJp-drift和和Jn-driftJn-drift分别为空穴和自由电子的漂移电分别为空穴和自由电子的漂移电流密度(即通过单位截面积的电流),则它们流密度(即通过单位截面积的电流),则它们(t(t men)men)可分别表示为可分别表示为n n总的漂移电流密度为
15、:总的漂移电流密度为:n n 式中,式中,p p和和n n分别为空穴和自由电子的浓度,分别为空穴和自由电子的浓度,q q为为电子电荷量电子电荷量=1.610-19C=1.610-19C(库仑)(库仑),E,E为外加电场强度,为外加电场强度,单位为单位为V/cmV/cm。P P 和和NN分别为空穴和电子的迁移率。分别为空穴和电子的迁移率。第14页/共69页第十五页,共69页。两种导电机理两种导电机理两种导电机理两种导电机理扩散扩散扩散扩散(kusn)(kusn)和漂移和漂移和漂移和漂移n n室温时硅材料中,n n用电阻率表示(biosh)为:n n用电导率表示(biosh)为:n n例1-1-4
16、:自己看。第15页/共69页第十六页,共69页。结的形成结的形成结的形成结的形成(xngchng)(xngchng)内电场(din chng)促使少子漂移内电场阻止内电场阻止(zzh)(zzh)多子多子扩散扩散 因浓度差因浓度差多子的扩散运动多子的扩散运动由由杂质离子杂质离子形成空间电荷区形成空间电荷区 空间电荷区形成内电场空间电荷区形成内电场 第16页/共69页第十七页,共69页。结的形成结的形成结的形成结的形成(xngchng)(xngchng)n n达到动态平衡时,由内建电场产生的电位差称为内建电位差,用达到动态平衡时,由内建电场产生的电位差称为内建电位差,用VBVB表示,也可称为势表示
17、,也可称为势垒电压垒电压Vo Vo。n n式中:式中:(室温(室温T=300KT=300K,即,即2727时)时)n nNaNa和和NdNd分别为分别为P P型和型和NN型半导体的掺杂浓度。型半导体的掺杂浓度。n n在室温时,硅的在室温时,硅的 ;锗的;锗的 。n n在温度升高在温度升高(shn(shn o)o)时,由于时,由于 ni ni的增大影响比的增大影响比VTVT大,因而大,因而VBVB将相应地减小。通常温将相应地减小。通常温度每升高度每升高(shn(shn o)1o)1,VBVB大约减小大约减小2.5mV2.5mV。第17页/共69页第十八页,共69页。结的单向结的单向结的单向结的单
18、向(dn xin(dn xin)导电性导电性导电性导电性PNPN结加正向电压结加正向电压(diny)(diny)时的导电时的导电情况情况 PNPN结的伏安结的伏安(f n)(f n)特性特性 1.PN1.PN结加正向电压时结加正向电压时 低电阻低电阻 很大的正向扩散电流很大的正向扩散电流外加的正向电压,方向与外加的正向电压,方向与PNPN结内电场方向相反,削弱结内电场方向相反,削弱了内电场。于是了内电场。于是,内电场对内电场对多子扩散运动的阻碍减弱,多子扩散运动的阻碍减弱,扩散电流加大。扩散电流远扩散电流加大。扩散电流远大于漂移电流,可忽略漂移大于漂移电流,可忽略漂移电流的影响,电流的影响,P
19、NPN结呈现低阻结呈现低阻性性。P P区的电位高于区的电位高于N N区的区的电位,称为加正向电压,电位,称为加正向电压,简称简称正偏正偏。第18页/共69页第十九页,共69页。结的单向结的单向结的单向结的单向(dn xin(dn xin)导电性导电性导电性导电性1.PN结加正向电压时在正常工作(gngzu)范围内,PN结上正偏电压略有增大(如0.1V),I 便会显著增大,因此,正向电流I 是随外加正偏电压V 升高而急速上升的。这样,正向偏置的PN结表现为一个很小的电阻。第19页/共69页第二十页,共69页。结的单向结的单向结的单向结的单向(dn xin(dn xin)导电性导电性导电性导电性P
20、NPN结加反向电压结加反向电压(diny)(diny)时的导电情况时的导电情况 PNPN结的伏安结的伏安(f n)(f n)特性特性 2.PN2.PN结加反向电压时结加反向电压时 高电阻高电阻 很小的反向漂移电流很小的反向漂移电流 外加反向电压外加反向电压,方向与方向与PNPN结结内电场方向相同,加强了内电内电场方向相同,加强了内电场。内电场对多子扩散运动的场。内电场对多子扩散运动的阻碍增强,扩散电流大大减小。阻碍增强,扩散电流大大减小。此时此时PNPN结区的少子在内电场结区的少子在内电场的作用下形成的漂移电流大的作用下形成的漂移电流大于扩散电流,可忽略扩散电于扩散电流,可忽略扩散电流,流,P
21、NPN结呈现高阻性结呈现高阻性。P P区的区的电位低于电位低于N N区的电位,称为加区的电位,称为加反向电压,简称反向电压,简称反偏反偏。在一定的温度条件下,由本征在一定的温度条件下,由本征激发决定的少子浓度是一定的,故激发决定的少子浓度是一定的,故少子形成的漂移电流是恒定的,基少子形成的漂移电流是恒定的,基本上与外加反向电压的大小无关,本上与外加反向电压的大小无关,这个电流也称为这个电流也称为反向饱和电流反向饱和电流。第20页/共69页第二十一页,共69页。结的单向结的单向结的单向结的单向(dn xin(dn xin)导电性导电性导电性导电性2.PN结加反向电压时 反向饱和电流用IS 表示。
22、室温时,硅PN结的 ,锗PN结的 。由于IS 很小,PN结在反向偏置时,呈现出一个很大的电阻,此时(c sh)可认为基本不导电的。可见,PN结的正向电阻很小,反向电阻很大(基本不导电),这就是PN结的单向导电性。第21页/共69页第二十二页,共69页。结的单向结的单向结的单向结的单向(dn xin(dn xin)导电性导电性导电性导电性其中其中(qzhng)IS(qzhng)IS 反向饱和电反向饱和电流流 VT VT 热电压热电压 且在常温下(且在常温下(T=300KT=300K)VT=kT/q VT=kT/q =0.026V =0.026V =26mV =26mV PNPN结的伏安特性结的伏
23、安特性(txng)(txng)曲线曲线 3.PN3.PN结结V V-I I 特性表达式特性表达式第22页/共69页第二十三页,共69页。结的反向结的反向结的反向结的反向(f(f n xinn xin)击穿击穿击穿击穿当当PNPN结的反向电压结的反向电压(diny)(diny)增加到一增加到一定数值时,反向电流突然快速增加,定数值时,反向电流突然快速增加,此现象称为此现象称为PNPN结的反向击穿。结的反向击穿。热击穿热击穿不可逆不可逆 雪崩雪崩(xubng)击穿击穿齐纳击穿齐纳击穿 电击穿电击穿可逆可逆第23页/共69页第二十四页,共69页。结的反向结的反向结的反向结的反向(f(f n xinn
24、 xin)击穿击穿击穿击穿 PN结的击穿有雪崩击穿和齐纳击穿两种 1、雪崩和齐纳击穿雪崩击穿发生在低掺杂的PN结中,由碰撞电离(dinl)而形成,击穿电压一般较高,且随掺杂浓度降低而增大。齐纳击穿发生在高掺杂的PN结中,强电场直接把价电子从共价键中拉出来形成。且击穿电压随掺杂浓度增加而减小。第24页/共69页第二十五页,共69页。结的反向结的反向结的反向结的反向(f(f n xinn xin)击穿击穿击穿击穿n n当 时的击穿一般属于雪崩击穿,且具有正温度系数;当 时的击穿一般属于齐纳击穿,且具有负温度系数。n n当 左右(zuyu)时,两种击穿现象都有可能发生。相应击穿电压的温度系数将趋于零
25、。第25页/共69页第二十六页,共69页。结的反向结的反向结的反向结的反向(f(f n xinn xin)击穿击穿击穿击穿2 2、稳压二极管、稳压二极管PNPN结一旦击穿结一旦击穿(j chun)(j chun)后,尽管通过它的反向电流急剧增大,但后,尽管通过它的反向电流急剧增大,但PNPN结两端的电压几乎维持不变。同时,只要限制它的反向电流,结两端的电压几乎维持不变。同时,只要限制它的反向电流,使使PNPN结的发热不超过它的耗散功率而引起热击穿结的发热不超过它的耗散功率而引起热击穿(j chun)(j chun),PNPN结就不会被烧坏。结就不会被烧坏。当加在当加在PNPN结两端的反向电压降
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